JPS61220410A - コンデンサ及びその製造方法 - Google Patents

コンデンサ及びその製造方法

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JPS61220410A
JPS61220410A JP61061949A JP6194986A JPS61220410A JP S61220410 A JPS61220410 A JP S61220410A JP 61061949 A JP61061949 A JP 61061949A JP 6194986 A JP6194986 A JP 6194986A JP S61220410 A JPS61220410 A JP S61220410A
Authority
JP
Japan
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capacitor
edges
edge
strip
metal
Prior art date
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Pending
Application number
JP61061949A
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English (en)
Inventor
ラインハルド、ベーン
フエルデイナント、ウトナー
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Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
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Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Publication of JPS61220410A publication Critical patent/JPS61220410A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/30Stacked capacitors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G4/00Fixed capacitors; Processes of their manufacture
    • H01G4/30Stacked capacitors
    • H01G4/304Stacked capacitors obtained from a another capacitor
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/43Electric condenser making
    • Y10T29/435Solid dielectric type

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、被膜として各一つの金属層を備えて交互に
積層された誘電体層の強化された積層体から成るコンデ
ンサに関する。
[従来の技術l] 特許出願公開第昭80−133718号公報により、被
膜として各一つの金属層を備えて交互に積層された誘電
体層の強化された積層体から成り、積層体の厚さの方向
にかつ積層体の一側面のほぼ中央を通る切り込みによっ
て二つの突出部が形成され、被膜が層ごとに交互にこの
突出部の端にまで達し、更に強化された積層体の中に突
出部の端により形成された二つの面が外部接触のために
用いられる金属層を備え、この金属層が相対する極の被
膜を相互に結合するコンデンサにおいて、a)誘電体層
がプラスチックフィルムから成り、b)被膜が弁作用金
属の再生可能な薄い層から成り、かつ誘電体層の各一つ
の面を積層体の長側面上では縁まで覆い、また突出部の
両端まで覆い。
更に場合によっては切り込みを備えた短側面と向かい合
った上側短側面の縁まで覆い、 C)突出部が誘電体層ごとに交互に金属の無い帯状絶縁
部を備え、切り込みの深さが残存帯状金属の幅より大き
いか、又は好ましくは帯状絶縁体の内縁に一致するか、
又はこの内縁を越えて積層体の中にまで達し、 d)前記面上の相対する極の被膜を相互に結合する金f
f層が金属溶射により作られる コンデンサが提案されている。
[発明が解決しようとする問題点l] この発明は前記コンデンサにおいて、金属溶射により形
