JPS61221368A - アモルフアスシリコン膜の量産式成膜方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はアモルファスシリコン膜を用いた光！部材、例
えば電子写真感光体などに係シ、そのアモルファスシリ
コン膜の量産式成膜方法に関するものである。

〔発明の背景〕

近時、アモルファスシリコン（以下、ａ　−３ｉ−ト略
す）から成る光電部材が電子写真感光体、太陽電池及び
光センサなどに利用され、優れた光電適性と共に効率よ
くアモルファス薄膜が生成されるなどの利点を有し、非
常に注目されている。例えば電子写真感光体の分野では
ａ　−ＳＬを光キヤリア発生層とし、その成膜にグロー
放電分解装置を用いることにより高品貿な感光体を得る
に至っている。

ａ　−８１［光体を得る方法は種々提案されており、第
１図はその典型的な装置の概略図である。

即ち、１はａ−８ｉ生成用ガス導入口、２は余剰度広ガ
ス排気口、３は放電用電極板、４はドラム状基体で他方
の放電用電極を兼ねておシ、モーター（図示せず）によ
り回転可能になっている。５は基体表面を１５０〜３５
０℃の温度範囲に設定するためのヒーターである。そし
て反応室６の内部にシランガス（５ｉＨ４）を導入して
グロー放電を行なうと基体４の表面にａ　−Ｓｉ膜が形
成される。

かかる装置によれば、グロー放電分解に伴って放電用Ｋ
Ｗ板３０表面や他の反応室内部部材の汚染という問題が
ある。その汚染の実体は成膜するシリコンに対して過剰
の水素を含有したもので（ＳｉＨｚ）ｎの鎖状構造を主
体とする重合状態のシリコンと考えられ、この粉体の粒
径はサブミクロン程度である（以下、この汚染物を粉体
と呼ぶ）。

従って、ａ　−Ｓｉ感光体を一度製造すると反応室６の
内部には粉体が肉眼ではっきりと確認できる程度に付着
してお夛、成膜終了後感光体ドラムを取シ出す作業など
によって粉体が舞い上がってしまう。そこで、続けて同
じ装置を用いて次のａ−８ｉ悪感光を製造しようとする
とグロー放電の雰囲気が粉体に汚染されているため、ａ
−ＳＬの膜質が悪くなって電子写真特性を劣化せしめて
いる。

またａ−３ｉ悪感光を一度製造する毎に反応室６の粉体
除去作業を行えば当然負担が大きくなって製造効率が悪
くなり、量産性を低下させる原因となる。

更にまた、量産型グロー放電分解装置として放電用！極
板に対向して幾つものドラム状基体を並べて順次送り出
していくインフィン方式も提案されているが、この方式
においても上述した粉体汚染の問題は解決されておらず
、未だ満足すべく量産向の成膜方法が提案されていない
。

〔発明の目的〕

本発明は上述に鑑み完成されたものであり、その目的は
ａ−８ｉ、の成膜における反応室内部の粉体汚染を解決
して高品質なａ−８ｉ膜を製作し、製造歩留シを向上さ
せたａ　−Ｓｉ膜の量産式成膜方法を提供することにあ
る。

本発明の他の目的は連続した製造ラインによって効率的
にａ　−８１膜を製作し、生産性及び作業能率性を向上
させたａ−Ｓｉ膜の量産式成膜方法を提供することにあ
る。

〔発明の要旨〕

本発明によれば、　ａ−Ｓｉ、膜の被着面を有する複数
個の基体にグロー放電分解法によって同時にａ　−Ｓｉ
膜を形成する方法において、下記（Ａｌ乃至（１）工程
から成ることを特徴とするａ　−Ｓｉ膜の量産式成膜方
法が提案される。即ち、（Ａ）乃至（１）工程とは次の
通りである。

（Ａ）複数個の洗浄用容器にそれぞれ１個の基体を挿入
し、洗浄用容器に洗浄用媒体を導入して所定の操作によ
り基体表面に洗浄し、次いで該洗浄用媒体を除去する工
程。

（Ｂｌ複数個の第１輸送用容器を同時に移動できる第１
移動手段であって、該第１移動手段により複数個の洗浄
用容器にそれぞれ第１バルブを介して第１輸送用容器を
接続する工程。

