JPS61220764A - Method for controlling speed of particle flow - Google Patents

Method for controlling speed of particle flow

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JPS61220764A
JPS61220764A JP8540185A JP8540185A JPS61220764A JP S61220764 A JPS61220764 A JP S61220764A JP 8540185 A JP8540185 A JP 8540185A JP 8540185 A JP8540185 A JP 8540185A JP S61220764 A JPS61220764 A JP S61220764A
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JP
Japan
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particles
chamber
nozzle
contraction
flow
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Application number
JP8540185A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuji Chiba
千葉 裕司
Kenji Ando
謙二 安藤
Tatsuo Masaki
正木 辰雄
Masao Sugata
菅田 正夫
Kuniji Osabe
長部 国志
Osamu Kamiya
神谷 攻
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To transfer fine particles under accurate control of supersonic speed by regulating the ratio of the pressures on the upstream and the down stream side of a contracting and expanding nozzle provided at the flow passage to less than the ratio of the respective critical pressures and specifying the area ratio of the openings of the throat part and the outflow part of the nozzle. CONSTITUTION:The ratio of the pressures on the upstream and the downstream side of a contracting and expanding nozzle 1 is regulated to less than the ratio of the respective critical pressures and the area ratio of the openings of the throat part 2 and the outflow part 1b of the nozzle 1 is specified. Namely, since fine particles can be independently transferred in the space as a beam of uniformly dispersed particles, the fine particles can be transferred under accurate control of supersonic speed. Accordingly, the active fine particles can be transferred to a collecting position under such conditions and the kinetic energy when the particles are blown can be precisely controlled.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、微粒子の移送や吹き付は等に利用される微粒
子流の速度制御方法に関するもので、例えば、微粒子に
よる、成膜加工、複合素材の形成、ドープ加工、または
微粒子の新たな形成場等への応用が期待されるものであ
る。
Detailed Description of the Invention [Industrial Field of Application] The present invention relates to a method for controlling the speed of a particle flow used in the transportation and spraying of particles, for example, in film-forming processing, composite processing, etc. using particles. It is expected that it will be applied to the formation of materials, doping processing, and new formation sites for fine particles.

本明細書において、微粒子とは、原子、分子、超微粒子
及び一般微粒子をいう、ここで超微粒子とは、例えば、
気相反応を利用した。ガス中蒸発法、プラズマ蒸発法、
気相化学反応法、更には液相反応を利用した、コロイド
学的な沈殿法、溶液噴霧熱分解法等によって得られる、
超微細な(一般には0.5 #Lm以下)粒子をいう、
一般微粒子とは、機械的粉砕や析出沈殿処理等の一般的
手法によって得られる微細粒子をいう、また、ビームと
は、流れ方向に断面積がほぼ一定の噴流のことをいい、
その断面形状は問わないものである。
In this specification, fine particles refer to atoms, molecules, ultrafine particles, and general fine particles. Here, ultrafine particles include, for example,
A gas phase reaction was used. Evaporation method in gas, plasma evaporation method,
Obtained by gas phase chemical reaction method, colloidal precipitation method, solution spray pyrolysis method, etc. using liquid phase reaction,
Refers to ultrafine (generally 0.5 #Lm or less) particles.
General fine particles refer to fine particles obtained by general methods such as mechanical crushing or precipitation precipitation treatment, and beam refers to a jet stream whose cross-sectional area is approximately constant in the flow direction.
Its cross-sectional shape does not matter.

[従来の技術] 一般に微粒子は、キャリアガス中に分散浮遊されて、キ
ャリアガスの流れによって移送されている。
[Prior Art] Generally, fine particles are dispersed and suspended in a carrier gas and transported by the flow of the carrier gas.

従来、上記微粒子の移送に伴う微粒子流の速度制御は、
キャリアガスと共に流れる微粒子の全流路を、管材又は
筐体で区画する一方、この区画された流路の上流側と下
流側の差圧を調整することによって行われているに過ぎ
ない。
Conventionally, the speed control of the particle flow accompanying the transport of the particles is
This is simply done by dividing the entire flow path of the particles flowing together with the carrier gas using a tube or a housing, and adjusting the differential pressure between the upstream and downstream sides of the divided flow path.

また、微粒子を基体へ吹き付ける場合等においては、ノ
ズルを介してキャリアガスと共に微粒子を噴出させるこ
とが行われている。この微粒子の吹き付けに用いられて
いるノズルは、単なる平行管又は先細ノズルで、この場
合においても噴出する微粒子流の速度制御は、ノズル前
後の差圧を調整することによって行われているに過ぎな
い。
Furthermore, when spraying fine particles onto a substrate, the fine particles are jetted out together with a carrier gas through a nozzle. The nozzle used to spray these particles is a simple parallel tube or tapered nozzle, and even in this case, the speed of the ejected particle flow is simply controlled by adjusting the differential pressure before and after the nozzle. .

[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、上記従来の単なる差圧による流速制御で
は、微粒子の流れが密度分布の大きな拡散流となり、全
体の流れについて正確な流速制御を期し難いものである
。また、差圧による制御では、差圧の大小が必ずしも流
速の大小にはつながらないので、この点からも流速の正
確な制御を期し難いものである。流速の制御が正確にで
きないと、例えば活性を有する微粒子の移送時に、移送
の遅延によって当該微粒子の活性が消失してしまったり
、微粒子の吹き付は時に、吹き付けられる微粒子の運動
エネルギーが大き過ぎたり小さ過ぎたりして、吹き付け
による膜形成等が阻害されやすくなる。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in the conventional flow rate control based on a mere differential pressure, the flow of particles becomes a diffusion flow with a large density distribution, making it difficult to accurately control the flow rate of the entire flow. Furthermore, in control based on differential pressure, the magnitude of the differential pressure does not necessarily lead to the magnitude of the flow velocity, and from this point of view as well, it is difficult to accurately control the flow velocity. If the flow rate cannot be controlled accurately, for example, when transporting active particles, the activity of the particles may disappear due to a delay in the transfer, or the kinetic energy of the particles may sometimes be too large. If it is too small, film formation by spraying, etc. is likely to be inhibited.

c問題点を解決するための手段] 上記問題点を解決するために講じられた手段を、本発明
の基本原理の説明図である第1図で説明すると、流路に
縮小拡大ノズルlを設け、このノズルlの上流側と下流
側の圧力比を臨界圧力比以下にし、前記ノズル1ののど
部2と流出口1bの開口面積比を規定して微粒子流の速
度を制御する微粒子流の速度制御方法とすることによっ
て上記問題点を解決したものである。
Measures for Solving the Problems c] Measures taken to solve the above problems are explained with reference to FIG. 1, which is an explanatory diagram of the basic principle of the present invention. , the speed of the particle flow is controlled by making the pressure ratio between the upstream side and the downstream side of the nozzle l equal to or less than the critical pressure ratio, and regulating the opening area ratio of the throat section 2 of the nozzle 1 and the outlet port 1b to control the speed of the particle flow. This control method solves the above problems.