成された金属層の付着と接触確実性とを改善し、かつ機
械的に安定で容易に製造可能であると共に製造の際に従
来の周知の手段をも適用できるようなコンデンサを提供
することを目的とする。
[問題点を解決するための手段1] この目的はこの発明に基づき前記コンデンサにおいて、 e)各一つ目の誘電体層の突出部の端が誘電性帯の製作
の際の波形切断縁により波頂と波底を有し、一方各二つ
目の誘電体層の突出部の端が平滑切断縁により画成され
、 f)二つ目の誘電体層の端の平滑切断縁が一つ目の誘電
体層の端の波頂と波底との間のほぼ中央に配置されるよ
うに、誘電体層が相互にある量だけ横にずらされており
、 g)積層体の上側短側面上では一つ目の誘電体層ばかり
でなく二つ目の誘電体層も平滑切断縁を備える ことにより達成される。
英国特許第811E183号明細書から1円筒巻を宥す
るコンデンサにおいて、金属層を備えた誘電体層の縁が
一側に波形切断縁をまた他側に平滑切断縁を備えること
が知られている。この円筒巻においてはこの発明におけ
ると同様に、確かにこの手段は端面に金属溶射によりか
ぶせられた金属層の付着強度を高めるために採用されて
いるけれども、円筒巻自体は十分な安定性を有するので
この手段は安定性のためには必要でなく、また製作に基
づく問題は生じない、なぜならばこの公知のコンデンサ
においては両端面上で波形切断縁と平滑切断縁とが交互
に並ぶからである。
すなわち特許出願公開茶間80−133718号公報に
記載のコンデンサにおいては、製造の際に横ずれをでき
るだけ小さく抑えるように、ドラム上に(輪上に)巻き
付けるべき金属層を備えた誘電体帯を横方向に非常に正
確に導かなければならないという問題が生じる。なぜな
らばそうしないとドラム上に巻き付けられ複数の母コン
デンサリングから成る原コンデンナは安定状態に維持で
きないからであり、そのために側面案内が必要となる。
更にコンデンサを形成する積層体もまた完成状態におい
て機械的に安定でなければならない、しかしながら個々
の誘電体層が積層体の上側短側面−Lで強固につなぎ合
わされていないので、また場合によっては全銹電体層の
突出部の縁が波形切断縁として形成されているので、こ
の安定性は損なわれる。
従って前記英国特許第811983号明細書により公知
の手段を前記の種類のコンデンサにおいてかつここで述
べた方法で適用することは、この明細書によっては推薦
されていない−。
「波形切断縁」の概念は本発明でも前記英国特許明細書
におけると同様に、あらゆる種類の一様でない縁境界に
対して用いられる。すなわち種々の振幅及び/又は種々
の周波数を有するsin関数の単純な波形切断、更に例
えば欧州特許出願公開第0011033号明細書に記載
及び図示されたようにまた既にドイツ連邦共和国特許第
24185138号明細書に図示されているように、任
意な方法で構成された縁境界に対して用いられる。
この発明の有利な実施態様においては、全ての又は少な
くとも6二つめの誘電体層上の被膜が積層体の上側短側
面上で帯状絶縁部として金属の無い帯状部を残し、この
短側面上にスクープ法により形成された金属層が設けら
れている。
その際誘電体層が積層体の前記短側面上で僅かな量だけ
相互にずらされているのが有利である。
なぜならばこれにより積層体の起こり得る相聞開離が更
に良好に防止されるからである。
[従来の技術2] 特許出願公開茶間80−133718号公報により、片
面が金属化されたプラスチックから成る帯が縁を波形切
断された誘電体層としてドラム上に原コンデンサとなる
ように積層され、原コンデンサが積層面に垂直に所望の
個々のコンデンサに分割され、その際場合によっては各
一つの母コンデンサを形成する成る数の誘電体層及び被
膜上に容量効果のない中間層が配置され、その上に再び
被1模を備えた容量効果のある誘電体層が次の母コンデ
ンサのために配置され、そしてこのようにして形成され
た原コンデンサに端面接触層が設けられ、その後中間層
の範囲でこの層に垂直な方向に分割されるようになって
いるコンデンサの製造方法において、その工程が a)金属化された帯がドラム上に巻き付けられ、これら
の帯が各一つの縁上に場合によっては連続した金属の無
い帯状部を有し、一方向かい合った縁の範囲においては
この縁と間隔を保って巻き付け方向に間欠的な無金属帯
状絶縁部を巻き付けの前又は巻き付けの際に形成され、
これらの帯状絶縁部がドラム上への巻き付けの際に巻き
付け軸に垂直な一平面上に存在し、かつ帯状絶縁部の終
端も始端も後に加工する切り込みの範囲にまで達するか
