JPS61220763A - Method for controlling speed of fine particle flow - Google Patents

Method for controlling speed of fine particle flow

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JPS61220763A
JPS61220763A JP8540085A JP8540085A JPS61220763A JP S61220763 A JPS61220763 A JP S61220763A JP 8540085 A JP8540085 A JP 8540085A JP 8540085 A JP8540085 A JP 8540085A JP S61220763 A JPS61220763 A JP S61220763A
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particles
contraction
flow
downstream chamber
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Yuji Chiba
千葉 裕司
Kenji Ando
謙二 安藤
Tatsuo Masaki
正木 辰雄
Masao Sugata
菅田 正夫
Kuniji Osabe
長部 国志
Osamu Kamiya
神谷 攻
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Abstract

PURPOSE:To transfer under accurate control of supersonic speed by regulating the ratio of pressures on the upstream and the downstream side of a contracting and expanding nozzle provided at the flow passage to less than the ratio of the critical pressures. CONSTITUTION:The ratio of the pressures on the upstream and the downstream side of a contracting and expanding nozzle 1 is regulated to less than the ratio of the respective critical pressures. Consequently, since fine particles can be transferred independently in the space as a supersonic beam of uniformly dispersed fine particles, the fine particles can be transferred under accurate control of supersonic speed. Accordingly, the active fine particles can be transferred to a collecting position under such conditions and the kinetic energy when the particles are blown can be precisely controlled.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、微粒子の移送や吹き付は等に利用される微粒
子流の速度制御方法に関するもので、例えば、微粒子に
よる、成膜加工、複合素材の形成、ドープ加工、または
微粒子の新たな形成場等への応用が期待されるものであ
る。
Detailed Description of the Invention [Industrial Field of Application] The present invention relates to a method for controlling the speed of a particle flow used in the transportation and spraying of particles, for example, in film-forming processing, composite processing, etc. using particles. It is expected that it will be applied to the formation of materials, doping processing, and new formation sites for fine particles.

本明細書において、微粒子とは、原子1分子、超微粒子
及び一般微粒子をいう。ここで超微粒子とは1例えば、
気相反応を利用した、ガス中蒸発法、プラズマ蒸発法、
気相化学反応法、更には液相反応を利用した、コロイド
学的な沈殿法、溶液噴霧熱分解法等によって得られる、
超微細な(一般には0.51Lm以下)粒子をいう。一
般微粒子とは、4I!械的粉砕や析出沈殿処理等の一般
的手法によって得られ、る微細粒子をいう、また、ビー
ムとは、流れ方向に断面積がほぼ一定の噴流のことをい
い、その断面形状は問わないものである。
In this specification, fine particles refer to one atomic molecule, ultrafine particles, and general fine particles. Here, ultrafine particles are 1. For example,
Evaporation method in gas, plasma evaporation method using gas phase reaction,
Obtained by gas phase chemical reaction method, colloidal precipitation method, solution spray pyrolysis method, etc. using liquid phase reaction,
Refers to ultrafine (generally 0.51 Lm or less) particles. General fine particles are 4I! A beam is a jet stream whose cross-sectional area is approximately constant in the flow direction, and its cross-sectional shape does not matter. It is.

[従来の技術] 一般に微粒子は、キャリアガス中に分散浮遊されて、キ
ャリアガスの流れによって移送されている。
[Prior Art] Generally, fine particles are dispersed and suspended in a carrier gas and transported by the flow of the carrier gas.

従来、上記微粒子の移送に伴う微粒子流の速度制御は、
キャリアガスと共に流れる微粒子の全流路を、管材又は
筐体で区画する一方、この区画された流路の上流側と下
流側の差圧を調整することによって行われているに過ぎ
ない。
Conventionally, the speed control of the particle flow accompanying the transport of the particles is
This is simply done by dividing the entire flow path of the particles flowing together with the carrier gas using a tube or a housing, and adjusting the differential pressure between the upstream and downstream sides of the divided flow path.

また、微粒子を基体へ吹き付ける場合等においては、ノ
ズルを介してキャリアガスと共に微粒子を噴出させるこ
とが行われている。この微粒子の吹き付けに用いられて
いるノズルは、単なる平行管又は先細ノズルで、この場
合においても噴出する微粒子流の速度制御は、ノズル前
後の差圧を調整することによって行われているに過ぎな
い。
Furthermore, when spraying fine particles onto a substrate, the fine particles are jetted out together with a carrier gas through a nozzle. The nozzle used to spray these particles is a simple parallel tube or tapered nozzle, and even in this case, the speed of the ejected particle flow is simply controlled by adjusting the differential pressure before and after the nozzle. .

[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、上記従来の単なる差圧による流速制御で
は、微粒子の流れが密度分布の大きな拡散流となり、全
体の流れについて正確な流速制御を期し難いものである
。また、差圧による制御では、差圧の大小が必ずしも流
速の大小にはつながらないので、この点からも流速の正
確な制御を期し難いものである。流速の制御が正確にで
きないと、例えば活性を有する微粒子の移送時に、移送
の遅延によって当該微粒子の活性が消失してしまったり
、微粒子の吹き付は時に、吹き付けられる微粒子の運動
エネルギーが大き過ぎたり小さ過ぎたりして、吹き付け
による膜形成等が阻害されやすくなる。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in the conventional flow rate control based on a mere differential pressure, the flow of particles becomes a diffusion flow with a large density distribution, making it difficult to accurately control the flow rate of the entire flow. Furthermore, in control based on differential pressure, the magnitude of the differential pressure does not necessarily lead to the magnitude of the flow velocity, and from this point of view as well, it is difficult to accurately control the flow velocity. If the flow rate cannot be controlled accurately, for example, when transporting active particles, the activity of the particles may disappear due to a delay in the transfer, or the kinetic energy of the particles may sometimes be too large. If it is too small, film formation by spraying, etc. is likely to be inhibited.

[問題点を解決するための手段] 上記問題点を解決するために講じられた手段を、本発明
の基本原理の説明図である第1図で説明すると、流路に
縮小拡大ノズル1を設け、このノズルlの上流側と下流
側の圧力比を臨界圧力比以下にして微粒子流の速度を制
御する微粒子流の速度制御方法とすることによって上記
問題点を解決したものである。
[Means for Solving the Problems] The measures taken to solve the above problems are explained with reference to FIG. 1, which is an explanatory diagram of the basic principle of the present invention. The above-mentioned problems are solved by providing a method for controlling the speed of the particle flow in which the pressure ratio between the upstream side and the downstream side of the nozzle 1 is made equal to or less than the critical pressure ratio to control the speed of the particle flow.