本発明における縮小拡大ノズルlとは、流入口1aから
中間部に向って徐々に開口面積が絞られてのど部2とな
り、こののど部2から流出口1bに向って徐々に開口面
積が拡大されているノズルをいう、第1図においては、
説明の便宜上、縮小拡大ノズル1の流入側と流出側は、
各々密閉系である上流室3と下流室4に連結されている
。しかし、本発明における縮小拡大ノズルlの流入側と
流出側は、両者間に圧力比を生じさせて、キャリアガス
と共に微粒子を流過させることができれば、密閉系であ
っても開放系であってもよい。
The contracting/expanding nozzle l in the present invention is a throat section 2 whose opening area is gradually narrowed from the inlet 1a toward the middle section, and whose opening area is gradually expanded from the throat section 2 toward the outlet 1b. In Figure 1, the nozzle is
For convenience of explanation, the inflow side and outflow side of the contraction/expansion nozzle 1 are as follows.
It is connected to an upstream chamber 3 and a downstream chamber 4, each of which is a closed system. However, the inflow side and the outflow side of the contraction/expansion nozzle l in the present invention can be either a closed system or an open system as long as a pressure ratio can be created between the two and the particles can flow together with the carrier gas. Good too.

[作 用] 例えば第1図に示されるように、上流室3内に微粒子を
分散浮遊させたキャリアガスを供給する一方、下流室4
内を真空ポンプ5で排気すると、上流室3と下流室4間
の圧力比を所要の臨界圧力比以上とする。供給された微
粒子を含むキャリアガスは、この排気による差圧によっ
て、上流室3から縮小拡大ノズルlを流過して下流室4
へと流入することになる。
[Function] For example, as shown in FIG.
When the inside is evacuated by the vacuum pump 5, the pressure ratio between the upstream chamber 3 and the downstream chamber 4 is made equal to or higher than a required critical pressure ratio. The supplied carrier gas containing fine particles flows from the upstream chamber 3 through the contraction/expansion nozzle l due to the differential pressure caused by the exhaust, and flows into the downstream chamber 4.
It will flow into.

ところで縮小拡大ノズルlは、単に上流側と下流側の圧
力差に応じてキャリアガスと共に微粒子を噴出させるだ
けでなく、噴出されるキャリアガス及び微粒子の流れを
均一化する作用を成すものである。従って、この均一化
された微粒子の流れとすることによって、全体の流れ速
度の制御が容易となる。
By the way, the contraction/expansion nozzle l functions not only to eject fine particles together with the carrier gas according to the pressure difference between the upstream side and the downstream side, but also to equalize the flow of the ejected carrier gas and fine particles. Therefore, by creating this uniform flow of fine particles, the overall flow velocity can be easily controlled.

また、縮小拡大ノズルlは、上流室3の圧力P0と下流
室4の圧力Pの圧力比P/Poが臨界圧力比以上の場合
、この圧力比PiPoに応じてのど部2の開口面積AI
と流出口1bの開口面積Aとの比A/A”を適宜規定す
ることによって、キャリアガスと共に噴出する微粒子の
流れ速度を超音速下で調整できる。
In addition, when the pressure ratio P/Po between the pressure P0 of the upstream chamber 3 and the pressure P of the downstream chamber 4 is equal to or higher than the critical pressure ratio, the contraction/expansion nozzle l has an opening area AI of the throat portion 2 according to this pressure ratio PiPo.
By appropriately specifying the ratio A/A'' between the opening area A of the outflow port 1b and the opening area A of the outflow port 1b, the flow velocity of the particles ejected together with the carrier gas can be adjusted at supersonic speed.

ここで、微粒子流の速度をU、その点における音速をa
、微粒子流の比熱比をγとし、微粒子流を圧縮性の一次
元流で断熱膨張すると仮定すれば、微粒子流の到達マツ
ハ数Mは、上流室の圧力poと下流室の圧力Pとから次
式で定まり、特にP/P(1が臨界圧力比以下の場合1
Mは1以上となる。
Here, the velocity of the particle flow is U, and the sound velocity at that point is a.
, the specific heat ratio of the particle flow is γ, and assuming that the particle flow is a compressible one-dimensional flow and expands adiabatically, the Matsuha number M reached by the particle flow is expressed as follows from the pressure po in the upstream chamber and the pressure P in the downstream chamber. It is determined by the formula, especially P/P (if 1 is below the critical pressure ratio, 1
M is 1 or more.

尚、音速aは局所温度をT、気体定数をRとすると1次
式で求めることができる。
Note that the sound velocity a can be determined by a linear equation, where T is the local temperature and R is the gas constant.

a=r〒1薯「 また、流出ロ1b開ロ面積A及びのど部2の開口面積A
”とマツハ数Mには次の関係がある。
a=r〒1薯" Also, the opening area A of the outflow hole 1b and the opening area A of the throat part 2
” and Matsuha's number M have the following relationship.

従って、上流室3の圧力Poと下流室4の圧力Pの圧力
比P/P、によって(1)式から定まるマツハ数Mに応
じて開口面積比A/A・を定めることによって、拡大縮
小ノズル1から噴出する微粒子流の流速を調整できる。
Therefore, by determining the opening area ratio A/A in accordance with the Matsuzha number M determined from equation (1) by the pressure ratio P/P of the pressure Po in the upstream chamber 3 and the pressure P in the downstream chamber 4, the expansion/contraction nozzle can be The flow rate of the particulate flow ejected from 1 can be adjusted.

このときの微粒子流の速度Uは、次の(3)式によって
求めることができる。
The velocity U of the particle flow at this time can be determined by the following equation (3).

