JPS61223313A - Minute particle flow controller - Google Patents

Minute particle flow controller

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Publication number
JPS61223313A
JPS61223313A JP60060841A JP6084185A JPS61223313A JP S61223313 A JPS61223313 A JP S61223313A JP 60060841 A JP60060841 A JP 60060841A JP 6084185 A JP6084185 A JP 6084185A JP S61223313 A JPS61223313 A JP S61223313A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
flow
chamber
particles
contraction
downstream
Prior art date
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Pending
Application number
JP60060841A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Ando
謙二 安藤
Yuji Chiba
千葉 裕司
Tatsuo Masaki
正木 辰雄
Masao Sugata
菅田 正夫
Kuniji Osabe
長部 国志
Osamu Kamiya
神谷 攻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
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Priority to FR8604251A priority patent/FR2579487B1/en
Priority to DE19863610299 priority patent/DE3610299A1/en
Priority to GB8607606A priority patent/GB2175709B/en
Publication of JPS61223313A publication Critical patent/JPS61223313A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To obtain plural stripes of uniform flows of minute particles and the flow beams consisting of the minute particles by installing a plurality of contraction and expansion nozzles into a flow passage. CONSTITUTION:A plurality of contraction and expansion nozzles 1 in which the opened port area is gradually reduced from an inflow port 1a to form a throat part 2 and the opened port area is gradually increased towards an effluence port 1b from the throat part 2 are installed into a flow passage. With such constitution, plural stripes of uniform flows of minute particles can be obtained, and the minute particles can be sprayed uniformly over the wide range on a substrate 6.

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野] 本発明は、微粒子の移送手段や吹き付は手段等として利
用される微粒子流の流れ制御装置に関するもので、例え
ば、微粒子による、成膜加工、複合素材の形成、ドープ
加工、または微粒子の新たな形成場等への応用が期待さ
れるものである。
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a flow control device for a particle flow that is used as a means for transporting or spraying particles. It is expected to be applied to the formation of composite materials, doping processing, and new formation sites for fine particles.

本明細書において、微粒子とは、原子、分子。In this specification, fine particles refer to atoms and molecules.

超微粒子及び一般微粒子をいう。ここで超微粒子とは、
例えば、気相反応を利用した、ガス中蒸発法、プラズマ
蒸発法、気相化学反応法、更には液相反応を利用した、
コロイド学的な沈殿法、溶液噴霧熱分解法等によって得
られる、超微細な(一般には0.5 gm以下)粒子を
いう。一般微粒子とは、機械的粉砕や析出沈殿処理等の
一般的f法によって得られる微細粒子をいう。また、ビ
ームとは、流れ方向に断面積がほぼ−・定の噴流のこと
をいい、その断面形状は問わないものである。
Refers to ultrafine particles and general fine particles. What are ultrafine particles here?
For example, in-gas evaporation method, plasma evaporation method, gas phase chemical reaction method, which utilizes gas phase reaction, and even liquid phase reaction,
Refers to ultrafine particles (generally 0.5 gm or less) obtained by colloidal precipitation methods, solution spray pyrolysis methods, etc. General fine particles refer to fine particles obtained by a general f method such as mechanical crushing or precipitation treatment. Furthermore, a beam refers to a jet stream whose cross-sectional area is approximately constant in the flow direction, and its cross-sectional shape does not matter.

[従来の技術] 一殻に微粒子は、キャリアガス中に分散浮遊されて、キ
ャリアガスの流れによって移送されている。
[Prior Art] Fine particles in one shell are dispersed and suspended in a carrier gas and transported by the flow of the carrier gas.

従来、ト記微粒子の移送に伴う微粒子の流れ制御は、h
流側と下流側の差圧によって、キャリアガスと共に流れ
る微粒子の全流路を、管材又は筐体で区画することによ
って行われているに過ぎない。従って、微粒子の流れは
、その強弱はあるものの必然的に、微粒子の流路を区画
する管材又は筐体内全体に分散した状態で生ずることに
なる。
Conventionally, the control of the flow of fine particles accompanying the transport of the fine particles described in
This is simply achieved by dividing the entire flow path of the particles flowing together with the carrier gas with a pipe or a housing based on the differential pressure between the flow side and the downstream side. Therefore, although the flow of particles varies in strength and weakness, the flow of particles inevitably occurs in a dispersed state throughout the pipe material or casing that defines the flow path for particles.

また、微粒子を基体へ吹き付ける場合等においては、ノ
ズルを介してキャリアガスと共に微粒子を噴出させるこ
とが行われている。この微粒子の吹き付けに用いられて
いるノズルは、巾なる平行管又は先細ノズルで、確かに
噴出直後の微粒子の噴流断面はノズル端目面の面積に応
じて絞られる。しかし、噴流はノズルの出口面で拡散さ
れるので、単に−・時的に流路を絞っただけのものに過
ぎず、また噴流の速度が音速を越えることはない。
Furthermore, when spraying fine particles onto a substrate, the fine particles are jetted out together with a carrier gas through a nozzle. The nozzle used for spraying the fine particles is a wide parallel tube or a tapered nozzle, and the jet cross section of the fine particles immediately after being ejected is narrowed according to the area of the nozzle end face. However, since the jet is diffused at the exit surface of the nozzle, the flow path is simply narrowed down temporarily, and the speed of the jet does not exceed the speed of sound.

[発明が解決しようとする問題点] ところで、微粒子の全流路を管材又は筐体で区画し、−
に流側と下流側の差圧によって、この流路に沿ってキャ
リアガスと共に微粒子を移送するのでは、それほど高速
の移送速度は望み得ない。ま・    た、微粒子の流
路を区画する管材や筐体の壁面と微粒子の接触を、全移
送区間に亘って避は難い。
[Problems to be Solved by the Invention] By the way, it is possible to divide the entire flow path of fine particles with a pipe material or a casing, and -
If the fine particles are transported along this flow path together with the carrier gas by the differential pressure between the flow side and the downstream side, a very high transport speed cannot be expected. Furthermore, it is difficult to avoid contact between the particles and the walls of the casing and pipes that define the flow path of the particles throughout the entire transfer section.

このため、特に活性を有する微粒子をその捕集位置まで
移動させる際に、経時的活性の消失や、管材や筐体の壁
面との接触による活性の消失を生みやすい問題がある。
For this reason, there is a problem in that, particularly when moving active fine particles to a collection position, the activity tends to disappear over time or due to contact with the tube material or the wall surface of the casing.