本発明における縮小拡大ノズル1とは、流入口1aから
中間部に向って徐々に開口面積が絞られてのど部2とな
り、こののど部2から流出口1bに向って徐々に開口面
積が拡大されているノズルをいう。第1図においては、
説明の便宜上、縮小拡大ノズル1の流入側と流出側は、
各々密閉系である上流室3と下流室4に連結されている
。しかし1本発明における縮小拡大ノズルlの流入側と
流出側は、両者間に圧力比を生じさせて、キャリアガス
と共に微粒子を流過させることができれば、密閉系であ
っても開放系であってもよい。
The contraction/expansion nozzle 1 in the present invention is a throat portion 2 in which the opening area is gradually narrowed from the inlet 1a toward the middle portion, and the opening area is gradually expanded from the throat portion 2 toward the outlet 1b. This refers to the nozzle that is In Figure 1,
For convenience of explanation, the inflow side and outflow side of the contraction/expansion nozzle 1 are as follows.
It is connected to an upstream chamber 3 and a downstream chamber 4, each of which is a closed system. However, in the present invention, the inflow side and the outflow side of the contraction/expansion nozzle l can be either a closed system or an open system, as long as a pressure ratio is created between the two and the particles can flow together with the carrier gas. Good too.

[作 用] 例えば第1図に示されるように、上流室3内に微粒子を
分散浮遊させたキャリアガスを供給する一方、下流室4
内を真空ポンプ5で排気すると、上流室3の圧力Poと
下流室4の圧力Pの圧力比P/Poを所要の臨界圧力比
以下とする。供給された微粒子を含むキャリアガスは、
この排気による差圧によって、上流室3から縮小拡大ノ
ズルlを流過して下流室4へと流入することになる。
[Function] For example, as shown in FIG.
When the inside is evacuated by the vacuum pump 5, the pressure ratio P/Po between the pressure Po of the upstream chamber 3 and the pressure P of the downstream chamber 4 is set to be equal to or lower than a required critical pressure ratio. The supplied carrier gas containing fine particles is
Due to the differential pressure caused by this exhaust gas, the air flows from the upstream chamber 3 through the contraction/expansion nozzle l and into the downstream chamber 4 .

ところで縮小拡大ノズルlは、単に上流側と下流側の圧
力差に応じてキャリアガスと共に微粒子を噴出させるだ
けでなく、噴出されるキャリアガス及び微粒子の流れを
均一化する作用を成すものである。従って、この均一化
された微粒子の流れとすることによって、全体の流れ速
度の制御が容易となる。
By the way, the contraction/expansion nozzle l functions not only to eject fine particles together with the carrier gas according to the pressure difference between the upstream side and the downstream side, but also to equalize the flow of the ejected carrier gas and fine particles. Therefore, by creating this uniform flow of fine particles, the overall flow velocity can be easily controlled.

また、縮小拡大ノズル1は、上流室3と下流室4内の圧
力比P/PGが臨界圧力比以下の場合、のど部2の開口
面積A”と流出口!bの開口面積Aとの比A/A”とを
調節することによって、キャリアガスと共に噴出する微
粒子の流れ速度を超音速下で調整できる。
In addition, when the pressure ratio P/PG in the upstream chamber 3 and downstream chamber 4 is below the critical pressure ratio, the contraction/expansion nozzle 1 is configured such that the ratio of the opening area A'' of the throat portion 2 to the opening area A of the outlet port !b is By adjusting A/A'', the flow velocity of the particles ejected together with the carrier gas can be adjusted at supersonic speeds.

ここで、微粒子流の速度をU、その点における音速をa
、微粒子流の比熱比をγとし、微粒子流を圧縮性の一次
元流で断熱膨張すると仮定すれば、微粒子流の到達マツ
ハ数Mは、上流室の圧力Poと下流室の圧力Pとから次
式で定まり、特にP/PGが臨界圧力比以下の場合1M
は1以上となる。
Here, the velocity of the particle flow is U, and the sound velocity at that point is a.
, the specific heat ratio of the particulate flow is γ, and assuming that the particulate flow is a compressible one-dimensional flow and expands adiabatically, the Matzuha number M reached by the particulate flow is given by the following equation from the pressure Po in the upstream chamber and the pressure P in the downstream chamber. It is determined by the formula, especially when P/PG is below the critical pressure ratio, 1M
is 1 or more.

尚、音速aは局所温度をT、気体定数をRとすると、次
式で求めることができる。
Note that the sound velocity a can be determined by the following equation, where T is the local temperature and R is the gas constant.

a=r〒11「 また、流出ロ!b開ロ面積A及びのど部2の開口面積A
”とマツハ数Mには次の関係がある。
a = r
” and Matsuha's number M have the following relationship.

従って、上流室3の圧力PGと下流室4の圧力Pの圧力
比P/PGによって(1)式から定まるマツハ数Mに応
じて開口面積比A/A”を定めたり、A/A”によって
(2)式から定まるMに応じてP/P、を調整すること
によって、拡大縮小ノズルlから噴出する微粒子流の流
速を超音速下で制御できる。このときの微粒子流の速度
Uは1次の(3)式によって求めることができる。
Therefore, the opening area ratio A/A'' can be determined according to the Matsuha number M determined from equation (1) by the pressure ratio P/PG of the pressure PG in the upstream chamber 3 and the pressure P in the downstream chamber 4, or by A/A''. By adjusting P/P according to M determined from equation (2), the flow velocity of the particulate flow ejected from the expansion/contraction nozzle l can be controlled at supersonic speed. The velocity U of the particle flow at this time can be determined by the first-order equation (3).

。2Mら1.1.・−1M2 F 、−(3)一方、上
述のような超音速の流れとしてキャリアガスと共に微粒
子を一定方向へ噴出させると。
. 2M et al. 1.1. -1M2 F , -(3) On the other hand, if the fine particles are ejected in a fixed direction together with the carrier gas as a supersonic flow as described above.