一方、上述のような超高速の流れとしてキャリアガスと
共に微粒子を一定方向へ噴出させると、キャリアガスと
微粒子は噴出直後の噴流断面をほぼ保ちながら直進し、
ビーム化される。従って、このキャリアガスによって運
ばれる微粒子の流れもビーム化され、最小限の拡散で下
流室4内の空間中を、下流室4の壁面との干渉のない空
間的に独立状態で、かつ超高速で移送されることになる
ので、速度制御が極めて正確なものとなる。
On the other hand, when particles are ejected in a fixed direction along with carrier gas as an ultra-high-speed flow as described above, the carrier gas and particles travel straight while maintaining almost the jet cross section immediately after ejection.
Beamed. Therefore, the flow of particles carried by this carrier gas is also converted into a beam, which moves through the space within the downstream chamber 4 with minimal diffusion, in a spatially independent state without interference with the wall surface of the downstream chamber 4, and at an ultra-high speed. The speed control is therefore extremely accurate.

このようなことから、例えば上流室3内で活性を有する
微粒子を形成して、これを直に縮小拡大ノズルlでビー
ム化移送したり、縮小拡大ノズルl内又は縮小拡大ノズ
ル1の直後で活性を有する微粒子を形成して、これをそ
のままビーム化移送すれば、超音速下における正確な速
度制御により、しかも空間的に独立状態にあるビームと
して移送することができ、例えば下流室4内に設けた基
体6上に良好な活性状態のまま付着捕集することができ
る。また、流れ速度が制御されたビームとして微粒子が
基板6上に吹き付けられるので、この吹き付は時の微粒
子の運動エネルギーを容易に制御できるものである。
For this reason, it is possible, for example, to form active particles in the upstream chamber 3 and transfer them directly into a beam through the contraction/expansion nozzle 1, or to activate them within the contraction/expansion nozzle 1 or immediately after the contraction/expansion nozzle 1. If fine particles having a The particles can be collected on the substrate 6 in a good active state. Furthermore, since the particles are sprayed onto the substrate 6 as a beam whose flow velocity is controlled, the kinetic energy of the particles can be easily controlled during this spraying.

[実施例] 第2図は本発明の方法を超微粒子による成膜に利用した
場合の一実施例の概略図で1図中1は縮小拡大ノズル、
3は上流室、 4aは第一下流室、4bは第二下流室で
ある。
[Example] Figure 2 is a schematic diagram of an example in which the method of the present invention is used to form a film using ultrafine particles.
3 is an upstream chamber, 4a is a first downstream chamber, and 4b is a second downstream chamber.

上流室3と第一下流室4aは、一体のユニットとして構
成されており、第一下流室4aに、やはり各々ユニット
化されたスキマー7、ゲートバルブ8及び第二下流室4
bが、全て共通した径のフランジ(以下「共通フランジ
」という)を介して、相互に連結分離可能に順次連結さ
れている。上流室3、第一下流室4a及び第二下流室4
bは、後述する排気系によって、上流室3から第二下流
室4bへと、段階的に高い真空度に保たれているもので
ある。
The upstream chamber 3 and the first downstream chamber 4a are configured as an integrated unit, and the first downstream chamber 4a is equipped with a skimmer 7, a gate valve 8, and a second downstream chamber 4, which are also each unitized.
b are sequentially connected to each other so as to be connectable and separable via flanges having a common diameter (hereinafter referred to as "common flanges"). Upstream chamber 3, first downstream chamber 4a, and second downstream chamber 4
b is maintained at a high degree of vacuum in stages from the upstream chamber 3 to the second downstream chamber 4b by an exhaust system to be described later.

上流室3の一側には、共通フランジを介して気相励起装
置9が取付けられている。この気相励起装置9は、プラ
ズマによって活性な超微粒子を発生させると共に、例え
ば水素、ヘリウム、アルゴン、窒素等のキャリアガスと
共にこの超微粒子を、対向側に位置する縮小拡大ノズル
1へと送り出すものである。この形成された超微粒子が
、上流室3の内面に付着しないよう、付着防止処理を内
面に施しておいてもよい、また、発生した超微粒子は、
上流室3に比して第一下流室4aが高い真空度にあるた
め1両者間の圧力差によって、キャリアガスと共に直に
縮小拡大ノズルl内を流過して第一下流室4aへと流れ
ることになる。
A gas phase excitation device 9 is attached to one side of the upstream chamber 3 via a common flange. This gas phase excitation device 9 generates active ultrafine particles using plasma, and sends out the ultrafine particles together with a carrier gas such as hydrogen, helium, argon, nitrogen, etc. to the contraction/expansion nozzle 1 located on the opposite side. It is. In order to prevent the formed ultrafine particles from adhering to the inner surface of the upstream chamber 3, adhesion prevention treatment may be applied to the inner surface.
Since the first downstream chamber 4a has a higher degree of vacuum than the upstream chamber 3, the pressure difference between the two causes the carrier gas to directly pass through the contraction/expansion nozzle l and flow to the first downstream chamber 4a. It turns out.

気相励起装置9は、第3図(a)に示されるように、棒
状の第一電極8aを管状の第二電極9b内に設け、第二
電極8b内にキャリアガスと原料ガスを供給して、両電
極9a、 9b間で放電させるものとなっている。また
、気相励起装置9は、第3図(b)に示されるように、
第二電極9b内に設けられている第一電極9aを条孔管
として、第一電極sa内を介して両電極9a、 9b間
にキャリアガスと原料ガスを供給するものとしたり、同
(C)に示されるように、半割管状の両電極9a、 9
bを絶縁材9cを介して管状に接合し、両電極9a、 
9bで形成された管内にキャリアガスと原料ガスを供給
するものとすることもできる。
As shown in FIG. 3(a), the gas phase excitation device 9 includes a rod-shaped first electrode 8a disposed within a tubular second electrode 9b, and a carrier gas and a raw material gas supplied into the second electrode 8b. Thus, a discharge is caused between both electrodes 9a and 9b. Further, the gas phase excitation device 9, as shown in FIG. 3(b),
The first electrode 9a provided in the second electrode 9b may be a slotted tube to supply carrier gas and raw material gas between the electrodes 9a and 9b through the inside of the first electrode sa. ), both half-tubular electrodes 9a, 9
b are joined into a tubular shape via an insulating material 9c, and both electrodes 9a,
It is also possible to supply the carrier gas and source gas into the tube formed by 9b.

