JPS61218810A - Minute particle flow control apparatus - Google Patents

Minute particle flow control apparatus

Info

Publication number
JPS61218810A
JPS61218810A JP60059619A JP5961985A JPS61218810A JP S61218810 A JPS61218810 A JP S61218810A JP 60059619 A JP60059619 A JP 60059619A JP 5961985 A JP5961985 A JP 5961985A JP S61218810 A JPS61218810 A JP S61218810A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chamber
particles
flow
contraction
downstream
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60059619A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Ando
謙二 安藤
Yuji Chiba
千葉 裕司
Tatsuo Masaki
正木 辰雄
Masao Sugata
菅田 正夫
Kuniji Osabe
長部 国志
Osamu Kamiya
神谷 攻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP60059619A priority Critical patent/JPS61218810A/en
Priority to CA000504938A priority patent/CA1272662A/en
Priority to FR8604251A priority patent/FR2579487B1/en
Priority to FR8604250A priority patent/FR2579486B1/en
Priority to FR8604252A priority patent/FR2579488B1/en
Priority to GB8607606A priority patent/GB2175709B/en
Priority to GB08607605A priority patent/GB2175414A/en
Priority to GB08607604A priority patent/GB2174509A/en
Priority to DE19863610296 priority patent/DE3610296A1/en
Priority to DE19863610299 priority patent/DE3610299A1/en
Priority to DE19863610298 priority patent/DE3610298A1/en
Priority to DE19863610291 priority patent/DE3610291A1/en
Priority to DE19863610293 priority patent/DE3610293A1/en
Priority to DE19863610294 priority patent/DE3610294A1/en
Priority to GB8607602A priority patent/GB2175413B/en
Publication of JPS61218810A publication Critical patent/JPS61218810A/en
Priority to US07/052,148 priority patent/US4911805A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)

Abstract

PURPOSE:To supersonically transport minute particles in a spatially independent state by providing a passage with a shrinkage/expansion nozzle, homogenizing minute particle flow, and making the flow come into a beam. CONSTITUTION:A passage is provided with a shrinkage/expansion nozzle 1 in which a passage is gradually shrinked from an inlet 1a toward a throat 2 and gradually expanded therefrom toward an outlet 1b. A carrier gas in which minute particles are suspended and dispersed is supplied to an upstream chamber 3 and a downstream situated chamber 4 is exhausted by a vacuum pump 5. This construction enables the minute particles to come into a beam and a supersonic transport of the minute particles under a spatially independent state without an interference with the inner wall surface of the downstream situated chamber 4.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、微粒子の移送手段や吹き付は手段等として利
用される微粒子流の流れ制御装置に関するもので、例え
ば、微粒子による、成膜加工、複合素材の形成、ドープ
加工、または微粒子の新たな形成場等への応用が期待さ
れるものである。
Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] The present invention relates to a flow control device for a particulate flow that is used as a means for transporting or spraying particulates. It is expected to be applied to the formation of composite materials, doping processing, and new formation sites for fine particles.

本明細書において、微粒子とは、原子、分子、超微粒子
及び一般微粒子をいう。ここで超微粒子とは、例えば、
気相反応を利用した、ガス中蒸発法、プラズマ蒸発法、
気相化学反応法、更には液相反応を利用した、コロイド
学的な沈殿法、溶液噴霧熱分解法等によって得られる、
超微細な(一般には0.5 gm以下)粒子をいう、一
般微粒子とは、機械的粉砕や析出沈殿処理等の一般的手
法によって得られる微細粒子をいう。また、ビームとは
、流れ方向に断面積がほぼ一定の噴流のことをいい、そ
の断面形状は問わないものである。
In this specification, fine particles refer to atoms, molecules, ultrafine particles, and general fine particles. Here, ultrafine particles are, for example,
Evaporation method in gas, plasma evaporation method using gas phase reaction,
Obtained by gas phase chemical reaction method, colloidal precipitation method, solution spray pyrolysis method, etc. using liquid phase reaction,
General fine particles, which refer to ultrafine particles (generally 0.5 gm or less), refer to fine particles obtained by general methods such as mechanical pulverization and precipitation treatment. In addition, a beam refers to a jet having a substantially constant cross-sectional area in the flow direction, and its cross-sectional shape is not limited.

[従来の技術] 一般に微粒子は、キャリアガス中に分散浮遊されて、キ
ャリアガスの流れによって移送されている。
[Prior Art] Generally, fine particles are dispersed and suspended in a carrier gas and transported by the flow of the carrier gas.

従来、上記微粒子の移送に伴う微粒子の流れ制御は、上
流側と下流側の差圧によって、キャリアガスと共に流れ
る微粒子の全流路を、管材又は筐体で区画することによ
って行われているに過ぎない。従って、微粒子の流れは
、その強弱はあるものの必然的に、微粒子の流路を区画
する管材又は筐体内全体に分散した状態で生ずることに
なる。
Conventionally, the control of the flow of fine particles accompanying the transfer of fine particles has been carried out simply by dividing the entire flow path of the fine particles flowing together with the carrier gas with a pipe material or a casing based on the differential pressure between the upstream side and the downstream side. do not have. Therefore, although the flow of particles varies in strength and weakness, the flow of particles inevitably occurs in a dispersed state throughout the pipe material or casing that defines the flow path for particles.

また、微粒子を基体へ吹き付ける場合等においては、ノ
ズルを介してキャリアガスと共に微粒子を噴出させるこ
とが行われている。この微粒子の吹き付けに用いられて
いるノズルは、単なる平行管又は先細ノズルで、確かに
噴出直後の微粒子の噴流断面はノズル端目面の面積に応
じて絞られる。しかし、噴流はノズルの出口面で拡散さ
れるので、単に一時的に流路を絞っただけのものに過ぎ
ず、また噴流の速度が音速を越えることはない。
Furthermore, when spraying fine particles onto a substrate, the fine particles are jetted out together with a carrier gas through a nozzle. The nozzle used to spray the fine particles is a simple parallel tube or a tapered nozzle, and the jet cross section of the fine particles immediately after being ejected is certainly narrowed down according to the area of the nozzle end face. However, since the jet is diffused at the exit surface of the nozzle, the flow path is merely temporarily constricted, and the speed of the jet does not exceed the speed of sound.

[発明が解決しようとする問題点] ところで、微粒子の全流路を管材又は筺体で区画し、上
流側と下流側の差圧によって、この流路に沿ってキャリ
アガスと共に微粒子を移送するのでは、それほど高速の
移送速度は望み得ない、また、微粒子の波路を区画する
管材や筐体の壁面と微粒子の接触を、全移送区間に亘っ
て避は難い。
[Problems to be Solved by the Invention] By the way, it is not possible to divide the entire flow path of fine particles with a pipe material or a casing, and to transport the fine particles together with a carrier gas along this flow path using a differential pressure between the upstream side and the downstream side. However, it is not possible to expect such a high transfer speed, and it is difficult to avoid contact between the particles and the wall surface of the tube or casing that defines the wave path of the particles over the entire transfer section.

このため、特に活性を有する微粒子をその捕集位置まで
移動させる際に、経時的活性の消失や、管材や筺体の壁
面との接触による活性の消失を生みやすい問題がある。
For this reason, there is a problem in that when moving particularly active fine particles to their collection position, the activity tends to disappear over time or due to contact with the tube material or the wall surface of the casing.