また、管材や筐体で微粒子の全流路を区画したのでは、
流れのデッドスペースの発生等によって、移送微粒子の
捕集率が低下し低fし、多縫の微粒子を移送するには不
向きである。
In addition, if the entire flow path of particles is divided by pipe material or housing,
Due to the generation of dead spaces in the flow, the collection rate of transported particles decreases, resulting in low f, making it unsuitable for transporting multi-stitched particles.

一方、従来のf行管や先細ノズルは、流過した噴流内の
微粒子の密度分布が大きい拡散流となる。従って、微粒
子を基体へ吹き付ける場合等において、均一な吹き付は
制御が行い難い問題がある。また、均一な吹き付は領域
の制御も困難で、広い領域への吹き付けが行いにくいと
いう問題もある。
On the other hand, conventional f-line tubes and tapered nozzles produce a diffused flow in which the density distribution of fine particles in the jet flow is large. Therefore, when spraying fine particles onto a substrate, it is difficult to control uniform spraying. Furthermore, it is difficult to control the area for uniform spraying, and there is also the problem that it is difficult to spray over a wide area.

[問題点を解決するための手段] L記問題点を解決するために講じられた手段を、本発明
の基本原理の説明図である第1図で説明すると、波路に
複数の縮小拡大ノズルlを設けた微粒子流の流れ制御装
置で、微粒子の流れを均一化した複数条のものとし、か
つ各微粒子の流れをビーム化できるようにしたことによ
って上記問題点を解決したものである。
[Means for Solving the Problems] The measures taken to solve the problems in item L are explained with reference to FIG. 1, which is an explanatory diagram of the basic principle of the present invention. This is a particle flow control device equipped with a plurality of stripes that uniformize the flow of particles, and the above-mentioned problems are solved by making it possible to form a beam of each particle flow.

本発明における縮小拡大ノズル1とは、流入口1aから
中間部に向って徐々に開口面積が絞られてのど部2とな
り、こののど部2から流出口1bに向って徐々に開口面
積が、拡、大されているノズルをいう。第1図において
は、説明の便宜」二、縮小拡大ノズル1の流入側と流出
側は、各々密閉系である1−流室3と下流室4に連結さ
れている。しかし、本発明における縮小拡大ノズルlの
流入側と流出側は、両者間に差圧を生じさせて、キャリ
アガスと共に微粒子を流過させることができれば、密閉
系であっても開放系であってもよい。また、第1図にお
いては三個の縮小拡大ノズルlを設けであるが、この縮
小拡大ノズルlは二個又は四個以上であってもよい。
The contracting/expanding nozzle 1 in the present invention is a throat portion 2 whose opening area is gradually narrowed from the inlet 1a toward the middle portion, and whose opening area gradually increases from the throat portion 2 toward the outlet 1b. , refers to a nozzle that is enlarged. In FIG. 1, for convenience of explanation, the inlet and outlet sides of the contraction/expansion nozzle 1 are connected to a flow chamber 3 and a downstream chamber 4, respectively, which are closed systems. However, the inflow side and the outflow side of the contraction/expansion nozzle l in the present invention can be either a closed system or an open system as long as a pressure difference is generated between the two and the particles can flow together with the carrier gas. Good too. Further, in FIG. 1, three contracting/expanding nozzles l are provided, but the number of contracting/expanding nozzles l may be two or four or more.

[作 用]、。[Created by].

例えば第1図に示されるように、上流室3内に微粒子を
分散浮遊させたキャリアガスな供給する一方、下流室4
内を真空ポンプ5で排気すると、上流室3と下流室41
111に圧力差を生じる。従って、供給された微粒子を
含むキャリアガスは、上流室3から各縮小拡大ノズル1
を流過して下流室4へと流入することになる。
For example, as shown in FIG.
When the inside is evacuated by the vacuum pump 5, the upstream chamber 3 and the downstream chamber 41
A pressure difference is created at 111. Therefore, the supplied carrier gas containing fine particles is transferred from the upstream chamber 3 to each contraction/expansion nozzle 1.
, and flows into the downstream chamber 4.

ところで各縮小拡大ノズルlは、単にに流側と下流側の
圧力差に応じてキャリアガスと共に微粒子を噴出させる
だけでなく、噴出されるキャリアガス及び微粒子の流れ
を均一化する作用を成すものである。従って、この均一
化された複数条の微粒子の流れによって、基体6」二へ
微粒子を吹きイ・1けるようにすれば、基体6上の広い
範囲へ均一に微粒子を吹き付けることができる。
By the way, each contraction/expansion nozzle l functions not only to eject fine particles together with carrier gas according to the pressure difference between the upstream side and the downstream side, but also to equalize the flow of the ejected carrier gas and fine particles. be. Therefore, if the particles are sprayed onto the substrate 6 by the uniform flow of the plurality of particles, the particles can be uniformly sprayed over a wide range on the substrate 6.

また、各縮小拡大ノズルlは、上流室3と下流室4内の
圧力比と、のど部2の開口面積aと流出口1bの開口面
積Aとの比A/aとを調節することによって、キャリア
ガスと共に噴出する微粒子の流れを高速化できる。そし
て、上流室3と下流室4内の圧力比が臨界圧力比未満で
あれば、縮小拡大ノズルlの出口流速が亜音速以下の流
れとなり、キャリアガスと共に微粒子は減速噴出される
。また、上記圧力比が臨界圧力比以上であれば、縮小拡
大ノズルlの出口流速は超音速流となり、キャリアガス
と共に微粒子を超高速にて噴出させることができる。
In addition, each contraction/expansion nozzle l adjusts the pressure ratio in the upstream chamber 3 and the downstream chamber 4, and the ratio A/a between the opening area a of the throat portion 2 and the opening area A of the outflow port 1b. The flow of fine particles ejected together with carrier gas can be sped up. If the pressure ratio in the upstream chamber 3 and the downstream chamber 4 is less than the critical pressure ratio, the flow velocity at the outlet of the contraction/expansion nozzle l becomes a subsonic flow or less, and the particles are decelerated and ejected together with the carrier gas. Further, if the pressure ratio is equal to or higher than the critical pressure ratio, the outlet flow velocity of the contraction/expansion nozzle l becomes a supersonic flow, and the fine particles can be ejected together with the carrier gas at a super high speed.

]−述のような圧力比が臨界圧力比未満の噴出において
は、噴出されるキャリアガスと微粒子は均一な拡散流と
なり、比較的広い範囲に亘って一度に均一に微粒子を吹
き付けることが可能となる。
] - In ejection where the pressure ratio is less than the critical pressure ratio, the ejected carrier gas and fine particles form a uniform diffusion flow, making it possible to uniformly spray the fine particles over a relatively wide area at once. Become.