、又はこの範囲を僅かに越えるようにされ。
b)完成した母コンデンサにおいて上側帯の帯状絶縁部
の中心が下側帯の帯状絶縁部の間の中間空間の中央上に
対称に配置されるように、両帯がドラム上への巻き付け
の際に案内され、 C)原コンデンサ又は母コンデンサの巻き付け及び強化
後に、更にドラム上で少なくとも縁により形成された端
面が金属溶射により金属層を備え。
d)個々の母コンデンサに分割後に、巻き付け方向に垂
直に6二つの切断線の間の中央に切り込みが形成され、
この切り込みの幅と深さとにより両突出部が形成され、 e)場合によっては給電体の取り付け後に、帯状絶縁部
の中央を通る切断線に沿ってのこぎりにより個々のコン
デンサに切断され。
f)帽子形の給電体又は他の給電体が工程e)において
既に取り付けられていない場合には、これらの給電体を
取り付けることによりコンデンサを完成する ようになっているコンデンサの製造方法が提案されてい
る。
[発明が解決しようとする問題点2] この発明は、特に簡単な方法により良好に付着する金属
層を備えた安定したコンデンサが得られるように、前記
製造方法を改良することを目的とする。
[問題点を解決するための手段2] この目的はこの発明に基づき前記の種類の製造方法にお
いて、一つの縁上に平滑切断縁、向かい合った縁上に波
形切断縁を備えた一つ目の金属化されたプラスチック帯
と、一つの縁上にも向かい合った縁上にも平滑切断縁を
備えた二つ目の金属化されたプラスチック帯とが、下側
の帯の平滑切断縁が上側帯の縁上の波形切断縁の波頂と
波底との間に来ることが保証されるような量だけ、相互
に横にずらしてドラム上に巻き付けられることにより達
成される。
この製造方法は、平滑切断縁を備えた帯の縁により形成
され、完成されたコンデンサにおいて蹟層体の上側短側
面を形成する原コンデンサの端面上にも、金属層がスク
ープ法により形成されるのが有利である。
更にこのために巻き付けるべきプラスチック帯の縁も成
る量だけずらして導かれるのが有利である。
[従来の技術3] 更に特許出願公開茶間1ie−1337111号公報に
より、片面が金属化されたプラスチックから成る帯が縁
を波形切断された誘電体層としてドラム上に原コンデン
サとなるように積層され、原コンデンサが積層面に垂直
に所望の個々のコンデンサに分割され、その際場合によ
っては各一つの母コンデンサを形成する成る数の誘電体
層及び被膜上に容量効果のない中間層が配置され、その
上に再び被膜を備えた容量効果・のある誘電体層が次の
母コンデンサのために配置され、そしてこのようにして
形成された原コンデンサに端面接触層が設けられ、その
後中間層の範囲でこの層に垂直な方向に分割されるよう
になっているコンデンサの製造方法において、その工程
が a)金属化された帯がドラム上に巻き付けられ、これら
の帯がその両縁上に縁と間隔を置いて巻き付け方向に何
欠的な無金属の帯状絶縁部を巻き付けの前又は巻き付け
の際に設けられ、帯状絶縁部がドラム上への巻き付けの
際に巻き付け軸に垂直な一平面上に存在し、帯状絶縁部
の終端も始端も後に加工する切り込みの範囲にまで達す
るか、又はこの範囲を僅かに越えるようにされ、b)完
成した母コンデンサにおいて上側帯の帯状絶縁部の中心
が下側帯の帯状絶縁部の間の中間空間の中央上に対称に
配置されるように両帯がドラム上に巻き付ける際に導か
れ。
C)原コンデンサ又は母コンデンサの巻き付け及び強化
後に、更にドラム上で縁により形成される両端面上に金
属溶射により金属層がかぶせられ。
d)個々の母コンデンサに分割後に1巻き付け方向に垂
直に6二つの切断線の間の中央に両側面上に切り込みが
形成され、この切り込みの輻及び深さにより両突出部が
形成され、 e)場合によっては給電体の取り付け後に、帯状絶縁部
の中央を通る切断線に沿って及び縁に平行に母コンデン
サの中央に存在する切断線に沿って、のこぎりにより個
々のコンデンサに切断され、 f)帽子形の給電体又は他の給電体が既に工程e)の中
で取り付けられていないときには、これら給電体を取り
付けることによりコンデンサを完成する ようになっているコンデンサの製造方法が提案されてい
る。
[発明が解決しようとする問題点3] この発明は、上述の方法を改良し、簡単化することを目
的とする。
[問題点を解決するための手段3] この目的はこの発明に基づき、巻き付けるべき金属化さ
れたプラスチック帯の内、上側の帯がその一つの縁上に
平滑切断縁、向かい合った縁上に波形切断縁を有し、一
方下側の帯はこれとは逆に一つの縁上に波形切断縁、向