また、管材や筐体で微粒子の全流路を区画したのでは、
流れのデッドスペースの発生等によって、移送微粒子の
捕集率が低下したり、キャリアガスの微粒子移送への利
用効率も低下する。
In addition, if the entire flow path of particles is divided by pipe material or housing,
Due to the generation of dead space in the flow, the collection rate of the transported particles decreases, and the efficiency of using the carrier gas for transporting the particles also decreases.

一方、従来の平行管や先細ノズルは、流過した噴流内の
微粒子の密度分布が犬Jい拡散流となる。従って、微粒
子を基体へ吹き付ける場合等において、均一な吹き付は
制御が行い難い問題がある。また、均一な吹き付は領域
の制御も困難である。
On the other hand, in conventional parallel tubes and tapered nozzles, the density distribution of fine particles in the jet stream that has passed through the jet stream becomes a diffusion flow. Therefore, when spraying fine particles onto a substrate, it is difficult to control uniform spraying. Furthermore, uniform spraying makes it difficult to control the area.

[問題点を解決するための手段] 上記問題点を解決するために講じられた手段を1本発明
の基本原理の説明図である第1図で説明すると、流路に
縮小拡大ノズルlを設けた微粒子流の流れ制御装置で、
微粒子の流れを均一化し、かつビーム化できるようにし
たことによって上記問題点を解決したものである。
[Means for Solving the Problems] One of the measures taken to solve the above problems is explained with reference to FIG. 1, which is an explanatory diagram of the basic principle of the present invention. With a flow control device for particulate flow,
The above problems are solved by making the flow of particles uniform and making it possible to form a beam.

本発明における縮小拡大ノズル1とは、流入口1aから
中間部に向って徐々に開口面積が絞られてのど部2とな
り、こののど部2から流出口1bに向って徐々に開口面
積が拡大されているノズルをいう、第1図においては、
説明の便宜上、縮小拡大ノズルlの流入側と流出側は、
各々密閉系である上流室3と下流室4に連結されている
。しかし1本発明における縮小拡大ノズル1の流入側と
流出側は、両者間に差圧を生じさせて、キャリアガスと
共に微粒子を流過させることができれば、密閉系であっ
ても開放系であってもよい。
The contraction/expansion nozzle 1 in the present invention is a throat portion 2 in which the opening area is gradually narrowed from the inlet 1a toward the middle portion, and the opening area is gradually expanded from the throat portion 2 toward the outlet 1b. In Figure 1, the nozzle is
For convenience of explanation, the inflow side and outflow side of the contraction/expansion nozzle l are as follows:
It is connected to an upstream chamber 3 and a downstream chamber 4, each of which is a closed system. However, in the present invention, the inflow and outflow sides of the contraction/expansion nozzle 1 can be either a closed system or an open system, as long as a pressure difference can be created between the two and the particles can flow together with the carrier gas. Good too.

[作 用] 例えば第1図に示されるように、上流室3内に微粒子を
分散浮遊させたキャリアガスを供給する一方、下流室4
内を真空ポンプ5で排気すると、上流室3と下流室4間
に圧力差を生じる。従って、供給された微粒子を含むキ
ャリアガスは、上流室3から縮小拡大ノズル1を流過し
て下流室4へと流入することになる。
[Function] For example, as shown in FIG.
When the inside is evacuated by the vacuum pump 5, a pressure difference is created between the upstream chamber 3 and the downstream chamber 4. Therefore, the supplied carrier gas containing fine particles flows from the upstream chamber 3 through the contraction/expansion nozzle 1 and flows into the downstream chamber 4 .

ところで縮小拡大ノズル1は、単に上流側と下流側の圧
力差に応じてキャリアガスと共に微粒子′を噴出させる
だけでなく、噴出されるキャリアガス及び微粒子の流れ
を均一化する作用を成すものである。従って、この均一
化された微粒子の流れによって、基体6上へ微粒子を吹
き付けるようにすれば、基体6上へ均一に微粒子を吹き
付けることができる。
By the way, the contraction/expansion nozzle 1 not only ejects fine particles ′ together with the carrier gas according to the pressure difference between the upstream side and the downstream side, but also serves to equalize the flow of the ejected carrier gas and fine particles. . Therefore, if the fine particles are sprayed onto the base 6 using this uniform flow of the fine particles, the fine particles can be uniformly sprayed onto the base 6.

また、縮小拡大ノズルlは、上流室3と下流室4内の圧
力比と、のど部2の開口面積aと流出口lbの開口面積
Aとの比A/aとを調節することによって、キャリアガ
スと共に噴出する微粒子の流れを高速化できる。そして
、上流室3と下流室4内の圧力比が臨界圧力比未満であ
れば、縮小拡大ノズルlの出口流速が亜音速以下の流れ
となり、キャリアガスと共に微粒子は減速噴出される。
In addition, the contraction/expansion nozzle 1 adjusts the pressure ratio in the upstream chamber 3 and the downstream chamber 4 and the ratio A/a between the opening area a of the throat part 2 and the opening area A of the outflow port lb. The flow of particles ejected together with gas can be sped up. If the pressure ratio in the upstream chamber 3 and the downstream chamber 4 is less than the critical pressure ratio, the flow velocity at the outlet of the contraction/expansion nozzle l becomes a subsonic flow or less, and the particles are decelerated and ejected together with the carrier gas.

また、E配圧力比が臨界圧力比以上であれば、縮小拡大
ノズルlの出口流速は超音速流となり、キャリアガスと
共に微粒子を超高速にて噴出させることができる。
Further, if the distribution pressure ratio E is equal to or higher than the critical pressure ratio, the exit flow velocity of the contraction/expansion nozzle l becomes a supersonic flow, and the fine particles can be ejected together with the carrier gas at an ultrahigh speed.

上述のような圧力比が臨界圧力比未満の噴出においては
、噴出されるキャリアガスと微粒子は均一な拡散流とな
り、比較的広い範囲に亘って一度に均一に微粒子を吹き
付けることが可能となる。
In the above-mentioned ejection where the pressure ratio is less than the critical pressure ratio, the ejected carrier gas and fine particles form a uniform diffusion flow, making it possible to uniformly spray the fine particles over a relatively wide range at once.