キャリアガスと微粒子は噴出直後の噴流断面をほぼ保ち
ながら直進し、ビーム化される。従って、このキャリア
ガスによって運ばれる微粒子の流れもビーム化され、最
小限の拡散で下流室4内の空間中を、下流室4の壁面と
の干渉のない空間的に独立状態で、かつ超音速で移送さ
れることになるので、速度制御が極めて正確なものとな
る。
The carrier gas and fine particles travel straight while maintaining almost the jet cross section immediately after being ejected, and are turned into a beam. Therefore, the flow of particles carried by this carrier gas is also converted into a beam, which moves through the space within the downstream chamber 4 with minimal diffusion, in a spatially independent state without interference with the wall surface of the downstream chamber 4, and at supersonic speeds. The speed control is therefore extremely accurate.

このようなことから、例えば上流室3内で活性を有する
微粒子を形成して、これを直に縮小拡大ノズル1でビー
ム化移送したり、縮小拡大ノズル1内又は縮小拡大ノズ
ル1の直後で活性を有する微粒子を形成して、これをそ
のままビーム化移送すれば、超音速下における正確な速
度制御により、しかも空間的に独立状態にあるビームと
して移送することができ、例えば下流室4内に設けた基
体6上に良好な活性状態のまま付着捕集することができ
る。また、流れ速度が制御されたビームとして微粒子が
基板6上に吹き付けられるので。
For this reason, it is possible, for example, to form active particles in the upstream chamber 3 and transfer them directly into a beam through the contraction/expansion nozzle 1, or to activate them within the contraction/expansion nozzle 1 or immediately after the contraction/expansion nozzle 1. If fine particles having a The particles can be collected on the substrate 6 in a good active state. Furthermore, the particles are sprayed onto the substrate 6 as a beam with a controlled flow rate.

この吹き付は時の微粒子の運動エネルギーを容易に制御
できるものである。
This spraying allows the kinetic energy of the fine particles to be easily controlled.

[実施例] 第2図は本発明の方法を超微粒子による成膜に利用した
場合の一実施例の概略図で1図中1は縮小拡大ノズル、
3は上流室、4aは第一下流室、4bは第二下流室であ
る。
[Example] Figure 2 is a schematic diagram of an example in which the method of the present invention is used to form a film using ultrafine particles.
3 is an upstream chamber, 4a is a first downstream chamber, and 4b is a second downstream chamber.

上流室3と第一下流室4aは、一体のユニットとして構
成されており、第一下流室4aに、やはり各々ユニット
化されたスキマー7、ゲートバルブ8及び第二下流室4
bが、全て共通した径のフランジ(以下「共通フランジ
」という)を介して、相互に連結分離可能に順次連結さ
れている。上流室3、第一下流室4a及び第二下流室4
bは、後述する排気系によって、上流室3から第二下流
室4bへと、段階的に高い真空度に保たれているもので
ある。
The upstream chamber 3 and the first downstream chamber 4a are configured as an integrated unit, and the first downstream chamber 4a is equipped with a skimmer 7, a gate valve 8, and a second downstream chamber 4, which are also each unitized.
b are sequentially connected to each other so as to be connectable and separable via flanges having a common diameter (hereinafter referred to as "common flanges"). Upstream chamber 3, first downstream chamber 4a, and second downstream chamber 4
b is maintained at a high degree of vacuum in stages from the upstream chamber 3 to the second downstream chamber 4b by an exhaust system to be described later.

上流室3の一側には、共通フランジを介して気相励起装
置9が取付けられている。この気相励起装置9は、プラ
ズマによって活性な超微粒子を発生させると共に、例え
ば水素、ヘリウム、アルゴン、窒素等のキャリアガスと
共にこの超微粒子を、対向側に位置する縮小拡大ノズル
lへと送り出すものである。この形成された超微粒子が
、上流室3の内面に付着しないよう、付着防止処理を内
面に施しておいてもよい、また、発生した超微粒子は、
上流室3に比して第一下流室4aが高い真空度にあるた
め、両者間の圧力差によって、キャリアガスと共に直に
縮小拡大ノズルl内を流過して第一下流室4aへと流れ
ることになる。
A gas phase excitation device 9 is attached to one side of the upstream chamber 3 via a common flange. This gas phase excitation device 9 generates active ultrafine particles using plasma, and sends out the ultrafine particles together with a carrier gas such as hydrogen, helium, argon, nitrogen, etc. to a contraction/expansion nozzle l located on the opposite side. It is. In order to prevent the formed ultrafine particles from adhering to the inner surface of the upstream chamber 3, adhesion prevention treatment may be applied to the inner surface.
Since the first downstream chamber 4a has a higher degree of vacuum than the upstream chamber 3, the pressure difference between the two causes the carrier gas to flow directly through the contraction/expansion nozzle l and into the first downstream chamber 4a. It turns out.

気相励起装置9は、第3図(a)に示されるように、棒
状の第一電極9aを管状の第二電極9b内に設け、第二
電極ab内にキャリアガスと原料ガスを供給して、両電
極9a、 9b間で放電させるものとなっている。また
、気相励起装置9は、第3図(b)に示されるように、
第二電極9b内に設けられている第一電極8aを多孔管
として、第一電極sa内を介して両電極9a、 eb間
にキャリアガスと原料ガスを供給するものとしたり、同
(C)に示されるように、半割管状の両電極9a、 9
bを絶縁材9Cを介して管状に接合し、両電極9a、 
13bで形成された管内にキャリアガスと原料ガスを供
給するものとすることもできる。
As shown in FIG. 3(a), the gas phase excitation device 9 includes a rod-shaped first electrode 9a disposed within a tubular second electrode 9b, and a carrier gas and a raw material gas supplied into the second electrode ab. Thus, a discharge is caused between both electrodes 9a and 9b. Further, the gas phase excitation device 9, as shown in FIG. 3(b),
The first electrode 8a provided in the second electrode 9b may be a porous tube to supply carrier gas and raw material gas between the electrodes 9a and eb through the inside of the first electrode sa, or the same (C) may be used. As shown, both half-tubular electrodes 9a, 9
b are joined in a tubular shape via an insulating material 9C, and both electrodes 9a,
It is also possible to supply the carrier gas and source gas into the tube formed by 13b.