かい合った縁上に平滑切断縁を有することにより達成さ
れる。
各平滑切断縁が波形切断縁の波頂と波底との間の中央に
来るように、両帯がドラム上への巻き付けの際に相互に
成る量だけ横にずらして導かれるのが有利である。
この発明に基づく製造方法の別の実施態様においては1
巻き付けるべき金属化されたプラスチック帯の内、上側
の帯が両縁上に平滑切断縁を備え、下側の帯が両縁上に
波形切断縁を備えると共に、波頂から波頂へ測ってずら
し量の2倍だけ上側の帯より幅が広いようにされる。
[実施例] 第1図に示すコンデンサは被M2と3を備えた多数の誘
電体層4と5から成る強化された積層体lにより構成さ
れる。積層体lの厚さの方向。
すなわち誘電体層4と5に垂直な切り込み10によりこ
の誘電体層は突出部8と9を備え、これらの突出部の端
6と7は強化された積層体l上に面11と12を形成す
る。これらの面上には金属層13と14がかぶせられ、
これらの金属層は端6と7にまで達する被膜を相互に結
合する。誘電体層4上の被82は金属のない帯状絶縁部
15により金属層13とは結合されておらず、一方誘電
体層5上の被膜3は金属のない帯状絶縁部16により金
属層14には結合されていない、第3図に示すようにこ
のことは全積層体1にわたって交互に続く。
金属層13と14上には、例えばろう付け又は溶接によ
り給電!124と25が取り付けられている。
積層体lの長軸線26の方向における切り込み10の深
さ17は少なくとも残存帯状金属20と21を越える所
まで達するか(第3図)、又は帯状絶縁部15と16の
内側の縁40と41にまで達する。深さ17は帯状絶縁
部15と16の内縁40と41より突き出るのが有利で
ある。
絶縁体層4と5上の被1112と3は長側面27と28
にまで達し、また場合によっては短側面29にまで達す
る。被lI2と3の間の十分な絶縁を得るためには、ド
イツ連邦共和国特許第1784548号明細書、同第1
784549号明細書及び同第252Ei130号明細
書に記載の手段が用いられる。このことは切り込み10
により生じた面にも適用される。なぜならばそこでも高
められた絶縁が必要だからである。
この発明に基づくコンデンサは周知の方法においてその
完成前に欠陥の再生のために、後の使用電圧より高い電
圧が印加され、上記の切り込み面部分における不十分な
絶縁箇所も同様に完全に修復すなわち再生され、それに
より切り込み面の必要な絶縁が保証される。
第2図においては第1図に示す部分に相応する部分には
同じ符号が用いられている。第2図に示すコンデンサは
給電線24と25の代わりに切り込み10により生じた
突出部8と9により形成された両脚上にそれぞれ金属層
の形の給電体32又は帽子形の給電体33を備え、その
際帽子体は脚を部分的に囲んでいる。給電体のかかる両
実施例はコンデンサをチップとして組み込むために用い
られる。金属層の形の給電体32の場合にはコンデンサ
はプリント配線板の接触箇所上に立てて取り付けられて
そこにはんだ付けされ、一方帽子形の給電体33の場合
にはコンデンサはプリント配線板上に寝かせて組み込む
こともできる。
第3図に示すコンデンサにおいては、積層体1に属する
最初の三つの及び最後の誘電体層が引き離して示されて
いる。誘電体層4と5上の被膜2と3はここでも積層体
lの両長側面27と28にまで達し、またこれら被膜は
短側面29まで達することができるが、しかしながらこ
の実施例においては積層体lの上側短側面29に沿って
金属の無い帯状部30と31が示されている。
切り込み10により端6と7を備えた突出部8と9が形
成されている。誘電体層4上では金属被膜2は突出部9
の端7にまで達し、一方誘電体層5上では被113は突
出部8の端にまで達している。誘電体層4から誘電体層
5へと交互に突出部8又は9上には金属の無い帯状部1
5又は16が配置されているので、残存帯状金属20又
は21が残っている。切り込み10の深さ17は少なく
とも残存帯状金属20と21の幅18又は19を越える
べきであり、好ましくは深さ17は金属の無い帯状絶縁
部15又は16の内縁40又は41にまで達するか、又
はこれらの内縁より幾らか突出するのが有利である。換
言すれば切り込みの深さは残留帯状金属20の1@18
と金属の無い帯状絶縁部15の幅22を加えたものより
大きいか、又は残留帯状金属21の輻19と金属の無い
帯状絶縁部16の輻23を加えたものより大きい、切り
込み10の深さについては突出部8と9の端6と7によ
り形成された面11と12上に設けられた金属層13と
14の厚さにもまた注意すべきである。