一方、前述のような超高速の流れとしてキャリアガスと
共に微粒子を一定方向へ噴出させると、キャリアガスと
微粒子は噴出直後の噴流断面をほぼ保ちながら直進し、
ビーム化される。従って、このキャリアガスによって運
ばれる微粒子の流れもビーム化され、最小限の拡散で下
流室4内の空間中を、下流室4の壁面との干渉のない空
間的に独立状態で、かつ超高速で移送されることになる
On the other hand, when particles are ejected in a fixed direction along with carrier gas as an ultra-high-speed flow as described above, the carrier gas and particles travel straight while maintaining almost the jet cross section immediately after ejection.
Beamed. Therefore, the flow of particles carried by this carrier gas is also converted into a beam, which moves through the space within the downstream chamber 4 with minimal diffusion, in a spatially independent state without interference with the wall surface of the downstream chamber 4, and at an ultra-high speed. It will be transported by

このようなことから、例えば上流室3内で活性を有する
微粒子を形成して、これを直に縮小拡大ノズルlでビー
ム化移送したり、縮小拡大ノズル1内又は縮小拡大ノズ
ルlの直後で活性を有する微粒子を形成して、これをそ
のままビーム化移送すれば、超音速による、しかも空間
的に独立状態にあるビームとして移送することができ、
例えば下流室4内に設けた基体6上に付着捕集すること
ができる。従って、良好な活性状態のまま微粒子を捕集
することが可能となる。また、噴流断面が流れ方向にほ
ぼ一定のビームとして微粒子が基板6上に吹き付けられ
るので、この吹き付は領域を容易に制御できるものであ
る。
For this reason, it is possible, for example, to form active particles in the upstream chamber 3 and transfer them directly into a beam through the contraction/expansion nozzle 1, or to activate them within the contraction/expansion nozzle 1 or immediately after the contraction/expansion nozzle 1. By forming fine particles having a particle size and transferring them as a beam, it is possible to transfer them as a spatially independent beam at supersonic speed.
For example, it can be deposited and collected on a substrate 6 provided in the downstream chamber 4. Therefore, it becomes possible to collect fine particles in a good active state. Further, since the fine particles are sprayed onto the substrate 6 as a beam whose jet cross section is substantially constant in the flow direction, the area of this spraying can be easily controlled.

[実施例] 第2図は本発明を超微粒子による成膜装首に利用した場
合の一実施例の概略図で、図中1は縮小拡大ノズル、3
は上流室、4aは第一下流室、4bは第二下流室である
[Example] Fig. 2 is a schematic diagram of an example in which the present invention is utilized for film formation using ultrafine particles.
is an upstream chamber, 4a is a first downstream chamber, and 4b is a second downstream chamber.

上流室3と第一下流室4aは、一体のユニットとして構
成されており、第一下流室4aに、やはり各々ユニット
化されたスキマー7、ゲートバルブ8及び第二下流室4
bが、全て共通した径のフランジ(以下「共通フランジ
」という)を介して、相互に連結分離可能に順次連結さ
れている。上流室3、第一下流室4a及び第二下流室4
bは、後述する排気系によって、上流室3から第二下流
室4bへと、段階的に高い真空度に保たれているもので
ある。
The upstream chamber 3 and the first downstream chamber 4a are configured as an integrated unit, and the first downstream chamber 4a is equipped with a skimmer 7, a gate valve 8, and a second downstream chamber 4, which are also each unitized.
b are sequentially connected to each other so as to be connectable and separable via flanges having a common diameter (hereinafter referred to as "common flanges"). Upstream chamber 3, first downstream chamber 4a, and second downstream chamber 4
b is maintained at a high degree of vacuum in stages from the upstream chamber 3 to the second downstream chamber 4b by an exhaust system to be described later.

上流室3の一側には、共通フランジを介して気相励起波
R9が取付けられている。この気相励起装置9は、プラ
ズマによって活性な超微粒子を発生させると共に、例え
ば水素、ヘリウム、アルゴン、窒素等のキャリアガスと
共にこの超微粒子を、対向側に位置する縮小拡大ノズル
1へと送り出すものである。この形成された超微粒子が
、上流室3の内面に付着しないよう、付着防止処理を内
面に施しておいてもよい。また、発生した超微粒子は、
上流室3に比して第一下流室4aが高い真空度にあるた
め、両者間の圧力差によって、キャリアガスと共に直に
縮小拡大ノズルI内を流過して第一下流室4aへと流れ
ることになる。
A gas phase excitation wave R9 is attached to one side of the upstream chamber 3 via a common flange. This gas phase excitation device 9 generates active ultrafine particles using plasma, and sends out the ultrafine particles together with a carrier gas such as hydrogen, helium, argon, nitrogen, etc. to the contraction/expansion nozzle 1 located on the opposite side. It is. In order to prevent the formed ultrafine particles from adhering to the inner surface of the upstream chamber 3, an anti-adhesion treatment may be applied to the inner surface of the upstream chamber 3. In addition, the generated ultrafine particles are
Since the first downstream chamber 4a has a higher degree of vacuum than the upstream chamber 3, the pressure difference between the two causes the carrier gas to flow directly through the contraction/expansion nozzle I and into the first downstream chamber 4a. It turns out.

気相励起装置9は、第3図(a)に示されるように、棒
状の第一電極8aを管状の第二電極eb内に設け、第二
電極9b内にキャリアガスと原料ガスを供給して、両電
極9a、 9b間で放電させるものとなっている。また
、気相励起装置9は、第3図(b)に示されるように、
第二電極9b内に設けられている第一電極9aを多孔管
として、第一電極sa内を介して両電極9a、 9b間
にキャリアガスと原料ガスを供給するものとしたり、同
(C)に示されるように、半割管状の両電極9a、 9
bを絶縁材9Cを介して管状に接合し、両電極9a、 
9bで形成された管内にキャリアガスと原料ガスを供給
するものとすることもできる。
As shown in FIG. 3(a), the gas phase excitation device 9 includes a rod-shaped first electrode 8a disposed within a tubular second electrode eb, and a carrier gas and source gas supplied into the second electrode 9b. Thus, a discharge is caused between both electrodes 9a and 9b. Further, the gas phase excitation device 9, as shown in FIG. 3(b),
The first electrode 9a provided in the second electrode 9b may be a porous tube to supply carrier gas and raw material gas between the two electrodes 9a and 9b through the inside of the first electrode sa. As shown, both half-tubular electrodes 9a, 9
b are joined in a tubular shape via an insulating material 9C, and both electrodes 9a,
It is also possible to supply the carrier gas and source gas into the tube formed by 9b.

縮小拡大ノズル1は、第一下流室4aの上流室3側の側
端に、上流室3に流入口1aを開口させ、第一下流室4
aに流出口1bを開口させて、上流室3内に突出した状
態で、共通フランジを介して取付けられている。但しこ
の縮小拡大ノズル1は、第一下流室4d内に突出した状
態で取付けるようにしてもよい。縮小拡大ノズル1をい
ずれに突出させるかは、移送する超微粒子の大きさ、量
、性質等に応じて選択すればよい。
The contraction/expansion nozzle 1 has an inlet 1a opened in the upstream chamber 3 at the side end of the first downstream chamber 4a on the upstream chamber 3 side, and the first downstream chamber 4
The outflow port 1b is opened at a, and the upstream chamber 3 is protruded into the upstream chamber 3, and is attached via a common flange. However, the contraction/expansion nozzle 1 may be installed in a state in which it projects into the first downstream chamber 4d. The direction in which the contraction/expansion nozzle 1 should be projected may be selected depending on the size, amount, properties, etc. of the ultrafine particles to be transferred.