縮小拡大ノズル1は、第一下流室4aの上流室3側の側
端に、上流室3に流入口1aを開口させ、第一下流室4
aに流出口tbを開口させて、上流室3内に突出した状
態で、共通フランジを介して取付けられている。但しこ
の縮小拡大ノズルlは、第一下流室4a内に突出した状
態で取付けるようにしてもよい、縮小拡大ノズルlをい
ずれに突出させるかは、移送する超微粒子の大きさ、量
、性質等に応じて選択すればよい。
The contraction/expansion nozzle 1 has an inlet 1a opened in the upstream chamber 3 at the side end of the first downstream chamber 4a on the upstream chamber 3 side, and the first downstream chamber 4
It is attached via a common flange with an outlet tb opened at a and protruding into the upstream chamber 3. However, this contraction/expansion nozzle l may be installed in a state where it projects into the first downstream chamber 4a.The direction in which the contraction/expansion nozzle l should be projected depends on the size, amount, nature, etc. of the ultrafine particles to be transported. You can choose accordingly.

縮小拡大ノズル1としては、前述のように、流入口1a
から徐々に開口面積が絞られてのど部2となり、再び徐
々に開口面積が拡大して流出口1bとなっているもので
あればよいが、第4図(a)に拡大して示しであるよう
に、流出口lb付近の内周面が、中心軸に対してほぼ平
行であることが好ましい。これは、噴出されるキャリア
ガス及び超微粒子の流れ方向が、ある程度流出口lb付
近の内周面の方向によって影響を受けるので、できるだ
け平行流にして速度制御をしやすくするためである。
As mentioned above, the contraction/expansion nozzle 1 has an inlet port 1a.
It is sufficient if the opening area is gradually narrowed down to form the throat part 2, and then the opening area is gradually expanded again to form the outflow port 1b, which is shown enlarged in Fig. 4(a). As such, it is preferable that the inner circumferential surface near the outlet lb is substantially parallel to the central axis. This is because the flow direction of the jetted carrier gas and ultrafine particles is affected to some extent by the direction of the inner circumferential surface near the outlet lb, so the flow is made as parallel as possible to facilitate speed control.

しかし、第4図(b)に示されるように、のど部2から
流出口1bへ至る内周面の中心軸に対する角度αを、7
°以下好ましくは5°以下とすれば、剥離現象を生じに
くく、噴出するキャリアガス及び超微粒子の流れはほぼ
均一に維持されるので、この場合はことさら上記平行部
を形成しなくともよい、平行部の形成を省略することに
より、縮小拡大ノズルlの作製が容易となる。また、縮
小拡大ノズルlを第4図(C)に示されるような矩形の
ものとすれば、スリット状にキャリアガス及び超微粒子
を噴出させることができる。
However, as shown in FIG. 4(b), the angle α of the inner circumferential surface extending from the throat portion 2 to the outlet 1b with respect to the central axis is 7.
If the angle is preferably 5° or less, peeling phenomenon will not easily occur and the flow of the ejected carrier gas and ultrafine particles will be maintained almost uniformly. By omitting the formation of the part, it becomes easy to manufacture the contraction/expansion nozzle l. Furthermore, if the contraction/expansion nozzle l is made rectangular as shown in FIG. 4(C), carrier gas and ultrafine particles can be ejected in a slit shape.

ここで、前記剥離現象とは縮小拡大ノズル1の内面に突
起物等があった場合に、縮小拡大ノズル1の内面と流過
流体間の境界層が大きくなって。
Here, the above-mentioned separation phenomenon means that when there is a protrusion or the like on the inner surface of the contraction/expansion nozzle 1, the boundary layer between the inner surface of the contraction/expansion nozzle 1 and the flowing fluid becomes large.

流れが不均一になる現象をいい、噴出流が高速になるほ
ど生じやすい、前述の角度αは、この剥離現象防止のた
めに、縮小拡大ノズル1の内面仕上げ精度が劣るものほ
ど小さくすることが好ましい。縮小拡大ノズル1の内面
は、 JIS 80601に定められる、表面仕上げ精
度を表わす逆三角形マークで三つ以上、最適には四つ以
上が好ましい。特に、縮小拡大ノズルlの拡大部におけ
る剥離現象が、その後のキャリアガス及び超微粒子の流
れに大きく影響するので、上記仕上げ精度を、この拡大
部を重点にして定めることによって、縮小拡大ノズル1
の作製を容易にできる。また、やはり剥離現象の発生防
止のため、のど部2は滑らかな湾曲面とし、断面積変化
率における微係数が(1)とならないようにする必要が
ある。
This refers to a phenomenon in which the flow becomes non-uniform, and the higher the speed of the jet flow, the more likely it is to occur.In order to prevent this separation phenomenon, it is preferable that the above-mentioned angle α be made smaller as the inner surface finishing precision of the contraction-expansion nozzle 1 is inferior. . The inner surface of the contraction/expansion nozzle 1 has three or more, preferably four or more, inverted triangular marks representing surface finish accuracy as defined in JIS 80601. In particular, since the peeling phenomenon in the enlarged part of the contraction/expansion nozzle 1 greatly affects the subsequent flow of the carrier gas and ultrafine particles, by determining the finishing accuracy with emphasis on this enlarged part, it is possible to
can be easily produced. Further, in order to prevent the occurrence of a peeling phenomenon, the throat portion 2 needs to have a smooth curved surface so that the differential coefficient in the rate of change in cross-sectional area does not become (1).

縮小拡大ノズルlの材質としては、例えば鉄、ステンレ
ススチールその他の金属の他、アクリル樹脂、ポリ塩化
ビニル、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン
等の合成樹脂、セラミック材料、石英、ガラス等、広く
用いることができる。この材質の選択は、生成される超
微粒子との非反応性、加工性、真空系内におけるガス放
出性等を考慮して行えばよい。また、縮小拡大ノズル1
の内面に、超微粒子の付着・反応を生じにくい材料をメ
y+又はコートすることもできる。具体例としては、ポ
リフッ化エチレンのコート等を挙げることができる。
The material for the contraction/expansion nozzle l can be widely used, such as iron, stainless steel, and other metals, as well as acrylic resin, polyvinyl chloride, synthetic resins such as polyethylene, polystyrene, and polypropylene, ceramic materials, quartz, and glass. . This material may be selected in consideration of non-reactivity with the generated ultrafine particles, processability, gas release properties in a vacuum system, etc. Also, the reduction/expansion nozzle 1
The inner surface may be coated with a material that is less likely to cause adhesion or reaction of ultrafine particles. Specific examples include polyfluoroethylene coating.