（Ｃ１洗浄用容器内の基体を第１輸送用容器へ移動して
第１バルブを閉じ、次いで第１移動手段により複数個の
第１輸送用容器をそれぞれ洗浄用容器から分離し、それ
ぞれ第２バルブを介して反応容器に接続する工程。

（Ｄ）第２パ〃グを開いて第１輸送用容器内の基体を反
応容器へ移動して第２バルブを閉じ、次いで第１移動手
段により複数個の第１輸送用容器をそれぞれの反応容器
から分離する工程。

（Ｅｌａ−３Ｌ生成用ガスを反応容器に導入すると同時
に基体を所定の温度範囲に設定して基体表面にａ　−Ｓ
ｉ膜を形成する工程。

（Ｃ）複数個の第２輸送用容器を同時に移動できる第２
移動手段であって、該第２移動手段により複数個の反応
容器にそれぞれ第３バルブを介して第２輸送用容器を接
続する工程。

ρ）反応容器内の基体を第２輸送用容器へ移動して第３
パ〜プを閉じ、次いで第２移動手段により複数個の第２
輸送用容器をそれぞれの反応容器から分離し、然る後そ
れぞれ冷却用容器に第４バルブを介して接続する工程。

（Ｈ１第４バルブを開いて第２輸送用容器内の基体を冷
却用容器に移動して第４バルブを閉じ、次いで第２移動
手段により複数個の第２輸送用容器をそれぞれの反応容
器から分離する工程。

ＣＩ＋冷却用容器にて基体を冷却する工程。

〔実施例〕

以下、本発明を感光体ドラム状基体にａ−Ｓｉ膜を成膜
するための方法を例にとって詳細に説明する。

第２図はａ−８ｉ膜を成膜する本発明の工程図であシ、
第３図は第２図に示した工程図に従って３個の基体を同
時に移動するようにしたａ−Ｓｉ。

成膜用グロー放電分解装置の正面概略図であり、第４図
はその平面概略図である。また第５図は３個の基体を同
時に搬送するロボットを示した概略図である。

本発明の成膜方法は第２図により説明すると次の通りに
なる。

〔（Ａｌ工程〕・・・・−複数個の洗浄用容器７の内部
にそれぞれ１個のドラム状基体８を設置して、洗浄用容
器７に基体８の表面を洗浄する働きを有する洗浄用媒体
を入れ所定の操作により基体８の表面を洗浄し、次いで
該洗浄用媒体を除去する。

例えば洗浄用容器７自体を基本的に第１図に示したよう
なグロー放電分解装置にして、該洗浄用媒体にガスを用
いるとグロー放電に伴って基体８の表面に洗浄すると同
時に加熱する働きを有する。

即ち、この−例を述べると次の様になる。

（Ａ−１）・・・・−洗浄用容器７に基体８を設置する
。

（Ａ−２）・・・−・洗浄用容器７の内部を減圧にして
真空雰囲気にし、次いで洗浄用ガス、例えばアルゴン、
ネオン、ヘリウム、窒素などの不活性ガスの少なくと吃
一種から成るガスを導入しグロー放電を発生させる。こ
れにより、イオンボンバードを起こさせ、基体８の表面
を洗浄すると同時に基体８の温度を上昇させることがで
き、このイオンボンバードの時間を長くすることによっ
て基体８を所定の温度にまで上！＋させることができる
、次いで洗浄用容器７の内部に真空引きして、加熱され
た基体８の表面に付着した水分やガスなどの不純物を除
去し、次の工程へ搬送できる。本発明者等が実験により
確かめたところ、この搬送前において基体８の表面温度
が１５０乃至３５０℃に設定されているとよいことが判
った。

この温度範囲に設定するため、もしくはこの温度範囲内
で更に基体温度を設定するために第１図のヒーター５の
如き加熱源を付設することは何ら差支えない。

尚、この（Ａ−２）において９は基体８の内側に設置し
たヒーターを示す。

〔（Ｂ）工程〕・・・・・・複数個の第１輸送用容器１
ｏを同時に移動できる第１移動手段（後述する第３図及
び第４図の第１０ボツト１９に相当する）を用いて、第
１輸送用容器１０をそれぞれに対応して第１バルブ１１
　を介して洗浄用容Ｗ７に接続する工程であって、この
第１／＜〃プ１１は洗浄用容器７及び第１輸送用容器１
０のそれぞれに付設されたゲートバルブ７ａ、１０ａか
ら成り、ゲートバルブ７ａ、１０ａが接続して一体化し
たものを指す。　本発明によれば後述する（Ｅ）工程に
おいて反応容器１２から分離した第１輸送用容器１０は
真空脱気されているため、この第１輸送用容器１０を（
Ｂｌ工程に用いることができる。