縮小拡大ノズルlとしては、前述のように、流入口1a
から徐々に開口面積が絞られてのど部2となり、再び徐
々に開口面積が拡大して流出口1bとなっているもので
あればよいが、第4図(a)に拡大して示しであるよう
に、流出口lb付近の内周面が、中心軸に対してほぼ平
行であることが好ましい、これは、噴出されるキャリア
ガス及び超微粒子の流れ方向が、ある程度流出口lb付
近の内周面の方向によって影テを受けるので、できるだ
け平折流にさせやすくするためである。しかし、第4図
(b)に示されるように、のど部2から流出口1bへ至
る内周面の中心軸に対する角度αを、7°以下好ましく
は5°以下とすれば、剥離現象を生じにくく、噴出する
キャリアガス及び超微粒子の流れはほぼ均一・に維持さ
れるので、この場合はことさら上記平行部を形成しなく
ともよい。平行部の形成を省略することにより、縮小拡
大ノズルlの作製が容易となる。また、縮小拡大ノズル
lを第4図(C)に示されるような矩形のものとすれば
、スリット状にキャリアガス及び超微粒子を噴出させる
ことができる。
As mentioned above, the contraction/expansion nozzle l is the inlet 1a.
It is sufficient if the opening area is gradually narrowed down to form the throat part 2, and then the opening area is gradually expanded again to form the outflow port 1b, which is shown enlarged in Fig. 4(a). As such, it is preferable that the inner circumferential surface near the outlet lb is approximately parallel to the central axis. This means that the flow direction of the jetted carrier gas and ultrafine particles is to some extent This is to make it as easy as possible to create a flat folded flow, since the direction of the surface will affect the flow. However, as shown in FIG. 4(b), if the angle α of the inner peripheral surface from the throat portion 2 to the outlet 1b with respect to the central axis is set to 7° or less, preferably 5° or less, a peeling phenomenon occurs. In this case, it is not necessary to form the above-mentioned parallel portion, since the flow of the ejected carrier gas and ultrafine particles is maintained substantially uniformly. By omitting the formation of the parallel portion, the contraction/expansion nozzle 1 can be manufactured easily. Furthermore, if the contraction/expansion nozzle l is made rectangular as shown in FIG. 4(C), carrier gas and ultrafine particles can be ejected in a slit shape.

ここで、前記剥離現象とは縮小拡大ノズルlの内面に突
起物等があった場合に、縮小拡大ノズル1の内面と流過
流体間の境界層が大きくなって。
Here, the above-mentioned separation phenomenon means that when there is a protrusion or the like on the inner surface of the contraction/expansion nozzle 1, the boundary layer between the inner surface of the contraction/expansion nozzle 1 and the flowing fluid becomes large.

流れが不均一になる現象をいい、噴出流が高速になるほ
ど生じやすい、前述の角度αは、この剥離現象防止のた
めに、縮小拡大ノズル1の内面仕上げ精度が劣るものほ
ど小さくすることが好ましい。縮小拡大ノズルlの内面
は、JIS 80801に定められる、表面仕りげ精度
を表わす逆三角形マークで三つ以り、最適には四つ以上
が好ましい。特に、縮小拡大ノズル1の拡大部における
剥離現象が、その後のキャリアガス及び超微粒子の流れ
に大きく影響するので、上記仕上げ精度を、この拡大部
を重点にして定めることによって、縮小拡大ノズルlの
作製を容易にできる。また、やはり剥離現象の発生防止
のため、のど部2は滑らかな湾曲面とし、断面積変化率
における微係数が(1)とならないようにする必要があ
る。
This refers to a phenomenon in which the flow becomes non-uniform, and the higher the speed of the jet flow, the more likely it is to occur.In order to prevent this separation phenomenon, it is preferable that the above-mentioned angle α be made smaller as the inner surface finishing precision of the contraction-expansion nozzle 1 is inferior. . The inner surface of the contraction/expansion nozzle l has three or more inverted triangular marks representing surface finishing accuracy as defined in JIS 80801, and four or more is preferred. In particular, since the peeling phenomenon in the enlarged part of the contraction/expansion nozzle 1 greatly affects the subsequent flow of carrier gas and ultrafine particles, by determining the finishing accuracy with emphasis on this enlarged part, it is possible to Easy to manufacture. Further, in order to prevent the occurrence of a peeling phenomenon, the throat portion 2 needs to have a smooth curved surface so that the differential coefficient in the rate of change in cross-sectional area does not become (1).

縮小拡大ノズルlの材質としては、例えば鉄。The material of the contraction/expansion nozzle l is, for example, iron.

ステンレススチールその他の金属の他、アクリル樹脂、
ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリスチレン、ポリプ
ロピレン等の合成樹脂、セラミック材料、石英、ガラス
等、広く用いることができる。この材質の選択は、生成
される超微粒子との非反応性、加工性、真空系内におけ
るガス放出性等を考慮して行えばよい。また、縮小拡大
ノズル1の内面に、超微粒子の付着・反応を生じにくい
材料をメッキ又はコートすることもできる。具体例とし
ては、ポリフッ化エチレンのコート等を挙げることがで
きる。
In addition to stainless steel and other metals, acrylic resin,
A wide variety of materials can be used, including synthetic resins such as polyvinyl chloride, polystyrene, polystyrene, and polypropylene, ceramic materials, quartz, and glass. This material may be selected in consideration of non-reactivity with the generated ultrafine particles, processability, gas release properties in a vacuum system, etc. Furthermore, the inner surface of the contraction/expansion nozzle 1 can be plated or coated with a material that is less likely to cause adhesion or reaction of ultrafine particles. Specific examples include polyfluoroethylene coating.

縮小拡大ノズルlの長さは、装置の大きさ等によって任
意に定めることができる。ところで、縮小拡大ノズルl
を流過するときに、キャリアガス及び超微粒子は、保有
する熱エネルギーが運動エネルギーに変換される。そし
て、特に超音速で噴出される場合、熱エネルギーは著し
く小さくなって過冷却状態となる。従って、キャリアガ
ス中に凝縮成分が含まれている場合、上記過冷却状態に
よって積極的にこれらを凝縮させ、これによって超微粒
子を形成させることも可能である。これによる超微粒子
の形成は、均質核形成であるので、均質な超微粒子が得
やすい。また、この場合、十分な凝縮を行うために、縮
小拡大ノズルlは長い方が好ましい。一方、上記のよう
な凝縮を生ずると、これによって熱エネルギーが増加し
て速度エネルギーは低下する。従って、高速噴出の維持
を図る上では、縮小拡大ノズルlは短い方が好まし上流
室3と下流室4内の圧力比と、のど部2の開口面積aと
流出口1bの開口面積との比A/aとの関係を適宜に調
整して、上記縮小拡大ノズル1内を流過させることによ
り、超微粒子を含むキャリアガスはビーム化され、第一
下流室4aから第二下流室4bへと超高速で流れること
になる。
The length of the contraction/expansion nozzle l can be arbitrarily determined depending on the size of the apparatus and the like. By the way, the contraction/expansion nozzle l
When flowing through the carrier gas and ultrafine particles, the thermal energy they possess is converted into kinetic energy. Particularly when ejected at supersonic speed, the thermal energy becomes significantly small, resulting in a supercooled state. Therefore, if the carrier gas contains condensed components, it is also possible to actively condense them by the supercooled state, thereby forming ultrafine particles. Since the formation of ultrafine particles by this is homogeneous nucleation, it is easy to obtain homogeneous ultrafine particles. Further, in this case, in order to perform sufficient condensation, it is preferable that the contraction/expansion nozzle l be long. On the other hand, when condensation occurs as described above, thermal energy increases and velocity energy decreases. Therefore, in order to maintain high-speed jetting, it is preferable that the contraction/expansion nozzle l be short, and the pressure ratio in the upstream chamber 3 and the downstream chamber 4, and the opening area a of the throat part 2 and the opening area of the outflow port 1b. By appropriately adjusting the relationship with the ratio A/a and causing it to flow through the contraction/expansion nozzle 1, the carrier gas containing ultrafine particles is converted into a beam and flows from the first downstream chamber 4a to the second downstream chamber 4b. It will flow at super high speed.

