JPS61218142A - ウエ−ハ搬送装置 - Google Patents
ウエ−ハ搬送装置Info
- Publication number
- JPS61218142A JPS61218142A JP60058168A JP5816885A JPS61218142A JP S61218142 A JPS61218142 A JP S61218142A JP 60058168 A JP60058168 A JP 60058168A JP 5816885 A JP5816885 A JP 5816885A JP S61218142 A JPS61218142 A JP S61218142A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- facet
- transport
- cylindrical body
- stop position
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67784—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations using air tracks
- H01L21/67787—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations using air tracks with angular orientation of the workpieces
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Special Conveying (AREA)
- Attitude Control For Articles On Conveyors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はシリコン等よりなる半導体ウェーハをウェーハ
カセットからＣＶＤ装置等の反応室に搬送するウェーハ
搬送装置の改良に関する。
カセットからＣＶＤ装置等の反応室に搬送するウェーハ
搬送装置の改良に関する。
従来、シリコン等よりなる半導体ウェーハを、ＣＶＤ装
置、エピタキシャル成長装置等の反応室のサセプタ上に
、ウェーハカセットから自動的に搬送するための搬送装
置が種々提案されかつ実用化されているが、この種のウ
ニ’・搬送装置における搬送方法には、ベルト搬送法と
エア搬送法との二種類がある。
置、エピタキシャル成長装置等の反応室のサセプタ上に
、ウェーハカセットから自動的に搬送するための搬送装
置が種々提案されかつ実用化されているが、この種のウ
ニ’・搬送装置における搬送方法には、ベルト搬送法と
エア搬送法との二種類がある。
このうち、ベルト搬送法は、ウェーノ・をベルトに乗せ
て搬送する方法であり、ウェーノ・を安定に搬送できる
利点はあるが、本質的に接触法であるため、ウェーハの
汚染が問題となる場合には不適当である。
て搬送する方法であり、ウェーノ・を安定に搬送できる
利点はあるが、本質的に接触法であるため、ウェーハの
汚染が問題となる場合には不適当である。
一方エア搬送法は、非接触法であり、ウェー・・を清潔
な状態で搬送できるから、この種のウェーハ搬送装置に
汎〈用いられている。
な状態で搬送できるから、この種のウェーハ搬送装置に
汎〈用いられている。
第６図はエア搬送法を採用した従来のウェーノ・搬送装
置の一例を示す平面図で、ウェーハカセット１ａに収納
されているウェーハ２はエア搬送トラック３に設けられ
た多数のエア吹出孔４ａから図の左方に向って吹き出す
気流（実線の矢印で示す）によシ、水平状態を保ちなが
ら搬送トラック３上を図の左方に向って搬送され、搬送
トラック３の搬送終端に到達する。この搬送終端には、
一対のラニーハストラｚｆ５ Ｂ 、 ５ ｂが設け
られており、搬送されたウェーハ２の周縁がストッパ５
ａ。
置の一例を示す平面図で、ウェーハカセット１ａに収納
されているウェーハ２はエア搬送トラック３に設けられ
た多数のエア吹出孔４ａから図の左方に向って吹き出す
気流（実線の矢印で示す）によシ、水平状態を保ちなが
ら搬送トラック３上を図の左方に向って搬送され、搬送
トラック３の搬送終端に到達する。この搬送終端には、
一対のラニーハストラｚｆ５ Ｂ 、 ５ ｂが設け
られており、搬送されたウェーハ２の周縁がストッパ５
ａ。
５ｂに当接することによシ、ウェー７・２が停止させら
れる。この所定の停止位置に停止させられたウェーハ２
は、ウェーハ吸着器６で吸着され、アーム７の回転によ
り、反応室の回転可能なサセプタ８上の所定の位置に運
ばれ、吸着を解除してサセプタ８上にチャージされる。
れる。この所定の停止位置に停止させられたウェーハ２
は、ウェーハ吸着器６で吸着され、アーム７の回転によ
り、反応室の回転可能なサセプタ８上の所定の位置に運
ばれ、吸着を解除してサセプタ８上にチャージされる。
一方反応室内で所定の処理がなされたウェーハ２は、再
び吸着器６に吸着されてサセプタ８上から搬送トラック
３上に運ばれ、エア吹出孔４ｂから図の右方に向って吹
き出す気流（点線の矢印で示す）によって搬送トラック
３上を図の右方に向って搬送され、つニーバカセットｌ
ｂ内に収納される。以上の説明で明らかなように、第６
図のウェーハ搬送装置では、ウェーハ２の搬送を完全に
非接触状態で行なうことができ、したがってウェーノ・
２を汚染するおそれのないものである。
び吸着器６に吸着されてサセプタ８上から搬送トラック