縮小拡大ノズルlは、第一下流室4aの上流室3側の側
端に、上流室3に流入口1aを開口させ、第一下流室4
aに流出口1bを開口させて、上流室3内に突出した状
態で、共通フランジを介して取付けられている。但しこ
の縮小拡大ノズルlは、第一下流室4a内に突出した状
態で取付けるようにしてもよい、縮小拡大ノズルlをい
ずれに突出させるかは、移送する超微粒子の大きさ、量
、性質等に応じて選択すればよい。
The contraction/expansion nozzle l opens an inlet port 1a to the upstream chamber 3 at the side end of the first downstream chamber 4a on the upstream chamber 3 side, and the first downstream chamber 4
The outflow port 1b is opened at a, and the upstream chamber 3 is protruded into the upstream chamber 3, and is attached via a common flange. However, this contraction/expansion nozzle l may be installed in a state where it projects into the first downstream chamber 4a.The direction in which the contraction/expansion nozzle l should be projected depends on the size, amount, nature, etc. of the ultrafine particles to be transported. You can choose accordingly.

縮小拡大ノズル1としては、前述のように、流入口1a
から徐々に開口面積が絞られてのど部2となり、再び徐
々に開口面積が拡大して流出口1bとなっているもので
あればよいが、第4図(a)に拡大して示しであるよう
に、流出口lb付近の内周面が、中心軸に対してほぼ平
行であることが好ましい、これは、噴出されるキャリア
ガス及び超微粒子の流れ方向が、ある程度流出口lb付
近の内周面の方向によって影響を受けるので、できるだ
け平行流にして速度制御をしやすくするためである。
As mentioned above, the contraction/expansion nozzle 1 has an inlet port 1a.
It is sufficient if the opening area is gradually narrowed down to form the throat part 2, and then the opening area is gradually expanded again to form the outflow port 1b, which is shown enlarged in Fig. 4(a). As such, it is preferable that the inner circumferential surface near the outlet lb is approximately parallel to the central axis. This means that the flow direction of the jetted carrier gas and ultrafine particles is to some extent Since it is affected by the direction of the surface, the purpose is to make the flow as parallel as possible to facilitate speed control.

しかし、第4図(b)に示されるように、のど部2から
流出口1bへ至る内周面の中心軸に対する角度αを、7
°以下好ましくは5°以下とすれば、剥離現象を生じに
くく、噴出するキャリアガス及び超微粒子の流れはほぼ
均一に維持されるので、この場合はことさら上記平行部
を形成しなくともよい、平行部の形成を省略することに
より、縮小拡大ノズル1の作製が容易となる。また、縮
小拡大ノズルlを第4図(C)に示されるような矩形の
ものとすれば、スリット状にキャリアガス及び超微粒子
を噴出させることができる。
However, as shown in FIG. 4(b), the angle α of the inner circumferential surface extending from the throat portion 2 to the outlet 1b with respect to the central axis is 7.
If the angle is preferably 5° or less, peeling phenomenon will not easily occur and the flow of the ejected carrier gas and ultrafine particles will be maintained almost uniformly. By omitting the formation of the part, the contraction/expansion nozzle 1 can be manufactured easily. Furthermore, if the contraction/expansion nozzle l is made rectangular as shown in FIG. 4(C), carrier gas and ultrafine particles can be ejected in a slit shape.

ここで、前記剥離現象とは縮小拡大ノズルlの内面に突
起物等があった場合に、縮小拡大ノズルlの内面と流過
流体間の境界層が大きくなって、流れが不均一になる現
象をいい、噴出流が高速になるほど生じやすい、前述の
角度αは、この剥離現象防止のために、縮小拡大ノズル
lの内面仕上げ精度が劣るものほど小さくすることが好
ましい、縮小拡大ノズル1の内面は、 Jl!9801
301に定められる1表面仕上げ精度を表わす逆三角形
マークで三つ以上、最適には四つ以上が好ましい、特に
、縮小拡大ノズルlの拡大部における剥離現象が、その
後のキャリアガス及び超微粒子の流れに大きく影響する
ので、上記仕上げ精度を、この拡大部を重点にして定め
ることによって、縮小拡大ノズルlの作製を容易にでき
る。また、やはり剥離現象の発生防止のため、のど部2
は滑らかな湾曲面とし、断面積変化率における微係数が
閃とならないようにする必要がある。
Here, the separation phenomenon is a phenomenon in which when there is a protrusion etc. on the inner surface of the contraction/expansion nozzle l, the boundary layer between the inner surface of the contraction/expansion nozzle l and the flowing fluid becomes large and the flow becomes non-uniform. The above-mentioned angle α, which is more likely to occur as the jet flow becomes faster, is preferably made smaller as the inner surface finishing precision of the contraction-expansion nozzle 1 becomes lower, in order to prevent this peeling phenomenon. Ha, Jl! 9801
It is preferable to have three or more inverted triangular marks representing the surface finishing accuracy defined in 1. Therefore, by determining the finishing accuracy with emphasis on this enlarged portion, it is possible to easily manufacture the contracting/expanding nozzle l. In addition, in order to prevent the occurrence of peeling phenomenon, the throat part 2
It is necessary to have a smooth curved surface so that the differential coefficient in the rate of change of cross-sectional area does not become a flash.

縮小拡大ノズル1の材質としては、例えば鉄。The material of the contraction/expansion nozzle 1 is, for example, iron.

ステンレススチールその他の金属の他、アクリル樹脂、
ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプ
ロピレン等の合成樹脂、セラミック材料、石英、ガラス
等、広く用いることができる。この材質の選択は、生成
される超微粒子との非反応性、加工性、真空系内におけ
るガス放出性等を考慮して行えばよい、また、縮小拡大
ノズルlの内面に、超微粒子の付着・反応を生じにくい
材料をメッキ又はコートすることもできる。具体例とし
ては、ポリフッ化エチレンのコート等を挙げることがで
きる。
In addition to stainless steel and other metals, acrylic resin,
A wide variety of materials can be used, including synthetic resins such as polyvinyl chloride, polyethylene, polystyrene, and polypropylene, ceramic materials, quartz, and glass. This material can be selected by taking into consideration non-reactivity with the generated ultrafine particles, processability, gas release properties in a vacuum system, etc. - It is also possible to plate or coat with a material that does not easily cause a reaction. Specific examples include polyfluoroethylene coating.