また、第１バルブ１１を開くことにより大気圧下で洗浄
用容器７及び第１輸送用容器１０を一体化することがで
きる。即ち、第１パ〃プ１１の内部の間隙、つまシゲー
トバルプ７ａとゲートバルブ１０ａの間隙を真空脱気し
て第１バルブ１１を開くと洗浄用容器７と第１輸送用容
器１０が気密一体化され、内部の真空度が向上する。

［（Ｑ工程〕・・・・・・本工程は次の（Ｃ−１）、（
Ｃ−２）、（Ｃ−３）の工程から成っている。

（Ｃ−１’）−・・−洗浄用容器７内の基体８を第１輸
送用容器１０へ移動して第１バ〃ブ１１を閉じる。

尚、この基体８の移動は第１０ボツト１９に付設された
ロボットハンド２３により行なうが、これの詳細は後述
する。

（０−２）・・・・−第１０ボツト１９により３個の第
１輸送用容器１０をそれぞれの洗浄用容器７から分離す
る。

（Ｃ−３）・・・・・・第１０ボツト１９により３個の
第１輸送用容器１０をそれぞれに対応する３個の反応容
器１２に第２バルブ１３を介して接続する。

この第２バルブ１３は第１輸送用容器１０及び反応容器
１２のそれぞれに付設されたゲートバルブ１０ａ　、　
１２ａが接続して一体化し九ものを指す・この接続は第
２バルブ１３の内部の間隙、即ちゲートバルブ１０ａと
ゲートバルブ１２ａの間隙を真空脱気しておくと大気圧
下で密着し、第１輸送用容器１０及び反応容器１２を気
密一体化することができる。

〔（］工程〕・・・−・第２パ〜プ１３を開いて第１輸
送用容器１０内の基体８を反応容器１２へ移動して第２
バルブ１３を閉じる。尚、この基体８の移動も第１０ボ
ツト１９に付設したロボットハンド２３により行なうが
、　これの詳細は後述する。

また、反応容器１２の内部は真空脱気したものを使用す
るのが望ましい。

次いで、第１０ボツト１９により３個の第１輸送用容器
１０をそれぞれに対応する反応容器１２から分離する。

かかる第１輸送用容器１０は第１０ボツト１９により再
び（Ｂ）工程に供される。

〔（目玉径〕・・・・・・本工程においては基本的に第
１図に示したような周知のグロー放電分解装置を用いて
ａ　−Ｓｉ膜を成膜するため、第１図の区応室６を反応
容器１２として、基体８を反応室６に設置した場合を例
にして説明する。

即ち、容量結合型グロー放電分解法によればａ　−Ｓｉ
−生成用ガス導入口１よりａ　−ＳＬ生成用ガスを反応
室６の内部に導入して０．１〜２．０　’ｒｏｒｒ程度
の真空状態に基体８の表面温度が１５０乃至３５０℃に
、放電用電極板３に印加されている高周波電力が０．０
５乃至１，５　Ｋｗでその周波数を１乃至５０　ＭＨｚ
に設定し、基体８の局面と放電用電極板３の間でグロー
放電が発生し、ａ−８’ｈ生成用ガスが分解されること
になる。このａ−８ｉ。

生成用ガスは主成分としてシリコン元素含有ガスにＨ２
などをキャリアーガスにしたもので、必要により酸素や
窒素、他にリンやホウ素などの伝導型決定元素を含むガ
スを混入している。

尚、９゛は基体加熱用のヒーターを示す。

かくして基体８０表面にａ　−Ｓ１膜が形成された感光
体ドラム１４が得られる。そして、本工程においては他
の種々のグロー放電分解装置や真空蒸着、スパッタリン
グなどのａ　−ＳＬ生成薄膜形成装置を用いても何ら差
支えない。