誘電体層4の端6と7はそれぞれ波頂55と波底56と
から成る波形切断縁57を有する。これに対して誘電体
層5の突出部8と9の端6と7はそれぞれ平滑切断縁5
8を有する。突出部8と9の端6と7上での波形切断縁
を有する誘電体層4と平滑切断縁を有する誘電体層5と
の交互配置はこの発明の重要な構成部分であり、同様に
強化された積層体1の短側面29を構成する反対側の縁
上に全ての誘電体層4と5の平滑切断縁58が存在する
こともまた重要な構成要素である。
次にこの発明に基づくコンデンサのこの発明に基づく製
造方法を第4図ないし第8図により説明する。
第4図と第5図はドラム上(又は軸上)に−緒に巻き付
けられるように被膜として金属層を備えた二つのプラス
チック帯34と35を示す。
第4図は第5図に示す切断線IV−17による断面図で
ある。
被膜2は右縁38にまで達しかつ帯状絶縁部42を備え
ており、この帯状絶縁部は完成されたコンデンサにおい
ては被11ji2を縁38から分離しているので、被膜
は帯状絶縁部42の内側の縁40にまでしか達していな
い、同様のことが下側の帯35上の被膜3に対しても適
用され、この被膜は完成したコンデンサにおいて帯状絶
縁部43により内縁41にまでしか達していない。
帯34の縁38は波形切断縁57を備え、一方縁36は
平滑切断縁58を有している。
縁36と37上の平滑切断縁58は巻き付け工程中に帯
34と35の案内のために用いられる。
被膜3を備えた帯35はその縁39上に同様に平滑切断
縁58を備えている。平滑切断縁58が波頂55と波底
56の間のほぼ中央に来るように、巻き付け工程中は両
帯は相互にずらされている。
この横ずらし量52はこの要求を考慮し、実際には約0
.05mmないし0.2mmである。このずらし量は更
に波形切断縁57の波の振幅にも関係する。
縁36と37のそばには金属の無い帯状部30と31が
設けられ、のこぎり切断工程はこの端面では行われない
ので、この帯状部は後に完成されるコンデンサのこの端
面上で十分な絶縁を保証するために用いられる。積層体
の強化のために後に完成されるコンデンサにおいて、8
a層体lの短側面29を形成するこの端面上には金属層
60(第1図及び第2図)をかぶせることができる。
この端面上に金属層60を良好に固定するために、それ
でもなお金属層60と金属被膜2.3との間の電気的接
触が発生しないことを保証するあるi61だけ、縁34
と35も相互にずらすことが推奨される。しかしながら
その際同一極の被膜との電気的接触、従って常に被膜2
との接触又は常に被膜3との接触があっても邪魔にはな
らない。
更に第5図において後に加工される切り込みioが破線
で示されている。
第6図及び第7図はこの発明に基づくコンデンサの製造
方法の別の実施例を示す、その際第6図は第7図に示す
切断線■−■による断面図である。
この製造方法においては特許出願公開温間80−133
718号公報の特許請求の範囲第8項及び第9項に記載
のように、二つのプラスチック帯46と47が一緒に巻
き付けられる。
金属化層を備えたプラスチック帯46と47はそれぞれ
縁48又は50上に交互に各一つの平滑切断縁58を有
する。それぞれ向かい合った縁49又は51上には波形
切断縁57が設けられている。こうして線53に沿った
のこぎり切断により作られる完成されたコンデンサにお
いて、波形切断縁57と平滑切断縁58とが交互に並ぶ
ここでは被膜がその側縁ばかりでなく面でも波形切断縁
57及び平滑切断縁58に接触するように、#S4図に
ついて説明したのと同じ観点で横ずらし量52が選ばれ
ている。すなわち波頂55は端面の縁を幾分越えて突出
し、それ故にそこに良好な面付着による接触可能性を提
供し、一方波底56は面付着による接触のために下側の
帯の被膜の面範囲を解放している。
複数の母コンデンサリングから成る原コンデンサの製造
のために両帯をドラム上に@き付けた後に、原コンデン
サの端面には金属層が設けられ、そして個々の母コンデ
ンサリングに分割され、そして81コンデンサにおいて
は両側面から切り込み10が形成される。この過程の前
又は後に母コンデンサは切断線53と45に沿って適切
なのこぎりにより前記したように個々の積層体に分割さ
れ、この積層体は前記のように更に処理される。
両?1f46と47上の被膜は中央を越えて連続してい
ることができる。なぜならばのこぎり切断工程によって
そこでは場合により自己回復工程と共に十分な縁線縁が
得られるからである。
しかしながら切断線53が通る金属の無い帯状絶縁部を
