JPH05181120A - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents
液晶表示装置およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH05181120A JPH05181120A JP34692191A JP34692191A JPH05181120A JP H05181120 A JPH05181120 A JP H05181120A JP 34692191 A JP34692191 A JP 34692191A JP 34692191 A JP34692191 A JP 34692191A JP H05181120 A JPH05181120 A JP H05181120A
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- JP
- Japan
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- liquid crystal
- display device
- crystal display
- substrates
- substrate
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 樹脂基板の反りや収縮による表示不良を防ぐ
ことができる液晶表示装置およびその製造方法を提供す
る。 【構成】 合成樹脂製かつ透光性を有する一対の基板
４，１６は、成形後、アニーリング処理が施されてお
り、その表面にＩＴＯ透明導電膜６，１４あるいは配向
膜８，１２を形成する場合の加熱処理においても反りや
収縮を生じることがない。これによって、液晶表示装置
１の表示品位を向上させることができる。
ことができる液晶表示装置およびその製造方法を提供す
る。 【構成】 合成樹脂製かつ透光性を有する一対の基板
４，１６は、成形後、アニーリング処理が施されてお
り、その表面にＩＴＯ透明導電膜６，１４あるいは配向
膜８，１２を形成する場合の加熱処理においても反りや
収縮を生じることがない。これによって、液晶表示装置
１の表示品位を向上させることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、樹脂基板（以下、プラ
スチック基板と略称する）を有する液晶表示装置および
その製造方法に関し、たとえば軽量薄型化の要求の強い
電子手帳、パーソナルコンピュータ、ワードプロセッサ
などのディスプレイとして好適に使用される液晶表示装
置およびその製造方法に関する。
スチック基板と略称する）を有する液晶表示装置および
その製造方法に関し、たとえば軽量薄型化の要求の強い
電子手帳、パーソナルコンピュータ、ワードプロセッサ
などのディスプレイとして好適に使用される液晶表示装
置およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、透光性を有する熱硬化性の合
成樹脂たとえばアリルディグリコールカーボネート（以
下、ＡＤＣと略称する）樹脂等を、成形型で成形し、液
晶表示装置のプラスチック基板として使用している。こ
のプラスチック基板上には、必要な透明電極や配向膜が
形成される。
成樹脂たとえばアリルディグリコールカーボネート（以
下、ＡＤＣと略称する）樹脂等を、成形型で成形し、液
晶表示装置のプラスチック基板として使用している。こ
のプラスチック基板上には、必要な透明電極や配向膜が
形成される。
【０００３】たとえば、プラスチック基板表面に、傷防
止のためのハードコート層あるいは透明電極のアンダー
コート層としてＳｉＯ2膜がスパッタ法等によって形成
され、この上に透明電極としてのインジウム酸化錫（以
下、ＩＴＯと略称する）から成る透明導電膜がスパッタ
蒸着して形成される。さらにＩＴＯのエッチング処理が
行われ、電極パターン加工された後、焼成によってトッ
プコート層および配向膜が形成される。
止のためのハードコート層あるいは透明電極のアンダー
コート層としてＳｉＯ2膜がスパッタ法等によって形成
され、この上に透明電極としてのインジウム酸化錫（以
下、ＩＴＯと略称する）から成る透明導電膜がスパッタ
蒸着して形成される。さらにＩＴＯのエッチング処理が
行われ、電極パターン加工された後、焼成によってトッ
プコート層および配向膜が形成される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前述したようなプラス
チック基板上に形成されるハードコート層やＩＴＯある
いは配向膜などは、スパッタ法などの高温加熱処理によ
って形成される。このため、プラスチック基板は、この
ような高温加熱処理時に反りや収縮を起こすおそれがあ
り、また、平坦性を失うとともに、一対の基板の対向す
る表面にそれぞれ形成されるセグメント電極とコモン電
極との位置ズレ等を生じさせ、表示不良を生じさせると
いった問題がある。
チック基板上に形成されるハードコート層やＩＴＯある
いは配向膜などは、スパッタ法などの高温加熱処理によ
って形成される。このため、プラスチック基板は、この
ような高温加熱処理時に反りや収縮を起こすおそれがあ
り、また、平坦性を失うとともに、一対の基板の対向す
る表面にそれぞれ形成されるセグメント電極とコモン電
極との位置ズレ等を生じさせ、表示不良を生じさせると
いった問題がある。
【０００５】したがって本発明の目的は、樹脂基板の反
りや収縮による表示不良を防ぐことができる液晶表示装