〔ロ工程〕・・・−・複数個の第２輸送用容器１５を同
時に移動できる第２移動手段（後述する第３図及び第４
図のロボット２０に相当する）を用いて、第２輸送用容
器１５を第３バルブ１６を介してそれぞれ反応容器１２
に接続する工程であって、この第３バルブ１６は反応容
器認及び第２輸送用容器１５のそれぞれに付設されたゲ
ートバルブ１２ａ、１５ａから成膜、ゲートバルブ１２
ａ、１５ａが接続して一体化したものを指す。本発明に
よれば後述するＣＧ＋工程において冷却用容器１７から
分離した第２輸送用容器１５は真空脱気されているため
、この第２輸送用容器１５を（Ｆｌ工程に用いることが
できる。また第３バルブ１６を開くことにより大気圧下
で反応容器１２及び第２輸送用容器１５を一体化するこ
とができる。即ち、第３パμブ１６の内部の間隙、つま
υゲートバルブ１２ａとゲートバルブ１５ａの間隙を真
空脱気して第３バルブ１６を開くと反応容器１２と第２
輸送用容器１５が気密一体化され、内部の真空度は向上
する。

〔（Ｇ）工程〕・・・・一本工程は次の（Ｇ−１）、　
（Ｇ−２）、（Ｇ−３）、（Ｇ−４）の工程から成って
いる。

（Ｇ−１）・・・・−反応容器１２の内部にある感光体
１４を第２輸送用容器１５へ移動して第３バμプ１６を
閉じる。　この感光体ドラム１４の移動も第２０ボツト
２０に付設したロボットハンド２３により行をうが、詳
細は後述する。

（Ｇ−２）・−一・第２０ボツト２０により第２輸送用
容器１５を反応容器１２から分離する。

（ｅ−ａ）・・・・・・第２０ボツト２０により３個の
第２輸送用容器１５をそれぞれに対応する３個の冷却用
容器１７に第４バ〃プ１８を介して接続する。この第４
バルブ１８は第２輸送用容器１５及び冷却用容器１７の
それぞれに付設されたゲートバルブ１５ａ、１７ａが接
続して一体化したものを指す。この接続は第４バルブ１
８の内部の間隙、即ちゲートバルブ１５ａとゲートバル
ブ１７ａの間隙を真空脱気しておくと大気圧下で密着し
、第２輸送用容器１５及び冷却用容器１７を気密一体化
することができる。

（Ｇ−４）・−・・・本工程においてはａ−８ｉ−成膜
後の粉体により汚染された反応容器１２を洗浄する工程
である。この洗浄の一例としてＣＦ４ガスを用いること
ができる。かかるガスを反応容器１２に充填すると粉体
がガス分解し、次いで残余ガスのすべてを脱気すれば再
び使用することができる。

〔（団工程〕・・・・・・第４バルブ１８を開いて第２
輸送川容器１５内の感光体ドラム１４を冷却用容器１７
へ移動して第４バルブ１８を閉じる。尚、この感光体ド
ラム１４の移動も第２０ボツト２０に付設したロボット
ハンド２３により行なうが、これの詳細は後述する。ま
た、冷却用容Ｈ１７の内部は真空脱気したものを使用す
るのが望ましい。

次いで、第２０ボツト２０により３個の第２輸送用容器
１５をそれぞれに対応する冷却用容器１７から分離する
。かかる第２輸送用容器１５は第２０ボツト２０により
再び（Ｆｌ工程に供される。

〔（１）工程〕・・・・・・感光体ドラム１４を冷却す
る工程であシ、例えば冷却用容器１７に冷却用媒体を充
填して冷却に供する。この冷却用媒体は固体、液体、気
体のいずれでもよい。例えばアルゴン、ネオン、ヘリウ
ム、窒素などの不活性ガスの少なくとも一種から成るガ
スを用いることができる。（ニー１）はかかるガスを充
填して冷却する工程であり、（ニー２）は冷却終了後の
感光体ドラム１４の取シ出し工程であり、（ニー３）は
ゲートバルブ１７ａを閉じて冷却用容器１７の内部を真
空脱気する工程であυ、これにより再び（Ｇ）工程に供
することができる。