縮小拡大ノズル1の長さは、装置の大きさ等によって任
意に定めることができる。ところで、縮小拡大ノズルl
を流過するときに、キャリアガス及び超微粒子は、保有
する熱エネルギーが運動エネルギーに変換される。そし
て、特に超音速で噴出される場合、熱エネルギーは著し
く小さくなって過冷却状態となる。従って、キャリアガ
ス中に凝縮成分が含まれている場合、上記過冷却状態に
よって積極的にこれらを凝縮させ、これによって超微粒
子を形成させることも可能である。これによる超微粒子
の形成は、均質核形成であるので、均質な超微粒子が得
やすい、また、この場合、十分な凝縮を行うために、縮
小拡大ノズル1は長い方が好ましい、一方、上記のよう
な凝縮を生ずると、これによって熱エネルギーが増加し
て速度エネルギーは低下する。従って、高速噴出の維持
を図る上では、縮小拡大ノズルlは短い方が好ましい。
The length of the contraction/expansion nozzle 1 can be arbitrarily determined depending on the size of the device and the like. By the way, the contraction/expansion nozzle l
When flowing through the carrier gas and ultrafine particles, the thermal energy they possess is converted into kinetic energy. Particularly when ejected at supersonic speed, the thermal energy becomes significantly small, resulting in a supercooled state. Therefore, if the carrier gas contains condensed components, it is also possible to actively condense them by the supercooled state, thereby forming ultrafine particles. Since the formation of ultrafine particles by this is homogeneous nucleation, it is easy to obtain homogeneous ultrafine particles.In addition, in this case, in order to achieve sufficient condensation, it is preferable that the contraction/expansion nozzle 1 is long.On the other hand, the above When such condensation occurs, thermal energy increases and velocity energy decreases. Therefore, in order to maintain high-speed jetting, it is preferable that the contraction/expansion nozzle l be short.

上流室3の圧力Paと下流室4の圧力Pの圧力比jj/
Pa・に基づき、のど部2の開口面積Jk”と流出口1
bの開口面積との比A/A◆を適宜に定めて、上記縮小
拡大ノズルl内を流過させることにより、超微粒子を含
むキャリアガスはビーム化され、第一下流室4aから第
二下流室4bへと、上記圧力比とA/A”から定まる超
高速で流れることになる。
The pressure ratio jj/ of the pressure Pa in the upstream chamber 3 and the pressure P in the downstream chamber 4
Based on Pa, the opening area Jk” of the throat 2 and the outlet 1
By appropriately determining the ratio A/A◆ of b to the opening area and causing it to flow through the contraction/expansion nozzle l, the carrier gas containing ultrafine particles is converted into a beam and flows from the first downstream chamber 4a to the second downstream chamber 4a. It flows into the chamber 4b at an extremely high speed determined from the above pressure ratio and A/A''.

スキマー7は、第二下流室4bが第一下流室4aよりも
十分高真空度を保つことができるよう、第一下流室4a
と第二下流室4bとの間の開口面積を調整できるように
するためのものである。具体的には、第5図に示される
ように、各々く字形の切欠部10,10’を有する二枚
の調整板11.11’を、切欠部1G、10’を向き合
わせてすれ違いスライド可能に設けたものとなっている
。この調整板11゜11′は、外部からスライドさせる
ことができ、両切大部10,10’の重なり具合で、ビ
ームの通過を許容しかつ第二下流室の十分な真空度を維
持し得る開口度に調整されるものである。尚、スキマー
7の切欠部1G、 10’及び調整板11.11’の形
状は、図示される形状の他、半円形その他の形状でもよ
い。
The skimmer 7 is installed in the first downstream chamber 4a so that the second downstream chamber 4b can maintain a sufficiently higher degree of vacuum than the first downstream chamber 4a.
This is to enable adjustment of the opening area between the first downstream chamber 4b and the second downstream chamber 4b. Specifically, as shown in FIG. 5, two adjustment plates 11 and 11' each having dogleg-shaped notches 10 and 10' can be slid past each other with their notches 1G and 10' facing each other. It has been established in This adjustment plate 11° 11' can be slid from the outside, and depending on the overlap between the cut portions 10 and 10', it is possible to allow the beam to pass through and maintain a sufficient degree of vacuum in the second downstream chamber. The degree of opening is adjusted. Note that the shapes of the notches 1G and 10' of the skimmer 7 and the adjustment plates 11 and 11' may be semicircular or other shapes other than the shapes shown in the drawings.

ゲートバルブ8は、ハンドル12を回すことによって昇
降される環状の弁体13を有するもので、ビーム走行時
には開放されているものである。このゲートバルブ8を
閉じることによって、上流室3及び第一下流室4a内の
真空度を保ちながら第二下流室4bのユニット交換が行
える。また、本実施例の装置において、超微粒子は第二
下流室4b内で捕集されるが、ゲートバルブ8をポール
バルブ等としておけば、特に超微粒子が酸化されやすい
金属微粒子であるときに、このポールバルブと共に第二
下流室4bのユニット交換を行うことにより、急激な酸
化作用による危険を伴うことなくユニット交換を行える
利点がある。
The gate valve 8 has an annular valve body 13 that is raised and lowered by turning a handle 12, and is opened when the beam is traveling. By closing this gate valve 8, the unit in the second downstream chamber 4b can be replaced while maintaining the degree of vacuum in the upstream chamber 3 and the first downstream chamber 4a. Further, in the apparatus of this embodiment, the ultrafine particles are collected in the second downstream chamber 4b, but if the gate valve 8 is a pole valve or the like, especially when the ultrafine particles are metal particles that are easily oxidized, By replacing the unit of the second downstream chamber 4b together with this Pall valve, there is an advantage that the unit can be replaced without the risk of rapid oxidation.