スキマー7は、第二下流室4bが第一下流室4aよりも
十分高真空度を保つことができるよう、第一下流室4a
と第二下流室4bとの間の開口面積を調整できるように
するためのものである。具体的には、第5図に示される
ように、各々く字形の切欠部10,10’を有する二枚
の調整板11.11′を、切欠部10.10’を向き合
わせてすれ違いスライド可能に設けたものとなっている
。この調整板11゜11”は、外部からスライドさせる
ことができ、両切央部10,10’の重なり具合で、ビ
ームの通過を許容しかつ第二下流室の十分な真空度を維
持し得る開口度に調整されるものである。尚、スキマー
7の切欠部10.10′及び調整板11.11’の形状
は、図示される形状の他、半円形その他の形状でもよい
The skimmer 7 is installed in the first downstream chamber 4a so that the second downstream chamber 4b can maintain a sufficiently higher degree of vacuum than the first downstream chamber 4a.
This is to enable adjustment of the opening area between the first downstream chamber 4b and the second downstream chamber 4b. Specifically, as shown in FIG. 5, two adjustment plates 11.11' each having dogleg-shaped notches 10 and 10' can be slid past each other with their notches 10.10' facing each other. It has been established in This adjusting plate 11° 11'' can be slid from the outside, and depending on the overlap between the two central portions 10 and 10', it can allow the beam to pass through and maintain a sufficient degree of vacuum in the second downstream chamber. The opening degree is adjusted.The shape of the notch 10.10' of the skimmer 7 and the adjustment plate 11.11' may be semicircular or other shapes other than the shape shown in the figure.

ゲートバルブ8は、ハンドル12を回すことによって昇
降される層状の弁体13を有するもので、ビーム走行時
には開放されているものである。このゲートバルブ8を
閉じることによって、上流室3及び第一下流室4a内の
真空度を保ちながら第二下流室4bのユニット交換が行
える。また1本実施例の装置において、超微粒子は第二
下流室4b内で捕集されるが、ゲートバルブ8をポール
バルブ等としておけば、特に超微粒子が酸化されやすい
金属微粒子であるときに、このポールバルブと共に第二
下流室4bのユニット交換を行うことにより、急激な酸
化作用による危険を伴うことなくユニット交換を行える
利点がある。
The gate valve 8 has a layered valve body 13 that can be raised and lowered by turning a handle 12, and is open when the beam is traveling. By closing this gate valve 8, the unit in the second downstream chamber 4b can be replaced while maintaining the degree of vacuum in the upstream chamber 3 and the first downstream chamber 4a. In addition, in the apparatus of this embodiment, ultrafine particles are collected in the second downstream chamber 4b, but if the gate valve 8 is a pole valve or the like, especially when the ultrafine particles are metal particles that are easily oxidized, By replacing the unit of the second downstream chamber 4b together with this Pall valve, there is an advantage that the unit can be replaced without the risk of rapid oxidation.

第二下流室4b内には、ビームとして移送されて来る超
微粒子を受けて付着させ、これを成膜状態で捕集するた
めの基体6が位置している。この基体6は、共通フラン
ジを介して第二下流室4bに取付けられて、シリンダ1
4によってスライドされるスライド軸15先端の基体ホ
ルダー16に取付けられている。基体6の前面にはシャ
ッター17が位置していて、必要なときはいつでもビー
ムを遮断できるようになっている。また、基体ホルダー
18は、超微粒子の捕集の最適温度条件下に基体6を加
熱又は冷却でるようになっている。
A base body 6 is located in the second downstream chamber 4b for receiving and depositing ultrafine particles transferred as a beam, and collecting the ultrafine particles in a film-formed state. This base body 6 is attached to the second downstream chamber 4b via a common flange, and is attached to the cylinder 1.
4 is attached to a base holder 16 at the tip of a slide shaft 15 that is slid by a slide shaft 15. A shutter 17 is located on the front side of the base 6, so that the beam can be blocked whenever necessary. Further, the substrate holder 18 is configured to heat or cool the substrate 6 under optimal temperature conditions for collecting ultrafine particles.

尚、上流室3及び第二下流室4bの上下には、図示され
るように各々共通フランジを介してガラス窓18が取付
けられていて、内部観察ができるようになっている。ま
た、図示はされていないが、北流室3、第一下流室4a
及び第二下流室の前後にも各々同様のガラス窓(図中の
18と同様)が共通フランジを介して取付けられている
。これらのガラス窓18は、これを取外すことによって
、共通フランジを介して各種の測定装置、ロードロック
室等と付は替えができるものである。
Incidentally, glass windows 18 are attached to the upper and lower sides of the upstream chamber 3 and the second downstream chamber 4b through common flanges, respectively, as shown in the figure, so that the inside can be observed. Also, although not shown, the north flow chamber 3, the first downstream chamber 4a
Similar glass windows (similar to 18 in the figure) are also installed at the front and rear of the second downstream chamber via common flanges. These glass windows 18 can be removed and replaced with various measuring devices, load lock chambers, etc. via a common flange.

次に、本実施例における排気系について説明する。Next, the exhaust system in this embodiment will be explained.

上流室3は、圧力調整弁19を介してメインバルブ20
aに接続されている。第一下流室4aは直接メインバル
ブ20aに接続されており、このメインバルブ20aは
真空ポンプ5aに接続されている。第二下流室4bはメ
インバルブ20bに接続されており。
The upstream chamber 3 is connected to a main valve 20 via a pressure regulating valve 19.
connected to a. The first downstream chamber 4a is directly connected to a main valve 20a, and this main valve 20a is connected to a vacuum pump 5a. The second downstream chamber 4b is connected to the main valve 20b.

更にこのメインバルブ20bは真空ポンプ5bに接続さ
れている。尚、 21a、 21bは、各々メインバル
ブ20a、 20bのすぐ上流側にあらびきバルブ22
a、 22bを介して接続されていると共に、補助バル
ブ23a。
Furthermore, this main valve 20b is connected to a vacuum pump 5b. In addition, 21a and 21b are connected to the valve 22 immediately upstream of the main valves 20a and 20b, respectively.
a, 22b, and an auxiliary valve 23a.

23bを介して真空ポンプ5aに接続された減圧ポンプ
で、上流室3、第一下流室4a及び第二下流室4b内の
あらびきを行うものである。尚、24a〜24hは、各
室3 、4a、 4b及びポンプ5a、 5b、 21
a、 21bのリーク及びパージ用バルブである。
The vacuum pump 23b is connected to the vacuum pump 5a and is used to check the inside of the upstream chamber 3, the first downstream chamber 4a, and the second downstream chamber 4b. In addition, 24a-24h are each chamber 3, 4a, 4b and pump 5a, 5b, 21
a, 21b are leak and purge valves.