一方、前述のような超高速の流れとしてキャリアガスと
共に微粒子を一定方向へ噴出させると、キャリアガスと
微粒子は噴出直後の噴流断面をほぼ保ちながら直進し、
ビーム化される。従って、このキャリアガスによって運
ばれる微粒子の各流れもビーム化され、最小限の拡散で
下流室4内の空間中を、下流室4の壁面との干渉のない
空間的・     に独立状態で、かつ超高速で移送さ
れることになる。
On the other hand, when particles are ejected in a fixed direction along with carrier gas as an ultra-high-speed flow as described above, the carrier gas and particles travel straight while maintaining almost the jet cross section immediately after ejection.
Beamed. Therefore, each flow of fine particles carried by this carrier gas is also converted into a beam, which travels through the space in the downstream chamber 4 with minimal diffusion, in a spatially independent state without interference with the wall surface of the downstream chamber 4, and It will be transported at super high speed.

このようなことから、例えば−に流室3内で活性を有す
る微粒子を形成して、これを直に各縮小拡大ノズルlで
ビーム化移送したり、各縮小拡大ノズルl内又は各縮小
拡大ノズルlの直後で活性を有する微粒子を形成して、
これをそのままビーム化移送すれば、超音速による、し
かも空間的に独ヘシ:状態にある複数条のビームとして
移送することができ、例えば′F′流室4内に設けた基
体6Fに付着捕集することができる。従って、良好な活
性状態のまま多鼠の微粒子を捕集することが可能となる
。また、噴流断面が流れ方向にほぼ・定の複数条のビー
ムとして微粒子が基板6上に吹き付けられるので、この
吹き付は領域を、複数条のビーム照射面積を合わせた広
い範囲に亘って容易に制御できるものである。
For this reason, for example, it is possible to form active fine particles in the flow chamber 3 and transfer them directly into a beam by each contraction/expansion nozzle l, or to Forming active microparticles immediately after l,
If this beam is transferred as it is, it can be transferred as multiple beams at supersonic speed and in a spatially stable state. can be collected. Therefore, it is possible to collect fine particles of many mice in a good active state. In addition, since the fine particles are sprayed onto the substrate 6 as multiple beams whose jet cross section is approximately constant in the flow direction, this spraying can easily cover a wide range including the irradiation area of the multiple beams. It is something that can be controlled.

[実施例] 第2図は本発明を超微粒子による成膜装置に利用した場
合の・実施例の概略図で、図中1は縮小拡大ノズル、3
は」−流室、4aは第一下流室、4bは第−rfi室で
ある。
[Example] Fig. 2 is a schematic diagram of an example in which the present invention is applied to a film forming apparatus using ultrafine particles.
4a is the first downstream chamber, and 4b is the RFI chamber.

]二流室3と第・F流室4aは、一体のユニットとして
構成されており、第−下流室4aに、やはり各々ユニッ
ト化されたスキマー7、ゲートバルブ8及び第一下流室
4bが、全て共通した径のフランジ(以下「共通フラン
ジ」という)を介して、相互に連結分離可能に順次連結
されている。]−流室3、第一下流室4a及び第二下流
室4bは、後述する排気系によって、上流室3から第二
下流室4bへと、段階的に高い真空度に保たれているも
のである。
] The second flow chamber 3 and the F-th flow chamber 4a are configured as an integrated unit, and the skimmer 7, gate valve 8, and first downstream chamber 4b, which are also each unitized, are all in the second downstream chamber 4a. They are sequentially connected to each other so that they can be connected and separated through flanges having a common diameter (hereinafter referred to as "common flanges"). ] - The flow chamber 3, the first downstream chamber 4a, and the second downstream chamber 4b are maintained at a high degree of vacuum in stages from the upstream chamber 3 to the second downstream chamber 4b by an exhaust system described below. be.

I―流室3の一側には、共通フランジを介して気相励起
装置9が取付けられている。この気相励起装置9は、プ
ラズマによって活性な超微粒子を発生させると共に、例
えば水素、ヘリウム、アルゴン、窒素等のキャリアガス
と共にこの超微粒子を、対向側に位置する3個の縮小拡
大ノズルlへと送り出すものである。この形成された超
微粒子が、上流室3の内面に付着しないよう、付着時1
1z処理を内面に施しておいてもよい。また、発生した
超微粒子は、上流室3に比して第一下流室4aが高い真
空度にあるため、両者間の圧力差によりて、キャリアガ
スと共に直に各縮小拡大ノズルl内を流過して第一下流
室4aへと流れることになる。
A gas phase excitation device 9 is attached to one side of the I-flow chamber 3 via a common flange. This gas phase excitation device 9 generates active ultrafine particles by plasma, and sends the ultrafine particles together with a carrier gas such as hydrogen, helium, argon, nitrogen, etc. to three contracting and expanding nozzles l located on opposite sides. This is what I send out. To prevent the formed ultrafine particles from adhering to the inner surface of the upstream chamber 3,
The inner surface may be subjected to 1z treatment. Furthermore, since the first downstream chamber 4a has a higher degree of vacuum than the upstream chamber 3, the generated ultrafine particles directly flow through each contraction/expansion nozzle l along with the carrier gas due to the pressure difference between the two. Then, it flows to the first downstream chamber 4a.

気相励起装置9は、第3図(a)に示されるように、棒
状の第一電極8aを管状の第二電極8b内に設け、第一
二電極8b内にキャリアガスと原料ガスを供給して、両
型8i9a、9b間で放電させるものとなっている。ま
た、気相励起装置9は、第3図(b)に示されるように
、第一電極8b内に設けられている第一電極9aを多孔
管として、第一電極8a内を介して両電極9a、 9b
間にキャリアガスと原料ガスを供給するものとしたり、
同(c)に示されるように、半割管状の両電極9a、 
9bを絶縁材9cを介して管状に接合し、両電極9a、
 8bで形成Xれた管内にキャリアガスと原料ガスを供
給するものとすることもできる。
As shown in FIG. 3(a), the gas phase excitation device 9 includes a rod-shaped first electrode 8a inside a tubular second electrode 8b, and supplies carrier gas and source gas into the first second electrode 8b. Thus, a discharge is caused between the two types 8i9a and 9b. In addition, as shown in FIG. 3(b), the gas phase excitation device 9 has a first electrode 9a provided in the first electrode 8b as a porous tube, and both electrodes are connected through the inside of the first electrode 8a. 9a, 9b
A carrier gas and a raw material gas may be supplied between the two.
As shown in (c), both half-tubular electrodes 9a,
9b are joined into a tubular shape via an insulating material 9c, and both electrodes 9a,
It is also possible to supply the carrier gas and the raw material gas into the tube formed in 8b.