第二下流室4b内には、ビームとして移送されて来る超
微粒子を受けて付着させ、これを成膜状態で捕集するた
めの基体6が位置している。この基体6は、共通フラン
ジを介して第二下流室4bに取付けられて、シリンダ1
4によってスライドされるスライド軸15先端の基体ホ
ルダー18に取付けられている。基体6の前面にはシャ
ッター17が位置していて、必要なときはいつでもビー
ムを遮断できるようになっている。また、基体ホルダー
18は、超微粒子の捕集の最適温度条件下に基体6を加
熱又は冷却でるようになっている。
A base body 6 is located in the second downstream chamber 4b for receiving and depositing ultrafine particles transferred as a beam, and collecting the ultrafine particles in a film-formed state. This base body 6 is attached to the second downstream chamber 4b via a common flange, and is attached to the cylinder 1.
4 is attached to a base holder 18 at the tip of a slide shaft 15 that is slid by a slide shaft 15. A shutter 17 is located on the front side of the base 6, so that the beam can be blocked whenever necessary. Further, the substrate holder 18 is configured to heat or cool the substrate 6 under optimal temperature conditions for collecting ultrafine particles.

尚、上流室3及び第二下流室4bの上下には、図示され
るように各々共通フランジを介してガラス窓18が取付
けられていて、内部観察ができるようになっている。ま
た、図示はされていないが、上流室3、第一下流室4a
及び第二下流室の前後にも各々同様のガラス窓(図中の
18と同様)が共通フランジを介して取付けられている
。これらのガラス窓18は、これを取外すことによって
、共通フランジを介して各種の測定装置、ロードロック
室等と付は替えができるものである。
Incidentally, glass windows 18 are attached to the upper and lower sides of the upstream chamber 3 and the second downstream chamber 4b through common flanges, respectively, as shown in the figure, so that the inside can be observed. Although not shown, the upstream chamber 3 and the first downstream chamber 4a
Similar glass windows (similar to 18 in the figure) are also installed at the front and rear of the second downstream chamber via common flanges. These glass windows 18 can be removed and replaced with various measuring devices, load lock chambers, etc. via a common flange.

次に、本実施例における排気系について説明する。Next, the exhaust system in this embodiment will be explained.

上流室3は、圧力調整弁19を介してメインバルブ20
aに接続されている。第一下流室4aは直接メインバル
ブ20aに接続されており、このメインバルブ20aは
真空ポンプ5aに接続されている・第二下流室4bはメ
インバルブ20bに接続されており、更にこのメインバ
ルブ20bは真空ポンプ5bに接続されている。尚、2
1a、 21bは、各々メインバルブ20a、 20b
のすぐ上流側にあらびきバルブ22a、 22bを介し
て接続されていると共に、補助バルブ23a。
The upstream chamber 3 is connected to a main valve 20 via a pressure regulating valve 19.
connected to a. The first downstream chamber 4a is directly connected to the main valve 20a, and this main valve 20a is connected to the vacuum pump 5a.The second downstream chamber 4b is connected to the main valve 20b, and further this main valve 20b is connected to the vacuum pump 5b. Furthermore, 2
1a and 21b are main valves 20a and 20b, respectively.
The auxiliary valve 23a is connected to the immediate upstream side of the auxiliary valve 22a and 22b.

23bを介して真空ポンプ5aに接続された減圧ポンプ
で、上流室3、第一下流室4a及び第二下流室4b内の
あらびきを行うものである。尚、24a〜24hは、各
室3 、4a、 4b及びポンプ5a、 5b、 21
a、 21bのリーク及びパージ用バルブである拳 まず、あらびきバルブ21a、 21bと圧力調整弁1
8を開いて、上流室3、第−及び第二下流室4a、 4
b内のあらびきを減圧ポンプ20a、 20bで行う0
次いで、あらびきバルブ21a、 21bを閉じ、補助
バルブ23a、 23b及びメインバルブ20a、 2
0bを開いて、真空ポンプ5a、 5bで上流室3、第
−及び第二下流室4a、 4b内を十分な真空度とする
。このとき、圧力am弁L8の開度を調整することによ
って、上流室3より第一下流室4aの真空度を高くし、
次にキャリアガス及び原料ガスを流し、更に第一下流室
4aより第二下流室4bの真空度が高くなるよう、スキ
マー7で調整する。この調整は、メインバルブ20bの
開度調整で行うこともできる。そして、超微粒子の形成
並びにそのビーム化噴射による成膜作業中を通じて、各
室3 、4a、 4bが一定の真空度を保つよう制御す
る。この制御は、手動でもよいが、各室3 、4a、 
4b内の圧力を検出して、この検出圧力に基づいて圧力
調整弁13、メインバルブ20a、 20b、スキマー
7等を自動的に開閉制御することによって行ってもよい
The vacuum pump 23b is connected to the vacuum pump 5a and is used to check the inside of the upstream chamber 3, the first downstream chamber 4a, and the second downstream chamber 4b. In addition, 24a-24h are each chamber 3, 4a, 4b and pump 5a, 5b, 21
The leak and purge valves 21a and 21b are leak and purge valves 21a and 21b, and the pressure regulating valve 1.
8, the upstream chamber 3, the first and second downstream chambers 4a, 4
0 The irregularities in b are performed using the vacuum pumps 20a and 20b.
Next, the auxiliary valves 23a, 23b and the main valves 20a, 2 are closed.
0b is opened and the vacuum pumps 5a and 5b are used to create a sufficient degree of vacuum in the upstream chamber 3 and the first and second downstream chambers 4a and 4b. At this time, by adjusting the opening degree of the pressure am valve L8, the degree of vacuum in the first downstream chamber 4a is made higher than that in the upstream chamber 3,
Next, the carrier gas and the raw material gas are flowed, and the skimmer 7 is used to adjust the degree of vacuum in the second downstream chamber 4b to be higher than that in the first downstream chamber 4a. This adjustment can also be performed by adjusting the opening degree of the main valve 20b. The chambers 3, 4a, and 4b are controlled to maintain a constant degree of vacuum throughout the formation of ultrafine particles and the film forming operation by beam injection. This control may be done manually, but each room 3, 4a,
This may be done by detecting the pressure inside 4b and automatically controlling the opening and closing of the pressure regulating valve 13, main valves 20a, 20b, skimmer 7, etc. based on the detected pressure.