まず、あらびきバルブ21a、 21bと圧力調整弁1
8を開いて、上流室3、第−及び第二下流室4a、 4
b内のあらびきを減圧ポンプ20a、 20bで行う0
次いで、あらびきバルブ21a、 21bを閉じ、補助
バルブ23a、 23b及びメインバルブ20a、 2
0bを開いて、真空ポンプ5a、 5bで上流室3.第
−及び第二下流室4a、 4b内を十分な真空度とする
。このとき、圧力調節弁19の開度を調整することによ
って、上流室3より第一下流室4aの真空度を高くし、
次にキャリアガス及び原料ガスを流し、更に第一下流室
4aより第二下流室4bの真空度が高くなるよう、スキ
マー7で調整する。この調整は、メインバルブ20bの
開度調整で行うこともできる。そして、超微粒子の形成
並びにそのビーム化噴射による成膜作業中を通じて、各
室3 、4a、 4bが一定の真空度を保つよう制御す
る。この制御は、手動でもよいが、各室3 、4a、 
4b内の圧力を検出して、この検出圧力に基づいて圧力
調整弁19、メインバルブ20a、 20b、スキマー
7等を自動的に開閉制御することによって行ってもよい
First, the interference valves 21a and 21b and the pressure regulating valve 1
8, the upstream chamber 3, the first and second downstream chambers 4a, 4
0 The irregularities in b are performed using the vacuum pumps 20a and 20b.
Next, the auxiliary valves 23a, 23b and the main valves 20a, 2 are closed.
0b is opened, and the upstream chamber 3. A sufficient degree of vacuum is created in the first and second downstream chambers 4a and 4b. At this time, by adjusting the opening degree of the pressure regulating valve 19, the degree of vacuum in the first downstream chamber 4a is made higher than that in the upstream chamber 3,
Next, the carrier gas and the raw material gas are flowed, and the skimmer 7 is used to adjust the degree of vacuum in the second downstream chamber 4b to be higher than that in the first downstream chamber 4a. This adjustment can also be performed by adjusting the opening degree of the main valve 20b. The chambers 3, 4a, and 4b are controlled to maintain a constant degree of vacuum throughout the formation of ultrafine particles and the film forming operation by beam injection. This control may be done manually, but each room 3, 4a,
Alternatively, the pressure inside the pump 4b may be detected and the pressure regulating valve 19, main valves 20a, 20b, skimmer 7, etc. may be automatically opened/closed based on the detected pressure.

上記真空度の制御は、上流室3と第一下流室4dの真空
ポンプ5aを各室3.4a毎に分けて設けて制御を行う
ようにしてもよい、しかし1本実施例のように、一台の
真空ポンプ5aでビームの流れ方向に排気し、上流室3
と第一下流室4aの真空度を制御するようにすると、多
少真空ポンプ5aに脈動等があっても1両者間の圧力差
を一定に保ちやすい、従って、この差圧の変動の影響を
受けやすい流れ状態を、一定に保ちやすい利点がある。
The degree of vacuum may be controlled by separately providing the vacuum pumps 5a for the upstream chamber 3 and the first downstream chamber 4d for each chamber 3.4a, but as in this embodiment, One vacuum pump 5a evacuates in the flow direction of the beam, and the upstream chamber 3
By controlling the degree of vacuum of the first downstream chamber 4a and the first downstream chamber 4a, it is easy to maintain a constant pressure difference between the two even if there is some pulsation in the vacuum pump 5a. It has the advantage of being easy to maintain a constant flow state.

真空ポンプ5a、 5bによる吸引は、特に第−及び第
二下流室4a、 4bにおいては、そのE方より行うこ
とが好ましい、L方から吸引を行うことによって、ビー
ムの重力による降下をある程度抑止することができる。
The suction by the vacuum pumps 5a, 5b is preferably performed from the E side, especially in the first and second downstream chambers 4a, 4b. By suctioning from the L side, the descent of the beam due to gravity can be suppressed to some extent. be able to.

本実施例に係る装置は以上のようなものであるが、次の
ような変更が可能である。
Although the apparatus according to this embodiment is as described above, the following modifications can be made.

まず、縮小拡大ノズルlは、上下左右への傾動や一定間
隔でのスキャン可能とすることもでき。
First, the contraction/expansion nozzle l can be tilted up and down and left and right, and can be scanned at regular intervals.

広い範囲に亘って成膜を行えるようにすることもできる
。特にこの傾動やスキャンは、第4図(C)の矩形ノズ
ルと組合わせると有利である。
It is also possible to form a film over a wide range. Particularly, this tilting and scanning is advantageous when combined with the rectangular nozzle shown in FIG. 4(C).

縮小拡大ノズルlを石英等の絶縁体で形成し。The contraction/expansion nozzle l is formed of an insulator such as quartz.

そこにマイクロ波を付与して、縮小拡大ノズルl内で活
性超微粒子を形成したり、透光体で形成して紫外、赤外
、レーザー光等の各種の波長を持つ光を流れに照射する
こともできる。また、縮小拡大ノズルlを複数個設けて
、一度に複数のビームを発生させることもできる。特に
、複数個の縮小拡大ノズル1を設ける場合、各々独立し
た上流室3に接続しておくことによって、異なる微粒子
のビームを同時に走行させることができ、異なる微粒子
の積層又は混合捕集や、ビーム同志を交差させることに
よる、異なる微粒子同志の衝突によって、新たな微粒子
を形成させることも可能となる。
Microwaves are applied there to form active ultrafine particles in a contraction/expansion nozzle l, or a transparent material is used to irradiate the flow with light having various wavelengths such as ultraviolet, infrared, and laser light. You can also do that. It is also possible to provide a plurality of contraction/expansion nozzles l to generate a plurality of beams at once. In particular, when a plurality of contraction/expansion nozzles 1 are provided, by connecting each to an independent upstream chamber 3, beams of different particles can be run at the same time, allowing stacking or mixed collection of different particles, and beam It is also possible to form new particles by collision of different particles by crossing them.

基体6を、上下左右に移動可能又は回転可能に保持し、
広い範囲に亘ってビームを受けられるようにすることも
できる。また、基体6をロール状に巻取って、これを順
次送り出しながらビームを受けるようにすることによっ
て、長尺の基体6に微粒子による処理を施すこともでき
る。更には。
The base body 6 is held movably or rotatably in the vertical and horizontal directions,
It is also possible to receive the beam over a wide range. Further, by winding up the base body 6 into a roll and sending it out one after another so as to receive the beam, a long base body 6 can also be treated with fine particles. Furthermore.

ドラム状の基体6を回転させながら微粒子による処理を
施してもよい。
The treatment with fine particles may be performed while rotating the drum-shaped base 6.

本実施例では、発生室3、第一下流室4a及び第二下流
室4bで構成されているが、第二下流室4bを省略した
り、第二下流室の下流側に更に第三。
In this embodiment, the generation chamber 3, the first downstream chamber 4a, and the second downstream chamber 4b are constructed, but the second downstream chamber 4b may be omitted, or a third downstream chamber may be provided downstream of the second downstream chamber.