中央に配置することもまた可能であるので、そのときに
は第1図ないし第3図に関連して説明したように、積層
体lの短側面29上に金属の無い帯状部30と31が生
じる。
この方法の別の変形実施例は第8図に示されており、こ
こでは後の被膜として金属層を備えたプラスチック帯6
2と63が一緒に巻き付けられるが、第6図及び第7図
に示した方法と反対に上側の帯62は両縁64と65上
に平滑切断縁58を備え、−劣下側の帯63は両縁上に
波形切断縁57を備えている。下側の帯63は波頂から
波頂へ測ってずらし量52の2倍だけ上側の帯62より
幅が広いので、完成されたコンデンサにおいては前に詳
細に説明した横ずらし量が保証される。
この方法に基づくコンデンサもまた第1図ないし第3図
において説明した構造を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は給電線を備えたこの発明に基づくコンデンサの
一実施例の斜視図、第2図はチップ構造のこの発明に基
づくコンデンサの別の実施例の正面図、第3図はこの発
明に基づくコンデンサの誘電体層の構成の一実施例を示
す分解配列図。 第4図は第5図に示す誘電体帯の切断線ff−IVによ
る断面図、第5図は第3図に示す誘電体帯の平面図、第
6図は第7図に示す誘電体帯の切断線Vl−VTによる
断面図、第7図は誘電体帯の別の実施例の平面図、第8
図は誘電体帯の更に別の実施例の断面図である。 l・・◆積層体、  2、3・・・被膜、 4゜5・・
・誘電体層、 6.7・・・端、 8,9・・・突出部
、  10・・・切り込み、 11゜12・曇・面、 
  13,14,60・・・金属層、  15,16,
30,31,42、43・拳・帯状絶縁部、  17・
・・深さ、  18.19・−・輻、  20.21・
・・残存帯状金属、24.25,32、33・・−給電
体、  27゜28・・Φ長側面、 29・・・上側短
側面、34.35,46,47,62、63・・・金属
化された帯、 36,37,38,39,48゜49.
50,51.64.65−−・縁、40.41・・・内
縁、  44・・・端面。 45.53・・・切断線、 52・Φ・成る量、55・
・φ波頂、  58−−・波底、  57−−拳波形切
断縁、  58・・・平滑切断縁、   61FIG 
4 FIG 5 FIG 6 FIG 7 FIG 8

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)被膜(2、3)として各一つの金属層を備えて交互
    に積層された誘電体層(4、5) の強化された積層体(1)から成り、積層体(1)の厚
    さの方向にかつ積層体の一側面のほぼ中央を通る切り込
    み(10)によって 二つの突出部(8、9)が形成され、被膜 (2、3)が層ごとに交互にこの突出部の端(6、7)
    にまで達し、更に強化された積層体(1)の中に突出部
    (8、9)の端(6、7)により形成された二つの面(
    11、 12)が外部接触のために用いられる金属層(13、1
    4)を備え、この金属層が相対する極の被膜(2、3)
    を相互に結合するコンデンサであって、 a)誘電体層(4、5)がプラスチックフィルムから成
    り、 b)被膜(2、3)が弁作用金属の再生可能な薄い層か
    ら成り、かつ誘電体層(4、 5)の各一つの面を積層体(1)の長側面 (27、28)の縁まで覆い、また突出部 (8、9)の両端まで覆い、更に場合によっては切り込
    み(10)を備えた短側面と向かい合った上側短側面(
    29)の縁まで覆い、c)突出部(8、9)が誘電体層
    (4、5)ごとに交互に金属の無い帯状絶縁部(15又
    は16)を備え、切り込み(10)の深さ (17)が残存帯状金属(20又は21)の幅(18又
    は19)より大きいか、又は好 ましくは帯状絶縁体(15、16)の内縁 (40、41)に一致するか、又はこの内縁(40、4
    1)を越えて積層体(1)の中にまで達し、 d)前記面(11、12)上の相対する極 の被膜(2、3)を相互に結合する金属層 (13、14)が金属溶射により作られる ものにおいて、 e)各一つ目の誘電体層(4)の突出部 (8、9)の端(6、7)が誘電性帯の製 作の際の波形切断縁(57)により波頂 (55)と波底(56)を有し、一方各二つ目の誘電体
    層(5)の突出部(8、9)の端(6、7)が平滑切断
    縁(58)により画成され、 f)二つ目の誘電体層(5)の端(6、7)の平滑切断