置およびその製造方法を提供することである。
りや収縮による表示不良を防ぐことができる液晶表示装
置およびその製造方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、合成樹脂製か
つ透光性を有する一対の基板と、前記一対の基板の対向
する表面にそれぞれ形成される電極および／または配向
膜とを有し、一対の基板の間に液晶層を介在して構成さ
れる液晶表示装置において、前記基板の電極および／ま
たは配向膜が形成されている基板は、加熱によって熱変
形が生じないように予めアニーリング処理されているこ
とを特徴とする液晶表示装置である。
つ透光性を有する一対の基板と、前記一対の基板の対向
する表面にそれぞれ形成される電極および／または配向
膜とを有し、一対の基板の間に液晶層を介在して構成さ
れる液晶表示装置において、前記基板の電極および／ま
たは配向膜が形成されている基板は、加熱によって熱変
形が生じないように予めアニーリング処理されているこ
とを特徴とする液晶表示装置である。
【０００７】また本発明は、合成樹脂製かつ透光性を有
する基板を加熱によって熱変形しないようにアニーリン
グ処理を施しておき、その後、前記基板上に電極および
／または配向膜を形成することを特徴とする液晶表示装
置の製造方法である。
する基板を加熱によって熱変形しないようにアニーリン
グ処理を施しておき、その後、前記基板上に電極および
／または配向膜を形成することを特徴とする液晶表示装
置の製造方法である。
【０００８】
【作用】本発明に従えば、合成樹脂製かつ透光性を有す
る一対の基板と、前記一対の基板の対向する表面にそれ
ぞれ形成される電極および／または配向膜とを有し、一
対の基板の間に液晶層を介在して構成される液晶表示装
置において、前記電極および／または配向膜が形成され
る基板を予めアニーリング処理しておき、加熱によって
熱変形が生じないようにしておく。これによって、形成
される液晶表示装置は、基板の反りや収縮などに起因す
る表示不良がない。
る一対の基板と、前記一対の基板の対向する表面にそれ
ぞれ形成される電極および／または配向膜とを有し、一
対の基板の間に液晶層を介在して構成される液晶表示装
置において、前記電極および／または配向膜が形成され
る基板を予めアニーリング処理しておき、加熱によって
熱変形が生じないようにしておく。これによって、形成
される液晶表示装置は、基板の反りや収縮などに起因す
る表示不良がない。
【０００９】また本発明に従えば、合成樹脂製かつ透光
性を有する基板を加熱によって熱変形しないようにアニ
ーリング処理を施しておき、その後、この基板上に電極
および／または配向膜を形成する。これによって、電極
や配向膜形成時のように、高温加熱処理を行うようなと
きでも、基板は既にアニーリング処理による熱履歴を持
っているため、熱変形を起こすことはない。
性を有する基板を加熱によって熱変形しないようにアニ
ーリング処理を施しておき、その後、この基板上に電極
および／または配向膜を形成する。これによって、電極
や配向膜形成時のように、高温加熱処理を行うようなと
きでも、基板は既にアニーリング処理による熱履歴を持
っているため、熱変形を起こすことはない。
【００１０】
【実施例】図１は、本発明の一実施例である液晶表示装
置１の構成を示す断面図である。図１を参照して、基板
４，１６は、たとえばアリルディグリコールカーボネー
ト（ＡＤＣ）樹脂、メタクリル（ＰＭＭＡ）樹脂、ポリ
カーボネート（ＰＣ）樹脂、アクリル系樹脂、あるいは
エポキシ系樹脂などの熱硬化性の合成樹脂を成形型によ
って成形したプラスチック基板である。基板サイズは、
０．４ｍｍｔ×３００×３００ｍｍであり、充分な平坦
性かつ透光性を有している。
置１の構成を示す断面図である。図１を参照して、基板
４，１６は、たとえばアリルディグリコールカーボネー
ト（ＡＤＣ）樹脂、メタクリル（ＰＭＭＡ）樹脂、ポリ
カーボネート（ＰＣ）樹脂、アクリル系樹脂、あるいは
エポキシ系樹脂などの熱硬化性の合成樹脂を成形型によ
って成形したプラスチック基板である。基板サイズは、
０．４ｍｍｔ×３００×３００ｍｍであり、充分な平坦
性かつ透光性を有している。
【００１１】基板４，１６の背向および対向する表面に
は、アクリル系、ウレタン系、メラミン系、オルガノシ
リコーン系あるいは無機酸化物系の溶液をディップ法に
よってあるいはＳｉＯx等の無機酸化物をスパッタ法に
よって形成したハードコート層３，５；１５，１７が形
成されている。このハードコート層３，５；１５，１７
は、外部からの水分や酸素などによる影響を防止するた
めのものである。
は、アクリル系、ウレタン系、メラミン系、オルガノシ
リコーン系あるいは無機酸化物系の溶液をディップ法に
よってあるいはＳｉＯx等の無機酸化物をスパッタ法に
よって形成したハードコート層３，５；１５，１７が形
成されている。このハードコート層３，５；１５，１７
は、外部からの水分や酸素などによる影響を防止するた
めのものである。
【００１２】このうち、ハードコート層５，１５の表面
には、それぞれＩＴＯ透明導電膜６，１４がスパッタ法
によって形成されており、さらにその上にトップコート
層７，１３およびポリイミドをスピンコートした配向膜
８，１２が形成されている。次に液晶材料１０が注入さ
れ、シール部材９，１１によって封止され、さらに外方
側表面に偏光板２，１８が積層されて液晶表示装置１が
形成されている。
には、それぞれＩＴＯ透明導電膜６，１４がスパッタ法
によって形成されており、さらにその上にトップコート
層７，１３およびポリイミドをスピンコートした配向膜