縮小拡大ノズルlの長さは、装置の大きさ等によって任
意に定めることができる。ところで、縮小拡大ノズルl
を流過するときに、キャリアガス及び超微粒子は、保有
する熱エネルギーがM動エネルギーに変換される。そし
て、特に超音速で噴出される場合、熱エネルギーは著し
く小さくなって過冷却状態となる。従って、キャリアガ
ス中に凝縮成分が含まれている場合、上記過冷却状態に
よって積極的にこれらを凝縮させ、これによって超微粒
子を形成させることも可能である。これによる超微粒子
の形成は、均質核形成であるので、均質な超微粒子が得
やすい。また、この場合、十分な凝縮を行うために、縮
小拡大ノズルlは長い方が好ましい。一方、上記のよう
な凝縮を生ずると、これによって熱エネルギーが増加し
て速度エネルギーは低下する。従って、高速噴出の維持
を図る上では、縮小拡大ノズルlは短い方が好ましい。
The length of the contraction/expansion nozzle l can be arbitrarily determined depending on the size of the apparatus and the like. By the way, the contraction/expansion nozzle l
When flowing through the carrier gas and the ultrafine particles, the thermal energy they possess is converted into M kinetic energy. Particularly when ejected at supersonic speed, the thermal energy becomes significantly small, resulting in a supercooled state. Therefore, if the carrier gas contains condensed components, it is also possible to actively condense them by the supercooled state, thereby forming ultrafine particles. Since the formation of ultrafine particles by this is homogeneous nucleation, it is easy to obtain homogeneous ultrafine particles. Further, in this case, in order to perform sufficient condensation, it is preferable that the contraction/expansion nozzle l be long. On the other hand, when condensation occurs as described above, thermal energy increases and velocity energy decreases. Therefore, in order to maintain high-speed jetting, it is preferable that the contraction/expansion nozzle l be short.

上流室3の圧力P。と下流室4内の圧力Pの臨界圧以下
の圧力比P/PGに基づき、のど部2の開口面積A◆と
流出口1bの開口面積Aとの比A/A”を適宜に調整し
て、上記縮小拡大ノズルl内を流過させることにより、
超微粒子を含むキャリアガスはビーム化され、第一下流
室4aから第二下流室4bへと、上記圧力比P/Poと
A/A”から定まる超音速で流れることになる。
Pressure P in upstream chamber 3. Based on the pressure ratio P/PG below the critical pressure of the pressure P in the downstream chamber 4, the ratio A/A'' between the opening area A◆ of the throat portion 2 and the opening area A of the outflow port 1b is adjusted as appropriate. , by flowing through the contraction/expansion nozzle l,
The carrier gas containing ultrafine particles is made into a beam and flows from the first downstream chamber 4a to the second downstream chamber 4b at a supersonic speed determined by the pressure ratios P/Po and A/A''.

スキマー7は、第二下流室4bが第一下流室4aよりも
十分高真空度を保つことができるよう、第一下流室4a
と第二下流室4bとの間の開口面積を調整できるように
するためのものである。具体的には、第5図に示される
ように、各々く字形の切欠部10,10’を有する二枚
の調整板11.11’を、切欠部10,10’を向き合
わせてすれ違いスライド可能に設けたものとなっている
。この調整板11゜11′は、外部からスライドさせる
ことができ、両切央部10.10″の重なり具合で、ビ
ームの通過を許容しかつ第二下流室の十分な真空度を維
持し得る開口度に調整されるものである。尚、スキマー
7の切欠部10.10’及び調整板11.11’の形状
は1図示される形状の他、半円形その他の形状でもよい
The skimmer 7 is installed in the first downstream chamber 4a so that the second downstream chamber 4b can maintain a sufficiently higher degree of vacuum than the first downstream chamber 4a.
This is to enable adjustment of the opening area between the first downstream chamber 4b and the second downstream chamber 4b. Specifically, as shown in FIG. 5, two adjustment plates 11 and 11' each having a dogleg-shaped notch 10 and 10' can be slid past each other with their notches 10 and 10' facing each other. It has been established in This adjustment plate 11° 11' can be slid from the outside, and the overlapping condition of both cutout portions 10.10'' can allow the passage of the beam and maintain a sufficient degree of vacuum in the second downstream chamber. The opening degree is adjusted.The shape of the notch 10.10' and the adjustment plate 11.11' of the skimmer 7 may be semicircular or other shapes other than the shape shown in FIG.

ゲートバルブ8は、ハンドル12を回すことによって昇
降される環状の弁体13を有するもので、ビーム走行時
には開放されているものである。このゲートバルブ8を
閉じることによって、上流室3及び第一下流室4a内の
真空度を保ちながら第二下流室4bのユニット交換が行
える。また1本実施例の装置において、超微粒子は第二
下流室4b内で捕集されるが、ゲートバルブ8をポール
バルブ等としておけば、特に超微粒子が酸化されやすい
金属微粒子であるときに、このポールバルブと共に第二
下流室4bのユニット交換を行うことにより、急激な酸
化作用による危険を伴うことなくユニット交換を行える
利点がある。
The gate valve 8 has an annular valve body 13 that is raised and lowered by turning a handle 12, and is opened when the beam is traveling. By closing this gate valve 8, the unit in the second downstream chamber 4b can be replaced while maintaining the degree of vacuum in the upstream chamber 3 and the first downstream chamber 4a. In addition, in the apparatus of this embodiment, ultrafine particles are collected in the second downstream chamber 4b, but if the gate valve 8 is a pole valve or the like, especially when the ultrafine particles are metal particles that are easily oxidized, By replacing the unit of the second downstream chamber 4b together with this Pall valve, there is an advantage that the unit can be replaced without the risk of rapid oxidation.