各縮小拡大ノズルlは、第一・ド流室4aの]−流室3
側の側端に、1−流室3に流入111aを開11させ、
第一下流室4aに流出[11bを開1」させて、]―流
室3内に突出した状態で、共通フランジを介して取付け
られている。但しこれらの縮小拡大ノズルlは、第・F
流室4a内に突出した状1ハ1で取付けるようにしたり
、]−流室3内に突出したものとド流室4d内に突出し
たものを混在させてもよい。各縮小拡大ノズル1をいず
れに突出させるかは、移送する超微粒子の大きさ、量、
性質等に応じて選択すればよい。
Each contraction/expansion nozzle l is connected to the first/de flow chamber 4a]-flow chamber 3
At the side end of the side, an inflow 111a is opened 11 into the flow chamber 3,
It is attached via a common flange in a state where it projects into the flow chamber 3 by causing the flow to flow out into the first downstream chamber 4a [11b is opened 1'']. However, these contraction/expansion nozzles l are
It is also possible to attach them with a shape that protrudes into the flow chamber 4a, or to have a mixture of those that protrude into the flow chamber 3 and those that protrude into the flow chamber 4d. The direction in which each contraction/expansion nozzle 1 should protrude depends on the size and amount of the ultrafine particles to be transported.
It may be selected depending on the characteristics etc.

縮小拡大ノズル1としては、前述のように、流入口1a
から徐々に開口面積が絞られてのど部2となり、再び徐
々に開口面積が拡大して流出口1bとなっているもので
あればよいが、第4図(a)に拡大して示しであるよう
に、流出口lb付近の内周面が、中心軸に対してほぼモ
行であることが好ましい。これは、噴出されるキャリア
ガス及び超微粒子の流れ方向が、ある程度流出口lb付
近の内周面の方向によって影響を受けるので、できるだ
け平行流にさせやすくするためである。しかし、第41
    図(b)に示されるように、のど部2から流出
口1bへ至る内周面の中心軸に対する角度αを、7°以
下好ましくは5°以下とすれば、剥離現象を生じにくく
、噴出するキャリアガス及び超微粒子の流れはほぼ均一
に維持されるので、この場合はことさら]―記平行部を
形成しなくともよい。平行部の形成を省略することによ
り、縮小拡大ノズルlの作製が容易となる。また、縮小
拡大ノズルlを第4図(C)に示されるような矩形のも
のとすれば、スリット状にキャリアガス及び超微粒子を
噴出させることができる。
As mentioned above, the contraction/expansion nozzle 1 has an inlet port 1a.
It is sufficient if the opening area is gradually narrowed down to form the throat part 2, and then the opening area is gradually expanded again to form the outflow port 1b, which is shown enlarged in Fig. 4(a). As such, it is preferable that the inner circumferential surface in the vicinity of the outlet port lb is substantially parallel to the central axis. This is because the direction of flow of the carrier gas and ultrafine particles to be ejected is influenced to some extent by the direction of the inner circumferential surface near the outlet lb, so that it is possible to make the flow parallel to each other as easily as possible. However, the 41st
As shown in Figure (b), if the angle α of the inner circumferential surface from the throat portion 2 to the outlet 1b with respect to the central axis is set to 7° or less, preferably 5° or less, the peeling phenomenon is less likely to occur and the gushing is prevented. Since the flow of the carrier gas and the ultrafine particles is maintained substantially uniformly, it is not necessary to form the parallel portion in this case. By omitting the formation of the parallel portion, the contraction/expansion nozzle 1 can be manufactured easily. Furthermore, if the contraction/expansion nozzle l is made rectangular as shown in FIG. 4(C), carrier gas and ultrafine particles can be ejected in a slit shape.

ここで、前記剥離現象とは縮小拡大ノズルlの内面に突
起物等があった場合に、縮小拡大ノズルlの内面と流過
流体間の境界層が大きくなって、流れが不均一になる現
象をいい、噴出流が高速になるほど生じやすい。前述の
角度αは、この剥離現象防+Lのために、縮小拡大ノズ
ルlの内面仕Fげ精度が劣るものほど小さくすることが
好ましい。縮小拡大ノズル1の内面は、JIS B 0
801に定められる、表面仕にげ精度を表わす逆三角形
マークで三つ以−ヒ、最適には四つ以上が好ましい。特
に、縮小拡大ノズルlの拡大部における剥離現象が、そ
の後のキャリアガス及び超微粒子の流れに大きく影響す
るので、L記仕トげ精度を、この拡大部を重点にして定
めることによって、縮小拡大ノズル1の作製を容易にで
きる。また、やはり剥離現象の発生防止のため、のど部
2は滑らかな湾曲面とし、断面積変化率における微係数
が■とならないようにする必要がある。
Here, the separation phenomenon is a phenomenon in which when there is a protrusion etc. on the inner surface of the contraction/expansion nozzle l, the boundary layer between the inner surface of the contraction/expansion nozzle l and the flowing fluid becomes large and the flow becomes non-uniform. The faster the jet flow, the more likely it is to occur. In order to prevent this peeling phenomenon +L, the above-mentioned angle α is preferably made smaller as the inner surface finishing precision of the contraction/expansion nozzle l is inferior. The inner surface of the contraction/expansion nozzle 1 is JIS B 0.
801, three or more inverted triangular marks representing surface finish accuracy, and optimally four or more are preferred. In particular, the separation phenomenon at the enlarged part of the contraction/expansion nozzle l greatly affects the subsequent flow of carrier gas and ultrafine particles. The nozzle 1 can be easily manufactured. Furthermore, in order to prevent the occurrence of a peeling phenomenon, the throat portion 2 needs to have a smooth curved surface so that the differential coefficient in the rate of change in cross-sectional area does not become ■.

縮小拡大ノズルlの材質としては、例えば鉄。The material of the contraction/expansion nozzle l is, for example, iron.