８，１２が形成されている。次に液晶材料１０が注入さ
れ、シール部材９，１１によって封止され、さらに外方
側表面に偏光板２，１８が積層されて液晶表示装置１が
形成されている。
【００１３】図２は、前述した液晶表示装置１の製造工
程を示す斜視図である。前述のように、成形型によっ成
形された基板４，１６（図２（１）参照）は、図２
（２）に示すように、成形後、加熱装置２１によってア
ニーリング処理が行われる。このときの処理条件として
は、ハードコート層５，１５などを形成するといった液
晶表示装置１の製造工程中における最大処理温度および
最大処理時間によって決定される。具体的には、ＩＴＯ
透明導電膜６，１４および配向膜８，１２を形成する時
の処理条件は、たとえばそれぞれ１７０℃で１時間であ
ることから、これらの処理条件を上回る条件であるたと
えば１８０℃で２時間のアニーリング処理を行う。
程を示す斜視図である。前述のように、成形型によっ成
形された基板４，１６（図２（１）参照）は、図２
（２）に示すように、成形後、加熱装置２１によってア
ニーリング処理が行われる。このときの処理条件として
は、ハードコート層５，１５などを形成するといった液
晶表示装置１の製造工程中における最大処理温度および
最大処理時間によって決定される。具体的には、ＩＴＯ
透明導電膜６，１４および配向膜８，１２を形成する時
の処理条件は、たとえばそれぞれ１７０℃で１時間であ
ることから、これらの処理条件を上回る条件であるたと
えば１８０℃で２時間のアニーリング処理を行う。
【００１４】その後、図２（３），（４），（５）に示
すように、ハードコート層５，１５、ＩＴＯ透明導電膜
６，１４、配向膜８，１２をそれぞれ形成する。このよ
うにして形成された基板４，１６は、表１に示すように
アニーリング処理を行わない基板に対し、基板の反りや
収縮において顕著な効果が得られた。
すように、ハードコート層５，１５、ＩＴＯ透明導電膜
６，１４、配向膜８，１２をそれぞれ形成する。このよ
うにして形成された基板４，１６は、表１に示すように
アニーリング処理を行わない基板に対し、基板の反りや
収縮において顕著な効果が得られた。
【００１５】
【表１】
【００１６】以上のように本実施例によれば、液晶表示
装置１の基板４，１６は、加熱によって熱変形が生じな
いように予めアニーリング処理が施されているため、そ
の後にＩＴＯ透明導電膜６，１４あるいは配向膜８，１
２などを形成しても、基板の反りや収縮などの発生を防
ぐことができる。このため、基板４，１６の寸法精度が
向上し、この基板４，１６を用いて形成した液晶表示装
置１の表示品位を向上させることができる。
装置１の基板４，１６は、加熱によって熱変形が生じな
いように予めアニーリング処理が施されているため、そ
の後にＩＴＯ透明導電膜６，１４あるいは配向膜８，１
２などを形成しても、基板の反りや収縮などの発生を防
ぐことができる。このため、基板４，１６の寸法精度が
向上し、この基板４，１６を用いて形成した液晶表示装
置１の表示品位を向上させることができる。
【００１７】また、基板４，１６の表面に、ハードコー
ト層３，５；１５，１７を形成しているので、液晶表示
装置１の製造工程中における水分等の外界雰囲気の影響
によって基板が反りや収縮を起こすことを防止できる。
ト層３，５；１５，１７を形成しているので、液晶表示
装置１の製造工程中における水分等の外界雰囲気の影響
によって基板が反りや収縮を起こすことを防止できる。
【００１８】なお本実施例では、ハードコート層５，１
５にガスバリヤ機能を持たせているけれども、別個にガ
スバリヤ層を設ける場合には、ハードコート層５，１５
と基板４，１６との間に設けてガスバリヤ機能を向上さ
せることができる。
５にガスバリヤ機能を持たせているけれども、別個にガ
スバリヤ層を設ける場合には、ハードコート層５，１５
と基板４，１６との間に設けてガスバリヤ機能を向上さ
せることができる。
【００１９】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、液晶表示
装置を構成する合成樹脂製かつ透光性を有する基板は、
電極あるいは配向膜の形成に先立ってアニーリング処理
が施されているため、液晶表示装置の製造工程中におけ
る高温加熱処理時においても変形を生じることがない。
これによって、基板の反りや収縮などによって表示不良
を起こすことがなくなり、液晶表示装置の表示品位を向
上させることができる。
装置を構成する合成樹脂製かつ透光性を有する基板は、
電極あるいは配向膜の形成に先立ってアニーリング処理
が施されているため、液晶表示装置の製造工程中におけ
る高温加熱処理時においても変形を生じることがない。
これによって、基板の反りや収縮などによって表示不良
を起こすことがなくなり、液晶表示装置の表示品位を向
上させることができる。
【００２０】また本発明によれば、合成樹脂製かつ透光
性を有する基板はアニーリング処理されているため、そ
の後の電極や配向膜形成時においても、熱変形を起こす
ことがない。これによって、基板の反りや収縮などによ
って表示不良を起こすことがなくなり、液晶表示装置の
表示品位を向上させることができる。
性を有する基板はアニーリング処理されているため、そ
の後の電極や配向膜形成時においても、熱変形を起こす
ことがない。これによって、基板の反りや収縮などによ
って表示不良を起こすことがなくなり、液晶表示装置の
表示品位を向上させることができる。
【図１】本発明の一実施例である液晶表示装置１の構成