第四・・・・・・下流室を接続することもできる。また
、上流室3を加圧すれば、第一下流室4aは開放系とす
ることができ、第一下流室4aを減圧して上流室3を開
放系とすることもできる。特にオートクレーブのように
、上流室3を加圧し、第一下流室48以下を減圧するこ
ともできる。
Fourth...downstream chambers can also be connected. Further, by pressurizing the upstream chamber 3, the first downstream chamber 4a can be made into an open system, and by reducing the pressure in the first downstream chamber 4a, the upstream chamber 3 can be made into an open system. In particular, like an autoclave, the upstream chamber 3 can be pressurized and the first downstream chamber 48 and below can be depressurized.

本実施例では、上流室3で活性な超微粒子を形成してい
るが、必ずしもこのような必要はなく、別途形成した微
粒子を上流室3ヘキヤリアガスと共に送り込むようにし
てもよい、また、縮小拡大ノズルlを開閉する弁を設け
、上流室3側に一時微粒子を溜めながら、上記弁を断続
的に開閉して、微粒子を得ることもできる。前記縮小拡
大ノズルlののど部2を含む下流側で行うエネルギー付
与と同期させて、上記弁を開閉すれば、排気系の負担が
大幅に低減されると共に、原料ガスの有効利用を図りつ
つパルス状の微粒子流を得ることができる。尚、同一排
気条件下とすれば、上述の断続的開閉の方が、下流側を
高真空に保持しやすい利点がある。断続的開閉の場合、
上流室3と縮小拡大ノズルlの間に、微粒子を一時溜め
る室を設けておいてもよい。
In this embodiment, active ultrafine particles are formed in the upstream chamber 3, but this is not necessarily necessary, and separately formed particles may be sent to the upstream chamber 3 together with the carrier gas. It is also possible to obtain fine particles by providing a valve for opening and closing 1 and intermittently opening and closing the valve while temporarily storing fine particles in the upstream chamber 3 side. If the valve is opened and closed in synchronization with energy application on the downstream side including the throat part 2 of the contraction/expansion nozzle l, the load on the exhaust system can be significantly reduced, and the pulse can be maintained while effectively utilizing the raw material gas. It is possible to obtain a particle flow of . Note that under the same exhaust conditions, the above-mentioned intermittent opening and closing has the advantage that it is easier to maintain a high vacuum on the downstream side. In case of intermittent opening and closing,
A chamber for temporarily storing fine particles may be provided between the upstream chamber 3 and the contraction/expansion nozzle l.

また、縮小拡大ノズルlを複数個直列位置に配し、各々
上流側と下流側の圧力比を調整して、ビーム速度の維持
を図ったり、各室を球形化して、デッドスペースの発生
を極力防止することもできる。
In addition, multiple contraction/expansion nozzles l are arranged in series, and the pressure ratio on the upstream and downstream sides is adjusted to maintain the beam speed, and each chamber is made spherical to minimize dead space. It can also be prevented.

[発明の効果] 本発明によれば、微粒子を均一な分散状態の超音速のビ
ームとして移送することができるので。
[Effects of the Invention] According to the present invention, fine particles can be transported as a uniformly dispersed supersonic beam.

空間的に独立した状態でかつ超高速で微粒子を移送する
ことができる。従って、活性微粒子をそのままの状態で
捕集位置まで確実に移送できると共に、ビームの照射面
を制御することによって、その吹き付は領域を正確に制
御することができる。
Microparticles can be transported spatially independently and at ultrahigh speeds. Therefore, the active particles can be reliably transported as they are to the collection position, and by controlling the beam irradiation surface, the spraying area can be accurately controlled.

また、ビームという集束した超高速平行流となることや
、ビーム化されるときに熱エネルギーが運動エネルギー
に変換されて、ビーム内の微粒子は凍結状態となるので
、これらを利用した新しい反応場を得ることにも大きな
期待を有するものである。更に1本発明の流れ制御装置
によれば、上記凍結状態になることから、流体中の分子
のミクロな状態を規定し、一つの状態からある状態への
遷移を取り扱うことも可能である。即ち、分子の持つ各
種のエネルギー準位までも規定し、その準位に相当する
エネルギーを付亨するという、新たな方式による気相の
化学反応が可能である。また。
In addition, it becomes a focused ultra-high-speed parallel flow called a beam, and when it is made into a beam, thermal energy is converted to kinetic energy, and the particles in the beam become frozen, so we can create a new reaction field that utilizes these. I have high hopes for what I will achieve. Furthermore, according to the flow control device of the present invention, since the fluid is in the frozen state, it is also possible to define the microscopic state of molecules in the fluid and handle the transition from one state to another state. In other words, it is possible to perform chemical reactions in the gas phase using a new method in which various energy levels of molecules are defined and energy corresponding to the levels is added. Also.

従来とは異なるエネルギー授受の場が提供されることに
より、水素結合やファンデアワールス結合等の比較的弱
い分子間で形成される分子間化合物を容易に生み出すこ
ともできる。
By providing a field for energy exchange that is different from the conventional one, it is also possible to easily create intermolecular compounds formed between relatively weak molecules such as hydrogen bonds and van der Waals bonds.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の基本原理の説明図、第2図は本発明を
超微粒子による成膜装置に利用した場合の一実施例を示
す概略図、第3図(a)〜(C)は各々気相励起装置の
例を示す図、第4図(a)〜(C)は各々縮小拡大ノズ
ルの形状例を示す図、第5図はスキマーの説明図である
。 1:縮小拡大ノズル、1a:流入口。 lb二流出口、2二のど部、3:上流室。 4:下流室、4a:第一下流室、 4b:第二下流室、5 、5a、 5b:真空ポンプ。 6:基体、7:スキマー、8:ゲートバルブ、9:気相
励起装置、9a:第一電極、 9b:第二電極、to、 10’ :切欠部。 11、11” :調整板、12:ハンドル、13:弁体
、14ニジリンダ、15ニスライド軸、 16:基体ホルダー、17:シャッター、18ニガラス
窓、19+圧力調整弁、 20a、 20b:メインバルブ、 21a、 21b:減圧ポンプ。 22a、 22b:あらびきバルブ、 23a、 23b:補助バルブ、 24a〜24h:リーク及びパージ用バルブ。
Figure 1 is an explanatory diagram of the basic principle of the present invention, Figure 2 is a schematic diagram showing an embodiment of the present invention applied to a film forming apparatus using ultrafine particles, and Figures 3 (a) to (C) are Each figure shows an example of a gas phase excitation device, FIGS. 4(a) to 4(C) each show an example of the shape of a contraction/expansion nozzle, and FIG. 5 is an explanatory diagram of a skimmer. 1: contraction/expansion nozzle, 1a: inlet. lb2 outlet, 22 throat, 3: upstream chamber. 4: downstream chamber, 4a: first downstream chamber, 4b: second downstream chamber, 5, 5a, 5b: vacuum pump. 6: Substrate, 7: Skimmer, 8: Gate valve, 9: Gas phase excitation device, 9a: First electrode, 9b: Second electrode, to, 10': Notch. 11, 11": Adjustment plate, 12: Handle, 13: Valve body, 14 Niji cylinder, 15 Ni slide shaft, 16: Base holder, 17: Shutter, 18 Ni glass window, 19 + pressure adjustment valve, 20a, 20b: Main valve, 21a, 21b: Decompression pump. 22a, 22b: Arabiki valve, 23a, 23b: Auxiliary valve, 24a to 24h: Leak and purge valve.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1)流路に縮小拡大ノズルを設けたことを特徴とする微
粒子流の流れ制御装置。
1) A flow control device for a particle flow, characterized in that a contraction/expansion nozzle is provided in a flow path.
JP60059619A 1985-03-26 1985-03-26 Minute particle flow control apparatus Pending JPS61218810A (en)