ステンレススチールその他の金属の他、アクリル樹脂、
ポリfl化ビニル、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ
プロピレン等の合成樹脂、セラミック材料、石英、ガラ
ス等、広く用いることができる。この材質の選択は、生
成される超微粒子との非反応性、加工性、真空系内にお
けるガス放出性等を考慮して行えばよい。また、縮少拡
大ノズルlの内面に、超微粒子の付着・反応を生じにく
い材料をメッキ又はコートすることもできる。具体例と
しては、ポリフッ化エチレンのコート等を挙げることが
できる。
In addition to stainless steel and other metals, acrylic resin,
A wide variety of materials can be used, including synthetic resins such as polyvinyl fluoride, polyethylene, polystyrene, and polypropylene, ceramic materials, quartz, and glass. This material may be selected in consideration of non-reactivity with the generated ultrafine particles, processability, gas release properties in a vacuum system, etc. Furthermore, the inner surface of the contraction/expansion nozzle l can be plated or coated with a material that is less likely to cause adhesion or reaction of ultrafine particles. Specific examples include polyfluoroethylene coating.

縮小拡大ノズルlの長さは、装置の大きさ等゛によって
任意に定めることができる。ところで、各縮小拡大ノズ
ル1を流過するときに、キャリアガス及び超微粒子は、
保有する熱エネルギーが運動エネルギーに変換される。
The length of the contraction/expansion nozzle l can be arbitrarily determined depending on the size of the apparatus, etc. By the way, when flowing through each contraction/expansion nozzle 1, the carrier gas and ultrafine particles are
The retained thermal energy is converted into kinetic energy.

そして、特に超音速で噴出される場合、熱エネルギーは
著しく小さくなって過冷却状態となる。従って、キャリ
アガス13゜ 中に凝縮成分が含まれている場合、上記過冷却状態によ
って積極的にこれらを凝縮させ、これによって超微粒子
を形成させることも可能である。
Particularly when ejected at supersonic speed, the thermal energy becomes significantly small, resulting in a supercooled state. Therefore, if the carrier gas 13° contains condensed components, it is also possible to actively condense them by the supercooled state, thereby forming ultrafine particles.

これによる超微粒子の形成は、均質核形成であるので、
均質な超微粒子が得やすい。また、この場合、十分な凝
縮を行うために、各縮小拡大ノズルlは長い方が好まし
い。一方、上記のような凝縮を生ずると、これによって
熱エネルギーが増加して速度エネルギーは低下する。従
って、高速噴出の維持を図る上では、各縮小拡大ノズル
lは短い方が好ましい。
The formation of ultrafine particles by this is homogeneous nucleation, so
Easy to obtain homogeneous ultrafine particles. Moreover, in this case, in order to perform sufficient condensation, it is preferable that each contraction/expansion nozzle l be long. On the other hand, when condensation occurs as described above, thermal energy increases and velocity energy decreases. Therefore, in order to maintain high-speed jetting, it is preferable that each contraction/expansion nozzle l be short.

E流室3と下流室4内の圧力比と、のど部2の開口面積
aと流出口1bの開口面積との比A/aとの関係を適宜
に調整して、上記各縮小拡大ノズル1内を流過させるこ
とにより、超微粒子を含むキャリアガスはビーム化され
、第一下流室4aから第二下流室4bへと超高速で流れ
ることになる。
By appropriately adjusting the relationship between the pressure ratio in the flow chamber 3 and the downstream chamber 4 and the ratio A/a between the opening area a of the throat section 2 and the opening area of the outlet 1b, each of the above-mentioned contracting and expanding nozzles 1 By flowing through the inside, the carrier gas containing the ultrafine particles is made into a beam and flows at an extremely high speed from the first downstream chamber 4a to the second downstream chamber 4b.

スキマー7は、第二下流室4bが第一下流室4aよりも
十分高真空度を保つことができるよう、第一下流室4a
と第二下流室4bとの間の開口面積を調整できるように
するためのものである。具体的には、第5図に示される
ように、各々〈字形の切欠部10,10′を有する二枚
の調整板11.11′を、切欠部10.10′を向き合
わせてすれ違いスライド可能に設けたものとなっている
。この調整板11゜lドは、外部からスライドさせるこ
とができ、両切架部10.10′の重なり具合で、ビー
ムの通過を許容しかつ第二F流室の十分な真空度を維持
し得る開口度に調整されるものである。尚、スキマー7
の切欠部10.10′及び調整板11.11”の形状は
、図示される形状の他、半円形その他の形状でもよい。
The skimmer 7 is installed in the first downstream chamber 4a so that the second downstream chamber 4b can maintain a sufficiently higher degree of vacuum than the first downstream chamber 4a.
This is to enable adjustment of the opening area between the first downstream chamber 4b and the second downstream chamber 4b. Specifically, as shown in FIG. 5, two adjusting plates 11 and 11' each having a letter-shaped notch 10 and 10' can be slid past each other with their notches 10 and 10' facing each other. It has been established in This adjustment plate 11° can be slid from the outside, and allows the passage of the beam and maintains a sufficient degree of vacuum in the second F flow chamber depending on the overlap between the two cutout portions 10 and 10'. It is adjusted to the degree of opening desired. In addition, skimmer 7
The shape of the notch 10.10' and the adjustment plate 11.11'' may be semicircular or other shapes other than the shape shown in the drawings.

ゲートバルブ8は、ハンドル12を回すことによって昇
降される堰状の弁体13を有するもので、ビーム走行時
には開放されているものである。このゲートバルブ8を
閉じることによって、上流室3及び第一下流室4a内の
真空度を保ちながら第二下流室4bのユニット交換が行
える。また、本実施例の装置において、超微粒子は第二
下流室4b内で捕集されるが、ゲートバルブ8をポール
バルブ等としておけば、特に超微粒子が酸化されやすい
金属微粒子であるときに、このポールバルブと共に第二
下流室4bのユニット交換を行うことにより、急激な酸
化作用による危険を伴うことなくユニット交換を行える
利点がある。
The gate valve 8 has a weir-shaped valve body 13 that is raised and lowered by turning a handle 12, and is open when the beam is traveling. By closing this gate valve 8, the unit in the second downstream chamber 4b can be replaced while maintaining the degree of vacuum in the upstream chamber 3 and the first downstream chamber 4a. Further, in the apparatus of this embodiment, the ultrafine particles are collected in the second downstream chamber 4b, but if the gate valve 8 is a pole valve or the like, especially when the ultrafine particles are metal particles that are easily oxidized, By replacing the unit of the second downstream chamber 4b together with this Pall valve, there is an advantage that the unit can be replaced without the risk of rapid oxidation.