上記真空度の制御は、上流室3と第一下流室4aの真空
ポンプ5aを各室3,4a毎に分けて設けて制御を行う
ようにしてもよい、しかし、本実施例のように、一台の
真空ポンプ5aでビームの流れ方向に排気し、上流室3
と第一下流室4aの真空度を制御するようにすると、多
少真空ポンプ5aに脈動等があっても1両者間の圧力比
を一定に保ちやすい、従って、この圧力比の変動の影響
を受けやすい流れ状態を、一定に保ちやすい利点がある
The degree of vacuum may be controlled by separately providing the vacuum pumps 5a for the upstream chamber 3 and the first downstream chamber 4a for each chamber 3 and 4a. However, as in this embodiment, One vacuum pump 5a evacuates in the flow direction of the beam, and the upstream chamber 3
By controlling the degree of vacuum of the first downstream chamber 4a and the first downstream chamber 4a, it is easy to keep the pressure ratio between the two constant even if there is some pulsation in the vacuum pump 5a. It has the advantage of being easy to maintain a constant flow state.

真空ポンプ5a、 5bによる吸引は、特に第−及び第
二下流室4a、 4bにおいては、その上方より行うこ
とが好ましい、上方から吸引を行うことによって、ビー
ムの重力による降下をある程度抑止することができる。
The suction by the vacuum pumps 5a, 5b is preferably performed from above, especially in the first and second downstream chambers 4a, 4b.By suctioning from above, the descent of the beam due to gravity can be suppressed to some extent. can.

本実施例に係る装置は以上のようなものであるが、次の
ような変更が可能である。
Although the apparatus according to this embodiment is as described above, the following modifications can be made.

まず、縮小拡大ノズルlは、上下左右への傾動や一定間
隔でのスキャン可能とすることもでき、広い範囲に亘っ
て成膜を行えるようにすることもできる。特にこの傾動
やスキャンは、第4図(C)の矩形ノズルと組合わせる
と有利である。
First, the contraction/expansion nozzle l can be tilted vertically and horizontally, and can be scanned at regular intervals, so that film formation can be performed over a wide range. Particularly, this tilting and scanning is advantageous when combined with the rectangular nozzle shown in FIG. 4(C).

縮小拡大ノズル1を石英等の絶縁体で形成し。The contraction/expansion nozzle 1 is formed of an insulator such as quartz.

そこにマイクロ波を付与して、縮小拡大ノズル1内で活
性超微粒子を形成したり、透光体で形成して紫外、赤外
、レーザー光等の各種の波長を持つ光を流れに照射する
こともできる。また、縮小拡大ノズルlを複数個設けて
、一度に複数のビームを発生させることもできる。特に
、複数個の縮小拡大ノズルlを設ける場合、各々独立し
た上流室3に接続しておくことによって、異なる微粒子
のビームを同時に走行させることができ、異なる微粒子
の積層又は混合捕集や、ビーム同志を交差させることに
よる。異なる微粒子同志の衝突によって、新たな微粒子
を形成させることも可能となる。
Microwaves are applied there to form active ultrafine particles in the contraction/expansion nozzle 1, or a transparent material is used to irradiate the flow with light having various wavelengths such as ultraviolet, infrared, and laser light. You can also do that. It is also possible to provide a plurality of contraction/expansion nozzles l to generate a plurality of beams at once. In particular, when a plurality of contraction/expansion nozzles l are provided, by connecting each to an independent upstream chamber 3, beams of different particles can be run at the same time. By crossing comrades. It is also possible to form new particles by collisions between different particles.

基体6を、上下左右に移動可能又は回転可能に保持し、
広い範囲に亘ってビームを受けられるようにすることも
できる。また、基体6をロール状ニ巻取って、これを順
次送り出しながらビームを受けるようにすることによっ
て、長尺の基体6に微粒子による処理を施すこともでき
る。更には、ドラム状の基体6を回転させながら微粒子
による処理を施してもよい。
The base body 6 is held movably or rotatably in the vertical and horizontal directions,
It is also possible to receive the beam over a wide range. Further, by winding up the base body 6 into two rolls and receiving the beam while sequentially sending out the base body 6, the long base body 6 can also be treated with fine particles. Furthermore, the treatment with fine particles may be performed while rotating the drum-shaped base 6.

本実施例では、発生室3、第一下流室4a及び第二下流
室4bで構成されているが、第二下流室4bを省略した
り、第二下流室の下流側に更に第三。
In this embodiment, the generation chamber 3, the first downstream chamber 4a, and the second downstream chamber 4b are constructed, but the second downstream chamber 4b may be omitted, or a third downstream chamber may be provided downstream of the second downstream chamber.

第四・・・・・・下流室を接続することもできる。また
、上流室3を加圧すれば、第一下流室4aは開放系とす
ることができ、第一下流室4aを減圧して上流室3を開
放系とすることもできる。特にオートクレーブのように
、上流室3を加圧し、第一下流室4a以下を減圧するこ
ともできる。
Fourth...downstream chambers can also be connected. Further, by pressurizing the upstream chamber 3, the first downstream chamber 4a can be made into an open system, and by reducing the pressure in the first downstream chamber 4a, the upstream chamber 3 can be made into an open system. In particular, like an autoclave, the upstream chamber 3 can be pressurized and the first downstream chamber 4a and below can be depressurized.

本実施例では、上流室3で活性な超微粒子を形成してい
るが、必ずしもこのような必要はなく。
In this embodiment, active ultrafine particles are formed in the upstream chamber 3, but this is not necessarily necessary.

別途形成した微粒子を上流室3ヘキヤリアガスと共に送
り込むようにしてもよい、また、縮小拡大ノズル1を開
閉する弁を設け、上流室3側に一時微粒子を溜めながら
、上記弁を断続的に開閉して、微粒子を得ることもでき
る。前記縮小拡大ノズル1ののど部2を含む下流側で行
うエネルギー付与と同期させて、上記弁を開閉すれば、
排気系の負担が大幅に低減されると共に、原料ガスの有
効利用を図りつつパルス状の微粒子流を得ることができ
る。尚、同一排気条件下とすれば、上述の断続的開閉の
方が、下流側を高真空に保持しゃすい利点がある。断続
的開閉の場合、上流室3と縮小拡大ノズル1の間に、微
粒子を一時溜める室を設けておいてもよい。
Separately formed particles may be sent to the upstream chamber 3 along with the carrier gas.Also, a valve for opening and closing the contraction/expansion nozzle 1 may be provided, and the valve may be intermittently opened and closed while temporarily storing the particles in the upstream chamber 3. , fine particles can also be obtained. If the valve is opened and closed in synchronization with energy application on the downstream side including the throat portion 2 of the contraction/expansion nozzle 1,
The load on the exhaust system is significantly reduced, and a pulsed particulate flow can be obtained while making effective use of the raw material gas. Note that under the same exhaust conditions, the above-mentioned intermittent opening and closing has the advantage that it is easier to maintain a high vacuum on the downstream side. In the case of intermittent opening and closing, a chamber may be provided between the upstream chamber 3 and the contraction/expansion nozzle 1 to temporarily store fine particles.