    縁(58)が一つ目の誘電体層 (4)の端(6、7)の波頂(55)と波底(56)と
    の間のほぼ中央に配置されるように、両誘電体層(4、
    5)が相互にある量 (52)だけ横にずらされており、 g)積層体(1)の上側短側面(29)上では一つ目の
    誘電体層(4)ばかりでなく二つ目の誘電体層(5)も
    平滑切断縁(58)を備える ことを特徴とするコンデサ。 2)全ての又は少なくとも各二つめの誘電体層(4、5
    )上の被膜(2、3)が積層体 (1)の上側短側面(29)上で帯状絶縁部(30、3
    1)として金属の無い帯状部を残し、この短側面(29
    )上にスクープ法により形成された金属層(60)が設
    けられていることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載のコンデンサ。 3)積層体(1)の短側面(29)上で誘電体層(4、
    5)が僅かな量(61)だけ相互にずらされていること
    を特徴とする特許請求の範囲第2項記載のコンデンサ。 4)片面が金属化されたプラスチックから成る帯が縁を
    波形切断された誘電体層としてドラム上に原コンデンサ
    となるように積層され、原コンデンサが積層面に垂直に
    所望の個々のコンデンサに分割され、その際場合によっ
    ては各一つの母コンデンサを形成する或る数の誘電体層
    及び被膜上に容量効果のない中間層が配置され、その上
    に再び被膜を備えた容量効果のある誘電体層が次の母コ
    ンデンサのために配置され、そしてこのようにして形成
    された原コンデンサに端面接触層が設けられ、その後中
    間層の範囲でこの層に垂直な方向に分割されるようにな
    っているコンデンサの製造方法であって、その工程が a)金属化された帯(34、35)がドラム上に巻き付
    けられ、これらの帯が各一つの縁(36、37)上に場
    合によっては連続した金属の無い帯状部(30、31)
    を有し、 一方向かい合った縁(38、39)の範囲においてはこ
    の縁と間隔を保って巻き付け方 向に間欠的な無金属帯状絶縁部(42又は 43)を巻き付けの前又は巻き付けの際に形成され、こ
    れらの帯状絶縁部(42、43)がドラム上への巻き付
    けの際に巻き付け軸に垂直な一平面上に存在し、かつ帯
    状絶縁部 (42、43)の終端も始端も後に加工する切り込み(
    10)の範囲にまで達するか、 又はこの範囲を僅かに越えるようにされ、 b)完成した母コンデンサにおいて上側帯 (34)の帯状絶縁部(42)の中心が下側帯(35)
    の帯状絶縁部(43)の間の中間空間の中央上に対称に
    配置されるように、両帯(34、35)がドラム上への
    巻き付けの際に案内され、 c)原コンデンサ又は母コンデンサの巻き付け及び強化
    後に、更にドラム上で少なくと も縁(38、39)により形成された端面 (44)が金属溶射により金属層を備え、 d)個々の母コンデンサに分割後に、巻き付け方向に垂
    直に各二つの切断線(45)の間の中央に切り込み(1
    0)が形成され、この切り込みの幅と深さ(17)とに
    より両突出部(8、9)が形成され、 e)場合によっては給電体(24、25、 32)の取り付け後に、帯状絶縁部(42、43)の中
    央を通る切断線(45)に沿ってのこぎりにより個々の
    コンデンサに切断さ れ、 f)帽子形の給電体(33)又は他の給電体(24、2
    5、32)が工程e)において既に取り付けられていな
    い場合には、これらの給電体を取り付けることによりコ
    ンデンサを完成する ようになっているコンデンサの製造方法に おいて、一つの縁(36)上に平滑切断縁 (58)、向かい合った縁(38)上に波形切断縁(5
    7)を備えた一つ目の金属化さ れたプラスチック帯(34)と、一つの縁 (37)上にも向かい合った縁(39)上にも平滑切断
    縁(58)を備えた二つ目の金属化されたプラスチック
    帯(35)とが、下 側の帯(35)の平滑切断縁(58)が上 側帯(34)の縁(38)上の波形切断縁 (57)の波頂(55)と波底(56)との間に来るこ
    とが保証されるような量(52)だけ、相互に横にずら
    してドラム上に巻き付けられることを特徴とするコンデ
    ンサの製造方法。 5)平滑切断縁(58)を備えた帯(34、35)の縁
    (36、37)により形成され、完成されたコンデンサ