Priority Applications (16)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60059619A JPS61218810A (en) 1985-03-26 1985-03-26 Minute particle flow control apparatus
CA000504938A CA1272662A (en) 1985-03-26 1986-03-24 Apparatus and process for controlling flow of fine particles
FR8604251A FR2579487B1 (en) 1985-03-26 1986-03-25 APPARATUS FOR CONTROLLING THE FLOW OF FINE PARTICLES
FR8604250A FR2579486B1 (en) 1985-03-26 1986-03-25 METHOD FOR ADJUSTING THE SPEED OF FINE PARTICLES
FR8604252A FR2579488B1 (en) 1985-03-26 1986-03-25 METHOD FOR ADJUSTING THE DENSITY OF FINE PARTICLES
GB08607604A GB2174509A (en) 1985-03-26 1986-03-26 Controlling velocity of particles
GB08607605A GB2175414A (en) 1985-03-26 1986-03-26 Controlling density of particles
GB8607606A GB2175709B (en) 1985-03-26 1986-03-26 Apparatus for controlling flow of fine particles
DE19863610296 DE3610296A1 (en) 1985-03-26 1986-03-26 METHOD FOR CONTROLLING THE SPEED OF FINE PARTICLES
DE19863610299 DE3610299A1 (en) 1985-03-26 1986-03-26 DEVICE FOR CONTROLLING A FLOW OF FINE PARTICLES
DE19863610298 DE3610298A1 (en) 1985-03-26 1986-03-26 METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING A FLOW OF FINE PARTICLES
DE19863610291 DE3610291A1 (en) 1985-03-26 1986-03-26 Flow control device for fine particles
DE19863610293 DE3610293A1 (en) 1985-03-26 1986-03-26 METHOD FOR CONTROLLING THE DENSITY OF FINE PARTICLES
DE19863610294 DE3610294A1 (en) 1985-03-26 1986-03-26 Process for controlling the temperature of a stream of fine particles
GB8607602A GB2175413B (en) 1985-03-26 1986-03-26 Apparatus and process for controlling flow of fine particles
US07/052,148 US4911805A (en) 1985-03-26 1987-05-21 Apparatus and process for producing a stable beam of fine particles

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60059619A JPS61218810A (en) 1985-03-26 1985-03-26 Minute particle flow control apparatus

Related Child Applications (25)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8540085A Division JPS61220763A (en) 1985-03-26 1985-04-23 Method for controlling speed of fine particle flow
JP8540385A Division JPS61220766A (en) 1985-03-26 1985-04-23 Method for controlling temperature of fine particle flow
JP8540285A Division JPS61220765A (en) 1985-03-26 1985-04-23 Method for controlling speed of fine particle flow
JP8540185A Division JPS61220764A (en) 1985-03-26 1985-04-23 Method for controlling speed of particle flow
JP9103085A Division JPS61220728A (en) 1985-03-26 1985-04-30 Control device for flow of fine particle stream
JP9102985A Division JPS61220768A (en) 1985-03-26 1985-04-30 Method for controlling fine particle flow
JP9102885A Division JPS61220767A (en) 1985-03-26 1985-04-30 Method for controlling density of fine particle flow
JP9769885A Division JPS6257641A (en) 1985-05-10 1985-05-10 Flow control device for pulverous particle flow
JP9769785A Division JPS61220730A (en) 1985-05-10 1985-05-10 Control device for flow of fine particle stream
JP9770085A Division JPS61220733A (en) 1985-03-26 1985-05-10 Control device for flow of fine particle stream
JP9769985A Division JPS61220732A (en) 1985-03-26 1985-05-10 Control device for flow of fine particle stream
JP9769685A Division JPS61220729A (en) 1985-03-26 1985-05-10 Control device for flow of fine particle stream
JP9889785A Division JPS61220769A (en) 1985-05-11 1985-05-11 Method for providing energy to fine particle flow
JP60115366A Division JPS61218815A (en) 1985-05-30 1985-05-30 Minute particle flow control apparatus
JP60115363A Division JPS61218812A (en) 1985-05-30 1985-05-30 Minute particle flow control apparatus
JP60115362A Division JPS61218811A (en) 1985-05-30 1985-05-30 Minute particle flow control apparatus
JP60115364A Division JPS61218813A (en) 1985-03-26 1985-05-30 Minute particle flow control apparatus
JP60115365A Division JPS61218814A (en) 1985-03-26 1985-05-30 Minute particle flow control apparatus
JP11535985A Division JPS61220734A (en) 1985-05-30 1985-05-30 Control device for flow of fine particle stream
JP60126147A Division JPS61218816A (en) 1985-03-26 1985-06-12 Gaseous phase excitation device
JP14999285A Division JPS61220736A (en) 1985-03-26 1985-07-10 Gas phase exciting device
JP60194804A Division JPS61218809A (en) 1985-09-05 1985-09-05 Minute particle flow control apparatus
JP60225977A Division JPS61218817A (en) 1985-10-12 1985-10-12 Minute particle flow control apparatus
JP25484485A Division JPS61221377A (en) 1985-11-15 1985-11-15 Plasma cvd device
JP28110685A Division JPS61220762A (en) 1985-12-16 1985-12-16 Device for controlling flow of fine particle

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61218810A true JPS61218810A (en) 1986-09-29

Family

ID=13118439

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60059619A Pending JPS61218810A (en) 1985-03-26 1985-03-26 Minute particle flow control apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61218810A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS61218810A (en) Minute particle flow control apparatus
JPS61218815A (en) Minute particle flow control apparatus
JPS61223311A (en) Minute particle transferring apparatus
JPS61223313A (en) Minute particle flow controller
JPS61223308A (en) Minute particle flow controller
JPS61220735A (en) Control device for flow of fine particle stream
JPS62155934A (en) Vapor phase exciter
JPS61223307A (en) Minute particle flow controller
JPS61220768A (en) Method for controlling fine particle flow
JPS61223309A (en) Minute particle flow controller
JPS61218814A (en) Minute particle flow control apparatus
JPS61218812A (en) Minute particle flow control apparatus
JPS61218811A (en) Minute particle flow control apparatus
JPS61223310A (en) Minute particle flow controller
JPS61220763A (en) Method for controlling speed of fine particle flow
JPS61220766A (en) Method for controlling temperature of fine particle flow
JPS61223312A (en) Minute particle flow controller
JPS62115825A (en) Fine particle flow controller
JPS61223314A (en) Minute-particle flow control
JPS61218813A (en) Minute particle flow control apparatus
JPS61274107A (en) Flow controlling method of corruscular flow
JPS61220732A (en) Control device for flow of fine particle stream
JPS61274106A (en) Flow controlling method of corpuscular flow
JPS61220728A (en) Control device for flow of fine particle stream
JPS61220730A (en) Control device for flow of fine particle stream