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図２】液晶表示装置１の製造工程を示す斜視図であ
る。
る。
１ 液晶表示装置 ４，１６ 基板 ６，１４ ＩＴＯ透明導電膜 ８，１２ 配向膜 ２１ 加熱装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩本 誠 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内 (72)発明者 磯畑 恭平 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ャープ株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 合成樹脂製かつ透光性を有する一対の基
板と、前記一対の基板の対向する表面にそれぞれ形成さ
れる電極および／または配向膜とを有し、一対の基板の
間に液晶層を介在して構成される液晶表示装置におい
て、 前記基板の電極および／または配向膜が形成されている
基板は、加熱によって熱変形が生じないように予めアニ
ーリング処理されていることを特徴とする液晶表示装
置。 - 【請求項２】 合成樹脂製かつ透光性を有する基板を加
熱によって熱変形しないようにアニーリング処理を施し
ておき、 その後、前記基板上に電極および／または配向膜を形成
することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34692191A JPH05181120A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34692191A JPH05181120A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05181120A true JPH05181120A (ja) | 1993-07-23 |
Family
ID=18386718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34692191A Pending JPH05181120A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05181120A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6383578B2 (en) | 1996-05-23 | 2002-05-07 | 3M Innovative Properties Co. | Polyimide angularity enhancement layer |
| JP2006099016A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-13 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 表示装置用カラーフィルタ、カラーフィルタ部材および表示装置用カラーフィルタの製造方法 |
| JP2010282213A (ja) * | 2010-07-16 | 2010-12-16 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 表示装置用カラーフィルタの製造方法 |
| US7898159B2 (en) | 1999-07-20 | 2011-03-01 | Sri International | Compliant electroactive polymer transducers for sonic applications |
-
1991
- 1991-12-27 JP JP34692191A patent/JPH05181120A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6383578B2 (en) | 1996-05-23 | 2002-05-07 | 3M Innovative Properties Co. | Polyimide angularity enhancement layer |
| US7898159B2 (en) | 1999-07-20 | 2011-03-01 | Sri International | Compliant electroactive polymer transducers for sonic applications |
| JP2006099016A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-13 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 表示装置用カラーフィルタ、カラーフィルタ部材および表示装置用カラーフィルタの製造方法 |
| JP4623559B2 (ja) * | 2004-09-30 | 2011-02-02 | 住友ベークライト株式会社 | 表示装置用カラーフィルタ、カラーフィルタ部材および表示装置用カラーフィルタの製造方法 |
| JP2010282213A (ja) * | 2010-07-16 | 2010-12-16 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 表示装置用カラーフィルタの製造方法 |
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