第二下流室4b内には、ビームとして移送されて来る超
微粒子を受けて付着させ、これを成膜状態で捕集するた
めの基体6が位置している。この基体6は、共通フラン
ジを介して第二下流室4bに取付けられて、シリンダ1
4によってスライドされるスライド軸15先端の基体ホ
ルダー18に取付けられている。基体6の前面にはシャ
ッター17が位置していて、必要なときはいつでもビー
ムを遮断できるようになっている。また、基体ホルダー
16は。
A base body 6 is located in the second downstream chamber 4b for receiving and depositing ultrafine particles transferred as a beam, and collecting the ultrafine particles in a film-formed state. This base body 6 is attached to the second downstream chamber 4b via a common flange, and is attached to the cylinder 1.
4 is attached to a base holder 18 at the tip of a slide shaft 15 that is slid by a slide shaft 15. A shutter 17 is located on the front side of the base 6, so that the beam can be blocked whenever necessary. Moreover, the substrate holder 16 is.

超微粒子の捕集の最適温度条件下に基体6を加熱又は冷
却でるようになっている。
The substrate 6 can be heated or cooled under optimal temperature conditions for collecting ultrafine particles.

尚、上流室3及び第二下流室4bの上下には、図示され
るように各々共通フランジを介してガラス窓18が取付
けられていて、内部観察ができるようになっている。ま
た、図示はされていないが、上流室3、第一下流室4a
及び第二下流室の前後にも各々同様のガラス窓(図中の
18と同様)が共通フランジを介して取付けられている
。これらのガラス窓18は、これを取外すことによって
、共通フランジを介して各種の測定装置、ロードロック
室等と付は替えができるものである。
Incidentally, glass windows 18 are attached to the upper and lower sides of the upstream chamber 3 and the second downstream chamber 4b through common flanges, respectively, as shown in the figure, so that the inside can be observed. Although not shown, the upstream chamber 3 and the first downstream chamber 4a
Similar glass windows (similar to 18 in the figure) are also installed at the front and rear of the second downstream chamber via common flanges. These glass windows 18 can be removed and replaced with various measuring devices, load lock chambers, etc. via a common flange.

次に、本実施例における排気系について説明する。Next, the exhaust system in this embodiment will be explained.

上流室3は、圧力調整弁19を介してメインバルブ20
aに接続されている。第一下流室4aは直接メインバル
ブ20aに接続されており、このメインバルブ20aは
真空ポンプ5aに接続されている。第二下流室4bはメ
インバルブ20bに接続されており、更にこのメインバ
ルブ20bは真空ポンプ5bに接続されている。尚、2
1a、 21bは、各々メインバルブ20a、 20b
のすぐ上流側にあらびきバルブ22a、 22bを介し
て接続されていると共に、補助バルブ23a。
The upstream chamber 3 is connected to a main valve 20 via a pressure regulating valve 19.
connected to a. The first downstream chamber 4a is directly connected to a main valve 20a, and this main valve 20a is connected to a vacuum pump 5a. The second downstream chamber 4b is connected to a main valve 20b, which in turn is connected to a vacuum pump 5b. Furthermore, 2
1a and 21b are main valves 20a and 20b, respectively.
The auxiliary valve 23a is connected to the immediate upstream side of the auxiliary valve 22a and 22b.

23bを介して真空ポンプ5aに接続された減圧ポンプ
で、上流室3、第一下流室4a及び第二下流室4b内の
あらびきを行うものである。尚、24a〜24hは、各
室3 、4a、 4b及びポンプ5a、 5b、 21
a、 21bのリーク及びパージ用バルブである。
The vacuum pump 23b is connected to the vacuum pump 5a and is used to check the inside of the upstream chamber 3, the first downstream chamber 4a, and the second downstream chamber 4b. In addition, 24a-24h are each chamber 3, 4a, 4b and pump 5a, 5b, 21
a, 21b are leak and purge valves.

まず、あらびきバルブ21a、 21bと圧力調整弁1
8を開いて、上流室3、第−及び第二下流室4a、 4
b内のあらびきを減圧ポンプ20a、 20bで行う。
First, the interference valves 21a and 21b and the pressure regulating valve 1
8, the upstream chamber 3, the first and second downstream chambers 4a, 4
The checking in b is performed using the vacuum pumps 20a and 20b.

次いで、あらびきバルブ21a、 21bを閉じ、補助
バルブ23a、 23b及びメインバルブ20a、 2
0bを開いて、真空ポンプ5a、 5bで上流室3.第
−及び第二下流室4a、 4b内を十分な真空度とする
。このとき、圧力調節弁13の開度を調整することによ
って、上流室3より第一下流室4aの真空度を高くし、
次にキャリアガス及び原料ガスを流し、更に第一下流室
4aより第二下流室4bの真空度が高くなるよう、スキ
マー7で調整する。この調整は、メインバルブ20bの
開度調整で行うこともできる。そして、超微粒子の形成
並びにそのビーム化噴射による成膜作業中を通じて、各
室3 、4a、 4bが一定の真空度を保つよう制御す
る。この制御は1手動でもよいが、各室3 、4a、 
4b内の圧力を検出して、この検出圧力に基づいて圧力
調整弁18、メインバルブ20a、 20b、スキマー
7等を自動的に開閉制御することによって行ってもよい
Next, the auxiliary valves 23a, 23b and the main valves 20a, 2 are closed.
0b is opened, and the upstream chamber 3. A sufficient degree of vacuum is created in the first and second downstream chambers 4a and 4b. At this time, by adjusting the opening degree of the pressure regulating valve 13, the degree of vacuum in the first downstream chamber 4a is made higher than that in the upstream chamber 3,
Next, the carrier gas and the raw material gas are flowed, and the skimmer 7 is used to adjust the degree of vacuum in the second downstream chamber 4b to be higher than that in the first downstream chamber 4a. This adjustment can also be performed by adjusting the opening degree of the main valve 20b. The chambers 3, 4a, and 4b are controlled to maintain a constant degree of vacuum throughout the formation of ultrafine particles and the film forming operation by beam injection. This control may be done manually, but each room 3, 4a,
Alternatively, the pressure inside the pump 4b may be detected, and the pressure regulating valve 18, the main valves 20a, 20b, the skimmer 7, etc. may be automatically opened and closed based on the detected pressure.