かかる冷却方法によれば、急冷を防止するために自然設
置して一旦、１００℃前後にまで設定し、次いで冷却用
容器に前記ガスを導入するのが望ましい。又、必ずしも
冷却用媒体を用いて感光体ドラム１４を冷却せねばなら
ぬというものでもなく、勿論自然放置して常温にまで下
げてもよい。

第３図及び第４図は第２図に示した本発明の成膜方法を
具体化する量産装置であって、第１移動手段である第１
０ボツト１９及び第２移動手段である第２０ボツト２０
の動作が示しである。尚、第３図及び第４図のなかで第
２図に相当する箇所には同一符号が付しである。

第１０ボツト１９及び第２０ボツト２０は第５図にて後
述する通υ、それぞれ３個の第１輸送用容器１０及び３
個の第２輸送用容器１５を移動できる働きを有するもの
として図示しているが、その数量については何ら限定さ
れるものでもなく、種々変更ができる。

本装置によれば、領域Ｘ１領域Ｙ１領域Ｚから構成され
ておシ、それぞれ順次前処理工程、ａ−８１成膜工程及
び冷却工程を指している。即ち、領域Ｘは（〜工程乃至
ｔＣ）工程の（Ｃ−ｔ）に相当し、所定数の洗浄用容器
７が配設しており、領域Ｙは（Ｃ１工程の（Ｃ−３）乃
至（Ｇｌ工程の（Ｇ−１）及び０）工程の（（）−４）
に相当し、図によれば２４個の反応容器１２が配置して
いる。又、領域ＺはｔＧ）工程の（Ｇ−３）乃至Ｉ１１
工程に相当し、これも所定数の冷却用容器１７が配設し
である。

また本装置によれば、第１０ボツト１９と第２０ボツト
２０は第４図に示す通シ、Ｓ方向とＴ方向に自由自在に
移動することができる。従って、第１０ボツト１９はＸ
領域にある所定の３個の洗浄用容器７から洗浄済みの３
個の基体８を取り出してＹ領域にある所定の３個の反応
容器１２に搬送したならば、続けてＸ領域にある他の３
個の洗浄用容器７から３個の基体８を取シ出してＹ領域
にある他の３個の反応容器１２に搬送することができる
。同様に第２０ボツト２０を用いてＹ領域にある所定の
３個の反応容器１２から３個の感光体ドラム１４を取り
出してＺ領域にある所定の３個の冷却用容器１７に搬送
した後、順次その作業工程をＹ領域と２領域のそれぞれ
の他の容器について繰υ返すことができる。

かくして２個のロボットを用いてａ−８ｉｇ光体を時間
コントロールしながら順次連続して製造することができ
る。

更にまた本装置に用いている第１０ボツト１９及び第２
０ボツト２０の具体的な作動状態は第５図に示す通シで
ある。

２１はエアーシリンダーであってシリンダー２２内のロ
ボットハンド２３を上下に移動させて基体８や感光体ド
ラム１４を保持することができる。

第５図において、例え・ばＩＤ）工程に用いられる第１
０ボツト１９によれば、第１輸送用容器１０の上部に付
設しであるゲートバルブ１０ｂと第１０ボツト１９に付
設しである伸縮性の密着用エアーリング付ベローズ２４
とが接続するようになっている。そして、ゲートパ〃グ
１０１）とベローズ２４のｒｌ！ＪＶｉは脱気管２５に
よって真空脱気され、　シリンダー２２に第１輸送用容
器１０が気密一体化するようになる。また、ロボットハ
ンド２３はエアーシリンダー２１の作動によって第１輸
送用容器１０を通って反応容器１２の内部へも到達する
ようになっておシ、基体８を適宜上下に移動することが
できる。

同様に第２０ボツト２０も感光体ドラム１４を第２輸送
用容器１５に移して搬送することができるようになって
いる。

〔発明の作用効果〕

上述した通りの成膜方法によれば次の幾つかの利点を有
する。

■　（Ｇ）工程の（Ｇ−１）において、内部が粉体汚染
された反応容器１２から感光体ドラム１４を取り出すに
際して、ロボットによる精度の高い移出ができるため、
粉体が舞い上がることもなく、続けて感光体ドラムを製
造しても何ら粉体汚染が発生しない。これにより高品質
にて製造歩留シを向上させることができる。