第二下流室4b内には、ビームとして移送されて来る超
微粒子を受けて付着させ、これを成膜状態で捕集するた
めの基体6が位置している。この基体6は、共通フラン
ジを介して第二f流室4bに取付けられて、シリンダ1
4によってスライドされるスライド軸15先端の基体ホ
ルダー16に取付けられている。基体6の前面にはシャ
ッター17が位置していて、必要なときはいつでもビー
ムを遮断できるようになっている。また、基体ホルダー
16は。
A base body 6 is located in the second downstream chamber 4b for receiving and depositing ultrafine particles transferred as a beam, and collecting the ultrafine particles in a film-formed state. This base body 6 is attached to the second f flow chamber 4b via a common flange, and is attached to the cylinder 1.
4 is attached to a base holder 16 at the tip of a slide shaft 15 that is slid by a slide shaft 15. A shutter 17 is located on the front side of the base 6, so that the beam can be blocked whenever necessary. Moreover, the substrate holder 16 is.

超微粒子の捕集の最適温度条件下に基体6を加熱又は冷
却でるようになっている。
The substrate 6 can be heated or cooled under optimal temperature conditions for collecting ultrafine particles.

尚、−上流室3及び第二下流室4bの上下には、図示さ
れるように各々共通フランジを介してガラス窓18が取
付けられていて、内部観察ができるようになっている。
As shown in the figure, glass windows 18 are attached to the upper and lower sides of the upstream chamber 3 and the second downstream chamber 4b through common flanges, respectively, so that the inside can be observed.

また1図示はされていないが、ヒ流室3、第一下流室4
a及び第二下流室の前後にも各々同様のガラス窓(図中
の18と同様)が共通フランジを介して取付けられてい
る。これらのガラス窓18は、これを取外すことによっ
て、共通フランジを介して各種の測定装置、ロードロッ
ク室等と付は替えができるものである。
In addition, although not shown, there is a first flow chamber 3 and a first downstream chamber 4.
Similar glass windows (similar to 18 in the figure) are attached to the front and rear of the a and second downstream chambers via common flanges. These glass windows 18 can be removed and replaced with various measuring devices, load lock chambers, etc. via a common flange.

次に、本実施例における排気系について説明する。Next, the exhaust system in this embodiment will be explained.

上流室3は、圧力調整弁18を介してメインバルブ20
aに接続されている。第一下流室4aは直接メインバル
ブ20aに接続されており、このメインバルブ20aは
真空ポンプ5aに接続されている。第二下流室4bはメ
インバルブ20bに接続されており、更にこのメインバ
ルブ20bは真空ポンプ5bに接続されている。尚、2
1a、 21bは、各々メインバルブ20a、 20b
のすぐ上流側にあらびきバルブ22a、 22bを介し
て接続されていると共に、補助バルブ23a。
The upstream chamber 3 is connected to a main valve 20 via a pressure regulating valve 18.
connected to a. The first downstream chamber 4a is directly connected to a main valve 20a, and this main valve 20a is connected to a vacuum pump 5a. The second downstream chamber 4b is connected to a main valve 20b, which in turn is connected to a vacuum pump 5b. Furthermore, 2
1a and 21b are main valves 20a and 20b, respectively.
The auxiliary valve 23a is connected to the immediate upstream side of the auxiliary valve 22a and 22b.

23bを介して真空ポンプ5aに接続された減圧ポンプ
で、−上流室3、第一下流室4a及び第二下流室4b内
のあらびきを行うものである。尚、24a〜24hは、
各室3 、4a、 4b及びポンプ5a、 5b、 2
1a、 21bのリーク及びパージ用バルブである。
This is a decompression pump connected to the vacuum pump 5a via 23b, and is used to check the inside of the upstream chamber 3, the first downstream chamber 4a, and the second downstream chamber 4b. In addition, 24a to 24h are
Each chamber 3, 4a, 4b and pump 5a, 5b, 2
1a and 21b are leak and purge valves.

まず、あらびきバルブ21a、 21bと圧力調整弁1
8を開いて、JZ流室3、第−及び第二下流室4a、 
4b内のあらびきを減圧ポンプ20a、 2Qbで行う
。次いで、あらびきバルブ21a、 21bを閉じ、補
助バルブ23a、 23b及びメインバルブ20a、 
20bを開いて、真空ポンプ5a、 5bで下流室3、
第−及び第一 ド流室4a、 4b内をト分な真空度と
する。このとき、圧力調節弁19の開度を調整すること
によって、上流室3より第一下流室4aの真空度を高く
し、次にキャリアガス及び原料ガスを流し、更に第一下
流室4aより第一下流室4aの真空度が高くなるよう、
スキマー7で調整する。この調整は、メインバルブ20
bの開度調整で行うこともできる。そして、超微粒子の
形成並びにそのビーム化噴射による1&膜作業中を通じ
て、各室3 、4a、 4bが一定の真空度を保つよう
制御する。この制御は1手動でもよいが、各室3 、4
a、 4b内の圧力を検出して、この検出圧力に基づい
て圧力調整弁19、メインバルブ20a、 20b、ス
キマー7等を自動的に開閉制御することによって行って
もよい。
First, the interference valves 21a and 21b and the pressure regulating valve 1
8, the JZ flow chamber 3, the first and second downstream chambers 4a,
4b is carried out using the vacuum pumps 20a and 2Qb. Next, the auxiliary valves 21a, 21b are closed, and the auxiliary valves 23a, 23b and the main valve 20a,
20b is opened, and the downstream chamber 3 is opened using the vacuum pumps 5a and 5b.
The insides of the first and second flow chambers 4a and 4b are made to have a sufficient degree of vacuum. At this time, by adjusting the opening degree of the pressure control valve 19, the degree of vacuum in the first downstream chamber 4a is made higher than that in the upstream chamber 3, and then the carrier gas and raw material gas are caused to flow, and then the first downstream chamber 4a is In order to increase the degree of vacuum in the first downstream chamber 4a,
Adjust with skimmer 7. This adjustment is performed using main valve 20.
This can also be done by adjusting the opening degree of b. The chambers 3, 4a, and 4b are controlled to maintain a constant degree of vacuum throughout the formation of ultrafine particles and the 1&film operation by beam injection. This control may be done manually, but each room has 3, 4
This may be done by detecting the pressure inside the valves a and 4b and automatically controlling the opening and closing of the pressure regulating valve 19, the main valves 20a and 20b, the skimmer 7, etc. based on the detected pressure.