上記真空度の制御は、上流室3と第一下流室4aの真空
ポンプ5aを各室3,4a毎に分けて設けて制御を行う
ようにしてもよい。しかし、本実施例のように、一台の
真空ポンプ5aでビームの流れ方向に排気し、上流室3
と第一下流室4aの真空度を制御するようにすると、多
少真空ポンプ5aに脈動等があっても、両者間の圧力比
を一定に保ちやすい。従って、この圧力比の変動の影響
を受けやすい流れ状態を、一定に保ちやすい利点がある
The degree of vacuum may be controlled by separately providing vacuum pumps 5a for the upstream chamber 3 and the first downstream chamber 4a for each chamber 3, 4a. However, as in this embodiment, one vacuum pump 5a is used to exhaust air in the direction of beam flow, and the upstream chamber 3
By controlling the degree of vacuum in the first downstream chamber 4a, it is easy to maintain a constant pressure ratio between the two even if there is some pulsation in the vacuum pump 5a. Therefore, there is an advantage that it is easy to maintain a constant flow state that is susceptible to fluctuations in the pressure ratio.

真空ポンプ5a、 5bによる吸引は、特に第−及び第
二下流室4a、 4bにおいては、その上方より行うこ
とが好ましい、上方から吸引を行うことによって、ビー
ムの重力による降下をある程度抑止することができる。
The suction by the vacuum pumps 5a, 5b is preferably performed from above, especially in the first and second downstream chambers 4a, 4b.By suctioning from above, the descent of the beam due to gravity can be suppressed to some extent. can.

本実施例に係る装置は以上のようなものであるが、次の
ような変更が可能である。
Although the apparatus according to this embodiment is as described above, the following modifications can be made.

まず、縮小拡大ノズルlは、上下左右への傾動や一定間
隔でのスキャン可能とすることもでき、広い範囲に亘っ
て成膜を行えるようにすることもできる。特にこの傾動
やスキャンは、第4図(C)の矩形ノズルと組合わせる
と有利である。
First, the contraction/expansion nozzle l can be tilted vertically and horizontally, and can be scanned at regular intervals, so that film formation can be performed over a wide range. Particularly, this tilting and scanning is advantageous when combined with the rectangular nozzle shown in FIG. 4(C).

縮小拡大ノズル1を石英等の絶縁体で形成し、そこにマ
イクロ波を付与して、縮小拡大ノズル1内で活性超微粒
子を形成したり、透光体で形成して紫外、赤外、レーザ
ー光等の各種の波長を持つ光を流れに照射することもで
きる。また、縮小拡大ノズル1を複数個設けて、一度に
複数のビームを発生させることもできる。特に、複数個
の縮小拡大ノズルlを設ける場合、各々独立した上流室
3に接続しておくことによって、異なる微粒子のビーム
を同時に走行させることができ、異なる微粒子の積層又
は混合捕集や、ビーム同志を交差させることによる、異
なる微粒子同志の衝突によって、新たな微粒子を形成さ
せることも可能となる。
The contraction/expansion nozzle 1 is made of an insulator such as quartz, and microwaves are applied thereto to form active ultrafine particles inside the contraction/expansion nozzle 1. Alternatively, the contraction/expansion nozzle 1 is made of a translucent material to generate ultraviolet, infrared, or laser radiation. It is also possible to irradiate the flow with light having various wavelengths, such as light. It is also possible to provide a plurality of contraction/expansion nozzles 1 to generate a plurality of beams at once. In particular, when a plurality of contraction/expansion nozzles l are provided, by connecting each to an independent upstream chamber 3, beams of different particles can be run at the same time. It is also possible to form new particles by collision of different particles by crossing them.

基体6を、上下左右に移動可能又は回転可能に保持し、
広い範囲に亘ってビームを受けられるようにすることも
できる。また、基体6をロール状に巻取って、これを順
次送り出しながらビームを受けるようにすることによっ
て、長尺の基体6に微粒子による処理を施すこともでき
る。更には。
The base body 6 is held movably or rotatably in the vertical and horizontal directions,
It is also possible to receive the beam over a wide range. Further, by winding up the base body 6 into a roll and sending it out one after another so as to receive the beam, a long base body 6 can also be treated with fine particles. Furthermore.

ドラム状の基体6を回転させながら微粒子による処理を
施してもよい。
The treatment with fine particles may be performed while rotating the drum-shaped base 6.

本実施例では、発生室3.第一下流室4a及び第二下流
室4bで構成されているが、第二下流室4bを省略した
り、第二下流室の下流側に更に第三。
In this embodiment, generation chamber 3. Although it is composed of a first downstream chamber 4a and a second downstream chamber 4b, the second downstream chamber 4b may be omitted, or a third downstream chamber may be provided downstream of the second downstream chamber.

第四・・・・・・下流室を接続することもできる。また
、上流室3を加圧すれば、第一下流室4aは開放系とす
ることができ、第一下流室4aを減圧して上流室3を開
放系とすることもできる。特にオートクレーブのように
、上流室3を加圧し、第一下流室4a以下を減圧するこ
ともできる。
Fourth...downstream chambers can also be connected. Further, by pressurizing the upstream chamber 3, the first downstream chamber 4a can be made into an open system, and by reducing the pressure in the first downstream chamber 4a, the upstream chamber 3 can be made into an open system. In particular, like an autoclave, the upstream chamber 3 can be pressurized and the first downstream chamber 4a and below can be depressurized.

本実施例では、上流室3で活性な超微粒子を形成してい
るが、必ずしもこのような必要はなく、別途形成した微
粒子を上流室3ヘキヤリアガスと共に送り込むようにし
てもよい、また、縮小拡大ノズル1を開閉する弁を設け
、上流室3側に一時微粒子を溜めながら、上記弁を断続
的に開閉して、微粒子を得ることもできる。前記縮小拡
大ノズルlののど部2を含む下流側で行うエネルギー付
与と同期させて、上記弁を開閉すれば、排気系の負担が
大幅に低減されると共に、原料ガスの有効利用を図りつ
つパルス状の微粒子流を得ることができる。尚、同一排
気条件下とすれば、上述の断続的開閉の方が、下流側を
高真空に保持しやすい利点がある。断続的開閉の場合、
上流室3と縮小拡大ノズルlの間に、微粒子を一時溜め
る室を設けておいてもよい。
In this embodiment, active ultrafine particles are formed in the upstream chamber 3, but this is not necessarily necessary, and separately formed particles may be sent to the upstream chamber 3 together with the carrier gas. It is also possible to obtain fine particles by providing a valve that opens and closes the valve 1 and intermittently opening and closing the valve while temporarily storing the fine particles in the upstream chamber 3 side. If the valve is opened and closed in synchronization with energy application on the downstream side including the throat part 2 of the contraction/expansion nozzle l, the load on the exhaust system can be significantly reduced, and the pulse can be maintained while effectively utilizing the raw material gas. It is possible to obtain a particle flow of . Note that under the same exhaust conditions, the above-mentioned intermittent opening and closing has the advantage that it is easier to maintain a high vacuum on the downstream side. In case of intermittent opening and closing,
A chamber for temporarily storing fine particles may be provided between the upstream chamber 3 and the contraction/expansion nozzle l.