■　基体を洗浄用容器の内部に設置して真空脱気すると
、それ以後完成した感光体ドラムを取シ出すまで、一度
も大気に晒されることもなく、−貫して真空雰囲気で各
工程が行なわれている。

従って、真空脱気に要する時間がなく、稼動効率が向上
する。

■　（〜工程で加熱された基体が（Ｅ）工程に至るまで
真空雰囲気にあるため、基体温度の低下がほとんどなく
、安定した温度維持ができ、基体加熱に伴うエネルギー
コストを向上させることができる。

■　従来の量産式装置によれば、１個の反応室に複数個
の基体が設置しであるため、基体１個当シの反応室内部
容積が大きくなり、これにより装置やガスのコストが大
きくなり、又真空引き等のエネルギーコストも大きくな
る。

■　ロボットを使うため集中管理ができる。即ち、作業
者や監督者の人数を著しく減らしながらもオートマチッ
クに作動することができ、品質ムラのない安定した維持
管理ができる。

かくして本発明によれば、高品質なａ　−Ｓｉ、感光体
を歩留りを上げて効率的に製造でき、且つ生産性及び作
業効率にも優れた量産式成膜方法が提供される。

尚、本発明は上記の実施例に限定されるものでなく、本
発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良
等は何ら差支えない。

【図面の簡単な説明】

第１図ｄアモルファスシリコン感光体ドヲムを得るため
のグロー放電分解装置、 第２図はアモルファスシリコン膜を成膜する本発明の工
程図、第３図は本発明に係る工程に従かった量産式アモ
ルファスシリコン成膜用グロー放電分解装置の正面概略
図、第４図はその平面概略図、また第５図は本発明の方
法に用いられるロボットの概略図である。 ７・・・洗浄用容器、８・−基体、１〇−第１輸送用容
器、１２・・・反応容器、１４・−感光体ドラム、１５
・・・第２輸送用容器、１７・・・冷却用容器、１９・
・・第１０ボツト、２０−１２０ボツト、　２３−・ロ
ボットハンド

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 アモルファスシリコン膜の被膜面を有する複数個の基体
   に気相成長法によつて同時にアモルファスシリコン膜を
   形成する方法において、下記（Ａ）乃至（Ｉ）工程から
   成ることを特徴とするアモルファスシリコン膜の量産式
   成膜方法： （Ａ）複数個の洗浄用容器にそれぞれ１個の基体を挿入
   し、洗浄用容器に洗浄用媒体を導入して所定の操作によ
   り基体表面を洗浄し、次いで該洗浄用媒体を除去する工
   程。 （Ｂ）複数個の第１輸送用容器を同時に移動できる第１
   移動手段であって、該第１移動手段により複数個の洗浄
   用容器にそれぞれ第１バルブを介して第１輸送用容器を
   接続する工程。 （Ｃ）洗浄用容器内の基体を第１輸送用容器へ移動して
   第１バルブを閉じ、次いで第１移動手段により複数個の
   第１輸送用容器をそれぞれ洗浄用容器から分離し、次い
   でそれぞれ第２バルブを介して反応容器に接続する工程
   。 （Ｄ）第２バルブを開いて第１輸送用容器内の基体を反
   応容器へ移動して第２バルブを閉じ、次いで第１移動手
   段により複数個の第１輸送用容器をそれぞれの反応容器
   から分離する工程。 （Ｅ）アモルファスシリコン生成用ガスを反応容器に導
   入すると同時に基体を所定の温度範囲に設定して基体表
   面にアモルファスシリコン膜を形成する工程。 （Ｆ）複数個の第２輸送用容器を同時に移動できる第２
   移動手段であつて、該第２移動手段により複数個の反応
   容器にそれぞれ第３バルブを介して第２輸送用容器を接
   続する工程。 （Ｇ）反応容器内の基体を第２輸送用容器へ移動して第
   ３バルブを閉じ、次いで第２移動手段により複数個の第
   ２輸送用容器をそれぞれの反応容器から分離し、然る後
   それぞれ冷却用容器に第４バルブを介して接続する工程
   。 （Ｈ）第４バルブを開いて第２輸送用容器内の基体を冷
   却用容器に移動して第４バルブを閉じ、次いで第２移動
   手段により複数個の第２輸送用容器をそれぞれの反応容
   器から分離する工程。 （Ｉ）冷却用容器にて基体を冷却する工程。