上記真空度の制御は、上流室3と第一・下流室4aの真
空ポンプ5aを各室3,4a毎に分けて設けて制御を行
うようにしてもよい。しかし、本実施例のように、一台
の真空ポンプ5aでビームの流れ方向に排気し、上流室
3と第一下流室4aの真空度を制御するようにすると、
多少真空ポンプ5aに脈動等があっても、両者間の圧力
差を一定に保ちやすい。従って、この差圧の変動の影響
を受けやすい流れ状態を、一定に保ちやすい利点がある
The degree of vacuum may be controlled by separately providing vacuum pumps 5a for the upstream chamber 3 and the first and downstream chambers 4a for each chamber 3, 4a. However, as in this embodiment, if one vacuum pump 5a is used to evacuate in the direction of beam flow and the degree of vacuum in the upstream chamber 3 and the first downstream chamber 4a is controlled,
Even if there is some pulsation in the vacuum pump 5a, it is easy to keep the pressure difference between the two constant. Therefore, there is an advantage that it is easy to maintain a constant flow state that is susceptible to fluctuations in differential pressure.

真空ポンプ5a、 5bによる吸引は、特に第−及び・
    第二下流室4a、 4bにおいては、その上方
より行うことが好ましい。上方から吸引を行うことによ
って、ビームの重力による降下をある程度抑止すること
ができる。
The suction by the vacuum pumps 5a, 5b is especially
In the second downstream chambers 4a and 4b, it is preferable to carry out the treatment from above. By suctioning from above, it is possible to prevent the beam from falling due to gravity to some extent.

本実施例に係る装置は以上のようなものであるが、次の
ような変更が可能である。
Although the apparatus according to this embodiment is as described above, the following modifications can be made.

まず、縮小拡大ノズルlは、上下左右への傾動や一定間
隔でのスキャン可能とすることもでき、19゜ より広い範囲に亘って成膜を行えるようにすることもで
きる。特にこの傾動やスキャンは、第4図(c)の矩形
ノズルと組合わせると有利である。
First, the contraction/expansion nozzle l can be tilted vertically and horizontally, and can be scanned at regular intervals, and can also be configured to form a film over a wider range than 19 degrees. This tilting and scanning is especially advantageous when combined with the rectangular nozzle shown in FIG. 4(c).

縮小拡大ノズルlを石英等の絶縁体で形成し、そこにマ
イクロ波を付午して、縮小拡大ノズルl内で活性超微粒
子を形成したり、透光体で形成して紫外、赤外、レーザ
ー光等の各種の波長を持つ光を流れに照射することもで
きる。また、縮小拡大ノズルlを複数個設けて、−・度
に複数のビームを発生させることもできる。各縮小拡大
ノズルlは、相互に平行に配置するだけでなく、ビーム
が基体6の一箇所に集中されるよう、傾斜させて配置す
ることもできる。また、各拡大縮小ノズルlを各々独立
した一L流室3に接続してお、くことによって、異なる
微粒子のビームを同時に走行させることができ、異なる
微粒子の積層又は混合捕集や、ビーム同志を交差させる
ことによる、異なるゝ微粒子同志の衝突によって、新た
な微粒子を形成させることも可能となる。
The contraction/expansion nozzle l is formed of an insulator such as quartz, and microwaves are applied thereto to form active ultrafine particles inside the contraction/expansion nozzle l, or ultraviolet, infrared, or transparent material is formed of a translucent material. The flow can also be irradiated with light having various wavelengths, such as laser light. It is also possible to provide a plurality of contraction/expansion nozzles l to generate a plurality of beams at a time. The contraction/expansion nozzles l can be arranged not only in parallel to each other, but also at an angle so that the beam is concentrated in one place on the base 6. In addition, by connecting each enlargement/contraction nozzle l to an independent one-L flow chamber 3, beams of different particles can be run simultaneously, allowing stacking or mixed collection of different particles, It is also possible to form new particles through collisions between different particles by crossing them.

基体6を、上下左右に移動可能又は回転可能に保持し、
より広い範囲に亘ってビームを受けられるようにするこ
ともできる。、1また、基体6をロールμsに巻取って
、これを順次送り出しながらビーム、を受けるようにす
ることによって、長尺の基体6に微粒子による処理を施
すこともできる。更に1は、ド?ム状の基体6を回転さ
せながら微粒子による処理を施してもよい。     
  ・本実施例では、発生室3、第−下7流室4a及び
第二下流室4bで構成されているが、第二下\流室4b
を省略したり、第二下流室の下流側に更に第三。
The base body 6 is held movably or rotatably in the vertical and horizontal directions,
It is also possible to receive the beam over a wider range. , 1 Furthermore, a long substrate 6 can be treated with fine particles by winding the substrate 6 into a roll μs and receiving the beam while sequentially sending out the substrate 6. Furthermore, 1 is Do? The treatment with fine particles may be performed while rotating the mu-shaped base 6.
・In this embodiment, it is composed of the generation chamber 3, the seventh lower flow chamber 4a, and the second downstream chamber 4b, but the second lower flow chamber 4b
or omit a further third downstream of the second downstream chamber.

第四・・・・・・下流室を接続することもできる。また
、上。流室13を加圧すれば、第・i下流室4aは開放
系とすることができ、第一下流室軸を減圧して上、流室
3を開放系とすることもできる。特にオートクレ、−ブ
のように、上流室3を加圧、し、1第=下流室4a以、
下を減圧する。こともで、きる、 、−・     □
・本実施例では、上流室3で活性な超微粒、子を形成、
して、いるが、必ずしもこのような必要は、なく、別1
途形成した微粒子を上流室3ヘキヤリアガ・スと共に送
り込、む、ようにしてもよい。また、各縮小、拡、。
Fourth...downstream chambers can also be connected. Also, above. By pressurizing the flow chamber 13, the i-th downstream chamber 4a can be made into an open system, and by reducing the pressure on the axis of the first downstream chamber, the flow chamber 3 can also be made into an open system. In particular, like an autoclave, the upstream chamber 3 is pressurized, and the first = downstream chamber 4a and beyond,
Depressurize the bottom. I can do it, , -・ □
・In this example, active ultrafine particles and particles are formed in the upstream chamber 3,
However, there is no need for this, and there is another one.
The fine particles formed during the process may be sent to the upstream chamber 3 together with the gas. Also, each reduction, expansion, etc.