    において積層体(1)の上側短側面(29)を形成する
    原コンデンサの端面上にも、金属層(60)がスクープ
    法により形成されることを特徴とする特許請求の範囲第
    4項記載の製造方法。 6)巻き付けるべきプラスチック帯(34、35)の縁
    (36、37)も或る量(61)だけずらして導かれる
    ことを特徴とする特許請求の範囲第4項又は第5項記載
    の製造方 法。 7)片面が金属化されたプラスチックから成る帯が縁を
    波形切断された誘電体層としてドラム上に原コンデンサ
    となるように積層され、原コンデンサが積層面に垂直に
    所望の個々のコンデンサに分割され、その際場合によっ
    ては各一つの母コンデンサを形成する或る数の誘電体層
    及び被膜上に容量効果のない中間層が配置され、その上
    に再び被膜を備えた容量効果のある誘電体層が次の母コ
    ンデンサのために配置され、そしてこのようにして形成
    された原コンデンサに端面接触層が設けられ、その後中
    間層の範囲でこの層に垂直な方向に分割されるようにな
    っているコンデンサの製造方法であって、その工程が a)金属化された帯(46、47)がドラム上に巻き付
    けられ、これらの帯がその両縁 (48、49、50、51)上に縁と間隔を置いて巻き
    付け方向に間欠的な無金属の帯 状絶縁部(42又は43)を巻き付けの前 又は巻き付けの際に設けられ、帯状絶縁部 (42、43)がドラム上への巻き付けの際に巻き付け
    軸に垂直な一平面上に存在し、帯状絶縁部(42、43
    )の終端も始端も後に加工する切り込み(10)の範囲
    にまで達するか、又はこの範囲を僅かに越えるようにさ
    れ、 b)完成した母コンデンサにおいて上側 帯(46)の帯状絶縁部の中心が下側帯 (47)の帯状絶縁部(43)の間の中間空間の中央上
    に対称に配置されるように、両帯(46、47)がドラ
    ム上への巻き付けの際に導かれ、 c)原コンデンサ又は母コンデンサの巻き付け及び強化
    後に、更にドラム上で縁(48、49、50、51)に
    より形成される両端面上に金属溶射により金属層がかぶ
    せられ、 d)個々の母コンデンサに分割後に、巻き付け方向に垂
    直に各二つの切断線(45)の間の中央に両側面上に切
    り込み(10)が形成され、この切り込みの幅及び深さ
    (17)により両突出部(8、9)が形成され、 e)場合によっては給電体(24、25、 32)の取り付け後に、帯状絶縁部(42、43)の中
    央を通る切断線(45)に沿っ て及び縁(48、49、50、51)に平 行に母コンデンサの中央に存在する切断線 (53)に沿って、のこぎりにより個々のコンデンサに
    切断され、 f)帽子形の給電体(33)又は他の給電体(24、2
    5、32)が既に工程e)の中で取り付けられていない
    ときには、これら給電体を取り付けることによりコンデ
    ンサを完成する ようになっているコンデンサの製造方法において、巻き
    付けるべき金属化されたプラス チック帯(46、47)の内、上側の帯 (46)がその一つの縁(48)上に平滑切断縁(58
    )、向かい合った縁(49)上に波形切断縁(57)を
    有し、一方下側の帯 (47)はこれとは逆に一つの縁(51)上に波形切断
    縁(57)をまた向かい合った縁(50)上に平滑切断
    縁(58)を有することを特徴とするコンデンサの製造
    方法。 8)各平滑切断縁(58)が波形切断縁 (57)の波頂(55)と波底(56)との間の中央に
    来るように、両帯(46、47)がドラム上への巻き付
    けの際に相互に或る量(52)だけ横にずらして導かれ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第7項記載の製造方
    法。 9)巻き付けるべき金属化されたプラスチック帯(62
    、63)の内、上側の帯(62)が両縁(64、65)
    上に平滑切断縁を備え、下側の帯(63)が両縁(66
    、67)上に波形切断縁(57)を備えると共に、波頂
    から波頂へ測ってずらし量(52)の2倍だけ上側の帯
    (62)より幅が広いことを特徴とする特許請求の範囲
    第7項又は第8項記載のコンデンサ。
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