また、縮小拡大ノズル1を複数個直列位置に配し、各々
上流側と下流側の圧力比を調整して。
In addition, a plurality of contraction/expansion nozzles 1 are arranged in series, and the pressure ratio on the upstream side and the downstream side is adjusted respectively.

ビーム速度の維持を図ったり、各室を球形化して、デッ
ドスペースの発生を極力防止することもできる。
It is also possible to maintain the beam speed or make each chamber spherical to prevent dead spaces as much as possible.

[発明の効果] 本発明によれば、微粒子を均一な分散状態の超音速のビ
ームとして空間的に独立した状態で移送することができ
るので、超音速の正確な速度制御下で微粒子を移送する
ことができる。従って、活性微粒子をそのままの状態で
捕集位置まで確実に移送できると共に、その吹き付は時
の運動エネルギーを正確に制御することができる。また
、ビームという集束した超高速平行流となることや、ビ
ーム化されるときに熱エネルギーが運動エネルギーに変
換されて、ビーム内の微粒子は凍結状態となるので、こ
れらを利用した新しい反応場を得ることにも大きな期待
を有するものである。更に、本発明の速度制御方法によ
れば、上記凍結状態になることから、流体中の分子のミ
クロな状態を規定し、一つの状態からある状態への遷移
を取り扱うことも可能である。即ち1分子の持つ各種の
エネルギー準位までも規定し、その準位に相当するエネ
ルギーを付与するという、新たな方式による気相の化学
反応が可能である。また、従来とは異なるエネルギー授
受の場が提供されることにより、水素結合やファンデア
ワールス結合等の比較的弱い分子間力で形成される分子
間化合物を容易に生み出すこともできる。
[Effects of the Invention] According to the present invention, fine particles can be transported in a spatially independent state as a uniformly dispersed supersonic beam, so that fine particles can be transported under precise supersonic velocity control. be able to. Therefore, the active particles can be reliably transported as they are to the collection position, and the kinetic energy of the spraying can be accurately controlled. In addition, it becomes a focused ultra-high-speed parallel flow called a beam, and when it is made into a beam, thermal energy is converted to kinetic energy, and the particles in the beam become frozen, so we can create a new reaction field that utilizes these. I have high hopes for what I will achieve. Furthermore, according to the speed control method of the present invention, since the fluid is in the frozen state, it is also possible to define the microscopic state of molecules in the fluid and handle the transition from one state to another state. In other words, it is possible to perform chemical reactions in the gas phase using a new method in which various energy levels of one molecule are defined and energy corresponding to the levels is imparted. Furthermore, by providing a field for energy exchange different from conventional ones, it is also possible to easily create intermolecular compounds formed by relatively weak intermolecular forces such as hydrogen bonds and van der Waals bonds.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の基本原理の説明図、第2図は本発明の
方法を超微粒子による成膜に利用した場合の一実施例を
示す概略図、第3図(a)〜(C)は各々気相励起装置
の例を示す図、第4図(a)〜(C)は各々縮小拡大ノ
ズルの形状例を示す図、第5図はスキマーの説明図であ
る。 l:縮小拡大ノズル、1a:流入口、 lb:流出口、2:のど部、3:上流室、4:下流室、
4a:第一下流室、 4b:第二下流室、 5.5a、 5b:真空ポンプ、
6:基体、7:スキマー、8:ゲートバルブ、9:気相
励起装置、8a:第一電極。 9b:第二電極、10.10’ :切欠部、11、11
’ :調整板、12:ハンドル、13:弁体、14ニジ
リンダ、15ニスライド軸、 16:基体ホルダー、!?=シャッター。 18ニガラス窓、18:圧力調整弁、 20a、 20b:メインバルブ、 21a、 21b :減圧ポンプ、 22a、 22b:あらびきバルブ、 23a、 23b:補助バルブ、 24a〜24h:リーク及びパージ用バルブ。
Fig. 1 is an explanatory diagram of the basic principle of the present invention, Fig. 2 is a schematic diagram showing an example of applying the method of the present invention to film formation using ultrafine particles, and Fig. 3 (a) to (C). 4A to 4C are diagrams each showing an example of the shape of a contraction/expansion nozzle, and FIG. 5 is an explanatory diagram of a skimmer. l: contraction/expansion nozzle, 1a: inlet, lb: outlet, 2: throat, 3: upstream chamber, 4: downstream chamber,
4a: first downstream chamber, 4b: second downstream chamber, 5.5a, 5b: vacuum pump,
6: Substrate, 7: Skimmer, 8: Gate valve, 9: Gas phase excitation device, 8a: First electrode. 9b: second electrode, 10.10': notch, 11, 11
': Adjustment plate, 12: Handle, 13: Valve body, 14 Niji cylinder, 15 Niji slide shaft, 16: Base holder,! ? = shutter. 18 Ni-glass window, 18: Pressure adjustment valve, 20a, 20b: Main valve, 21a, 21b: Decompression pump, 22a, 22b: Arabiki valve, 23a, 23b: Auxiliary valve, 24a to 24h: Leak and purge valve.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1)流路に縮小拡大ノズルを設け、このノズルの上流側
と下流側の圧力比を臨界圧力比以下にして微粒子流の速
度を制御することを特徴とする微粒子流の速度制御方法
1) A method for controlling the speed of a particulate flow, which comprises providing a contraction/expansion nozzle in a flow path, and controlling the speed of the particulate flow by making the pressure ratio between the upstream side and the downstream side of this nozzle equal to or less than a critical pressure ratio.
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