2 l、 大ノズルlを開閉する弁を設け、hm室3側に一時微粒
子を溜めながら、L配弁を断続的に開閉して、微粒子を
得ることもできる。前記縮小拡大ノズル1ののど部2を
含む下流側で行うエネルギー付ケと同期させて、上記弁
を開閉すれば、排気系の負担が大幅に低減されると共に
、原料ガスの・有効利用を図りつつパルス状の微粒子流
を得ることができる。尚、同一排気条件下とすれば、L
述の断続的開閉の方が、下流側を高真空に保持し′やす
い利点、がある。断続的開閉の場合、上流室3と縮小拡
大ノズルlの間に、微粒子を一時溜める室を設けておい
てもよい、。
2. It is also possible to obtain fine particles by providing a valve for opening and closing the large nozzle L, and by intermittently opening and closing the L valve while temporarily storing fine particles in the hm chamber 3 side. By opening and closing the valve in synchronization with the energy application performed on the downstream side including the throat portion 2 of the contraction/expansion nozzle 1, the load on the exhaust system can be significantly reduced, and the raw material gas can be used more effectively. It is possible to obtain a pulse-like particle flow at the same time. Furthermore, under the same exhaust conditions, L
The intermittent opening and closing described above has the advantage that it is easier to maintain a high vacuum on the downstream side. In the case of intermittent opening and closing, a chamber for temporarily storing fine particles may be provided between the upstream chamber 3 and the contraction/expansion nozzle l.

また、各縮小・拡大ノズルlを複数個流れ方向に直列位
置に配し、各々−L流側と下流側の圧・力比を調整して
、ビーム速度の維持を図ったり、各室・を球形化して、
デッドスペースめ発生を極力病IE゛する・こ゛ともで
きる。
In addition, multiple contraction/expansion nozzles L are arranged in series in the flow direction, and the pressure/force ratio between the -L flow side and the downstream side is adjusted to maintain the beam speed and to maintain the beam speed in each chamber. Become spherical,
It is also possible to minimize the occurrence of dead space.

[発明の効”果] 本発明によれば、“微粒子を均一な分散゛状態の複数条
の超音速の・ビームとして移送することができるので、
空間的に独立した状IEでかつ多量の微粒子−を一度に
移送することができる。従って、多量の活性微粒子−を
そのままの状態で捕集位置まで確実に移送できると共に
、ビームの照射面を制御することによって、その吹き付
は領域を、複数条のビーム照射面積を合わせた広い範囲
に亘って正確に制御することができる。また、ビームと
いう集束した超高速平行流となることや、ビーム化され
るときに熱エネルギーが運動エネルギーに変換されて、
ビーム内の微粒子は凍結状態となるので、これらを利用
した新しい反応場を得ることにも大きな期待を有するも
のである。更に、本発明の流れ制御装置によれば、上記
凍結状態になることから、流体中の分子のミクロな状態
を規定し、一つの状態からある状態への遷移を取り扱う
ことも可能である。即ち、分子の持つ各種のエネルギー
準位までも規定し、その準位に相当するエネルギーを付
榮するという、新たな方式による気相の化学反応が可能
である。また、従来とは異なるエネルギー授受の場が提
供されることにより、水素結合やファンデアワールス結
合等の比較的弱い分子間で形成される分子−間化合物を
容易に生み出すこともできる。
[Effects of the Invention] According to the present invention, fine particles can be transported as a plurality of supersonic beams in a uniformly dispersed state.
A large amount of fine particles can be transported at once with spatially independent IEs. Therefore, it is possible to reliably transport a large amount of active particles as they are to the collection position, and by controlling the irradiation surface of the beam, the spray can cover a wide area including the irradiation area of multiple beams. can be precisely controlled over the entire range. In addition, it becomes a focused ultra-high-speed parallel flow called a beam, and when it is made into a beam, thermal energy is converted to kinetic energy.
Since the particles in the beam are frozen, there are great expectations for the creation of new reaction fields using them. Furthermore, according to the flow control device of the present invention, since the fluid is in the frozen state, it is also possible to define the microscopic state of molecules in the fluid and handle the transition from one state to another state. In other words, it is possible to perform chemical reactions in the gas phase using a new method in which various energy levels of molecules are defined and energy corresponding to the levels is applied. In addition, by providing a field for energy exchange different from the conventional one, intermolecular compounds formed between relatively weak molecules such as hydrogen bonds and van der Waals bonds can be easily generated.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の基本原理の説明図、第2図は本発明を
超微粒子による成膜装置に利用した場合の一実施例を示
す概略図、第3図(a)〜(C)は各々気相励起装置の
例を示す図、第4図(a)〜(c)は各々縮小拡大ノズ
ルの形状例を示す図、第5図はスキマーの説明図である
。 1:縮小拡大ノズル、1a:流入口、 lb二波流出口2:のど部、3:に流室、4:下流室、
4a:第一下流室、 4b:第−F流室、5 、5a、 5b:真空ポンプ、
6:基体、7:スキマー、8:ゲートバルブ、9:気相
励起装置、9a:第一電極、 8b:第一電極、10.10′:切欠部、+I、 II
′:調整板、12:ハンドル、13:弁体、14ニジリ
ンダ、15ニスライド軸、 16二基体ホルダー、17:シャッター、18ニガラス
窓、18:圧力調整弁、 20a、 20b:メインバルブ、 21a、 21b :減圧ポンプ、 22a、 22b:あらびきバルブ、 23a、 23b:補助バルブ、 24a〜24h:リーク及びパージ用バルブ。
Figure 1 is an explanatory diagram of the basic principle of the present invention, Figure 2 is a schematic diagram showing an embodiment of the present invention applied to a film forming apparatus using ultrafine particles, and Figures 3 (a) to (C) are 4A to 4C are diagrams each showing an example of the shape of a contraction/expansion nozzle, and FIG. 5 is an explanatory diagram of a skimmer. 1: contraction/expansion nozzle, 1a: inlet, lb dual wave outlet 2: throat, 3: flow chamber, 4: downstream chamber,
4a: First downstream chamber, 4b: -Fth flow chamber, 5, 5a, 5b: Vacuum pump,
6: Substrate, 7: Skimmer, 8: Gate valve, 9: Gas phase excitation device, 9a: First electrode, 8b: First electrode, 10.10': Notch, +I, II
': Adjustment plate, 12: Handle, 13: Valve body, 14 Niji cylinder, 15 Ni slide shaft, 16 Two base holder, 17: Shutter, 18 Ni glass window, 18: Pressure adjustment valve, 20a, 20b: Main valve, 21a, 21b: Decompression pump, 22a, 22b: Arabiki valve, 23a, 23b: Auxiliary valve, 24a to 24h: Leak and purge valve.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1)流路に複数の縮小拡大ノズルを設けたことを特徴と
する微粒子流の流れ制御装置。
1) A flow control device for a particle flow, characterized in that a plurality of contraction/expansion nozzles are provided in a flow path.
JP60060841A 1985-03-26 1985-03-27 Minute particle flow controller Pending JPS61223313A (en)

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