また、縮小拡大ノズル1を複数個直列位置に配し、各々
上流側と下流側の圧力比を調整して、ビーム速度の維持
を図ったり、各室を球形化して、デッドスペースの発生
を極力防止することもできる。
In addition, multiple contraction/expansion nozzles 1 are arranged in series, and the pressure ratio on the upstream side and downstream side is adjusted to maintain the beam speed, and each chamber is made spherical to minimize the generation of dead space. It can also be prevented.

[発明の効果] 本発明によれば、微粒子を均一な分散状態の超音速のビ
ームとして空間的に独立した状態で移送することができ
るので、超音速の正確な速度制御下で微粒子を移送する
ことができる。従って、活性微粒子をそのままの状態で
捕集位置まで確実に移送できると共に、その吹き付は時
の運動エネルギーを正確に制御することができる。また
、ビームという集束した超高速平行流となることや、ビ
ーム化されるときに熱エネルギーが運動エネルギーに変
換されて、ビーム内の微粒子は凍結状態となるので、こ
れらを利用した新しい反応場を得ることにも大きな期待
を有するものである。更に、本発明の速度制御方法によ
れば、上記凍結状態になることから、流体中の分子のミ
クロな状態を規定し、一つの状態からある状態への遷移
を取り扱うことも可能である。即ち、分子の持つ各種の
エネルギー準位までも規定し、その準位に相当するエネ
ルギーを付与するという、新たな方式による気相の化学
反応が可能である。また、従来とは異なるエネルギー授
受の場が提供されることにより、水素結合やファンデア
ワールス結合等の比較的弱い分子間力で形成される分子
間化合物を容。
[Effects of the Invention] According to the present invention, fine particles can be transported in a spatially independent state as a uniformly dispersed supersonic beam, so that fine particles can be transported under precise supersonic velocity control. be able to. Therefore, the active particles can be reliably transported as they are to the collection position, and the kinetic energy of the spraying can be accurately controlled. In addition, it becomes a focused ultra-high-speed parallel flow called a beam, and when it is made into a beam, thermal energy is converted to kinetic energy, and the particles in the beam become frozen, so we can create a new reaction field that utilizes these. I have high hopes for what I will achieve. Furthermore, according to the speed control method of the present invention, since the fluid is in the frozen state, it is also possible to define the microscopic state of molecules in the fluid and handle the transition from one state to another state. In other words, it is possible to perform chemical reactions in the gas phase using a new method in which various energy levels of molecules are defined and energy corresponding to the levels is imparted. In addition, by providing a field for energy transfer that is different from conventional methods, it is possible to support intermolecular compounds formed by relatively weak intermolecular forces such as hydrogen bonds and van der Waals bonds.

易に生み出すこともできる。It can also be easily produced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の基本原理の説明図、第2図は本発明の
方法を超微粒子による成膜に利用した場合の一実施例を
示す概略図、第3図(a)〜(c)は各々気相励起装置
の例を示す図、第4図(a)〜(c)は各々縮小拡大ノ
ズルの形状例を示す図、第5図はスキマーの説明図であ
る。 1:縮小拡大ノズル、1a:流入口、 lb=流出口、2:のど部、3:上流室、4:下流室、
4a:第一下流室、 4b=第二下流室、5 、5a、 5b:真空ポンプ、
6:基体、7:スキマー、8:ゲートバルブ。 9:気相励起装置、8a:第一電極。 8b:第二電極、10.10’ :切欠部。 11、11’ :調整板、12:ハンドル、13:弁体
、14ニジリンダ、15ニスライド軸、 16二基体ホルダー、17:シャッター、18ニガラス
窓、19:圧力調整弁、 20a、 20b:メインバルブ。 21a、 21b:減圧ポンプ、 22a、 22b:あらびきバルブ。 23a、 23b:補助バルブ、 24a〜24h:リーク及びパージ用バルブ。
Fig. 1 is an explanatory diagram of the basic principle of the present invention, Fig. 2 is a schematic diagram showing an example in which the method of the present invention is applied to film formation using ultrafine particles, and Figs. 3 (a) to (c). 4(a) to 4(c) are diagrams each showing an example of the shape of a contraction/expansion nozzle, and FIG. 5 is an explanatory diagram of a skimmer. 1: contraction/expansion nozzle, 1a: inlet, lb=outlet, 2: throat, 3: upstream chamber, 4: downstream chamber,
4a: first downstream chamber, 4b=second downstream chamber, 5, 5a, 5b: vacuum pump,
6: Base, 7: Skimmer, 8: Gate valve. 9: Gas phase excitation device, 8a: First electrode. 8b: second electrode, 10.10': notch. 11, 11': Adjustment plate, 12: Handle, 13: Valve body, 14 Niji cylinder, 15 Ni slide shaft, 16 Bi base holder, 17: Shutter, 18 Ni glass window, 19: Pressure adjustment valve, 20a, 20b: Main valve . 21a, 21b: Decompression pump, 22a, 22b: Arabiki valve. 23a, 23b: Auxiliary valves, 24a to 24h: Leak and purge valves.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1)流路に縮小拡大ノズルを設け、このノズルの上流側
と下流側の圧力比を臨界圧力比以下にし、前記ノズルの
のど部と流出口の開口面積比を規定して微粒子流の速度
を制御することを特徴とする微粒子流の速度制御方法。
1) A contraction/expansion nozzle is provided in the flow path, the pressure ratio on the upstream side and the downstream side of this nozzle is made equal to or less than the critical pressure ratio, and the opening area ratio between the throat and the outlet of the nozzle is defined to control the velocity of the particulate flow. A method for controlling the velocity of a particulate flow, characterized by controlling the velocity of a particulate flow.
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