３上に運ばれ、エア吹出孔４ｂから図の右方に向って吹
き出す気流（点線の矢印で示す）によって搬送トラック
３上を図の右方に向って搬送され、つニーバカセットｌ
ｂ内に収納される。以上の説明で明らかなように、第６
図のウェーハ搬送装置では、ウェーハ２の搬送を完全に
非接触状態で行なうことができ、したがってウェーノ・
２を汚染するおそれのないものである。
ところで、ウェーハ２には、結晶方位を識別するために
、その周縁の一部分にファセット９が形成されているの
が普通である。しかしながら、ウェーハ搬送装置がエア
搬送法を採用する場合、ウェーハ２にランダムな回転運
動が加わることは避けられず、したがって、第６図によ
り明らかなように、サセプタ８上にチャージされたウェ
ーハ２のファセット９の向きはランダムになる。一方、
ＣＶＤやエピタキシャル成長においては、ファセット９
の向きにより、膜厚や膜質の分布に変化を生じる場合が
あり、このようなファセット９の向きがランダムである
ことは好ましくないものである。したがって、エア搬送
法を採用するウェーハ搬送装置において、ウェーハ２の
ファセット９の向きを一定方向に整列させる手段が種々
試みられたが、未だ適切な手段は開発されていなかった
。
、その周縁の一部分にファセット９が形成されているの
が普通である。しかしながら、ウェーハ搬送装置がエア
搬送法を採用する場合、ウェーハ２にランダムな回転運
動が加わることは避けられず、したがって、第６図によ
り明らかなように、サセプタ８上にチャージされたウェ
ーハ２のファセット９の向きはランダムになる。一方、
ＣＶＤやエピタキシャル成長においては、ファセット９
の向きにより、膜厚や膜質の分布に変化を生じる場合が
あり、このようなファセット９の向きがランダムである
ことは好ましくないものである。したがって、エア搬送
法を採用するウェーハ搬送装置において、ウェーハ２の
ファセット９の向きを一定方向に整列させる手段が種々
試みられたが、未だ適切な手段は開発されていなかった
。
〔問題点を解決するための手段とその作用〕そこで本発
明者は、この問題点を解決すぺく、種々の考察と実験を
行なった結果、きわめて簡単な構成ながら確実にファセ
ットの向きを所定の方向に整列させることができるウェ
ーノ・回動手段を備えたウェーハ搬送装置を提案するに
至った。このウェーハ回動手段は搬送トラックの搬送終
端におけるウェーハストツノの近傍に設けられるもので
あシ、ウェーノ・が、それのファセットの形成された部
分以外の周縁を先頭にして搬送された場合、またはファ
セットを先頭にして搬送されたとしても、ファセットの
辺が搬送方向に対して直角でなかったりする場合に、こ
のウェーハがストア ／平によって定めらハる所定の停
止位置に到達する以前にこのウェーハの周縁に係合して
、ウェーハを、それのファセットの辺が搬送方向に対し
て直交する関係でファセットを先頭にした所定の停止位
置に到達しつるように回動させ、これによりファセット
の向きを一定方向に整列させるように作用する。
明者は、この問題点を解決すぺく、種々の考察と実験を
行なった結果、きわめて簡単な構成ながら確実にファセ
ットの向きを所定の方向に整列させることができるウェ
ーノ・回動手段を備えたウェーハ搬送装置を提案するに
至った。このウェーハ回動手段は搬送トラックの搬送終
端におけるウェーハストツノの近傍に設けられるもので
あシ、ウェーノ・が、それのファセットの形成された部
分以外の周縁を先頭にして搬送された場合、またはファ
セットを先頭にして搬送されたとしても、ファセットの
辺が搬送方向に対して直角でなかったりする場合に、こ
のウェーハがストア ／平によって定めらハる所定の停
止位置に到達する以前にこのウェーハの周縁に係合して
、ウェーハを、それのファセットの辺が搬送方向に対し
て直交する関係でファセットを先頭にした所定の停止位
置に到達しつるように回動させ、これによりファセット
の向きを一定方向に整列させるように作用する。
以下本発明の実施例について、＠１図および第２図Ａ−
Ｃを参照して詳細に説明する。第１図において、搬送ト
ラック３の搬送終端には、第６図′と同様の一対のウェ
ーハストツノ９５ａ、５ｂが、搬送トラック３の搬送中
心線１０に関して対称位置に、かつ間隔をおいて配置さ
れている。ストン・＃５ａ、５ｂの中間位置には、モー
タ（図示せず）によって垂直方向の軸線１１のまわシで
常時あるいはウェーハ２の移送と同期して回転する円柱
体１２が設けられている。この円柱体１２の軸線１１は
搬送中心線１０上に配置されている。この第１図には、
ストツノ＃５ａ、５ｂによって所定の停止位置に停止さ
せられたウェーハ２が示されており、このウェーハ２は
、それのファセット９の辺を搬送中心線１０に対して直
交させた関係をもってかつこのファセット９が円柱体１
２に接触することなく、僅かな間隙を隔てて対面した関
係で停止するようになされる。このため、円柱体１２は
、つ工−ハ２にファセット９が形成されていない場合を
仮定したこの停止位置におけるウェーハ２の周縁のなす
仮想円周１３と、この停止位置におけるファセット９の
辺とによって囲まれた領域１４内に円柱体１２の少なく
とも一部分が存在する態様をもって設けられている。
Ｃを参照して詳細に説明する。第１図において、搬送ト
ラック３の搬送終端には、第６図′と同様の一対のウェ
ーハストツノ９５ａ、５ｂが、搬送トラック３の搬送中
心線１０に関して対称位置に、かつ間隔をおいて配置さ
れている。ストン・＃５ａ、５ｂの中間位置には、モー
タ（図示せず）によって垂直方向の軸線１１のまわシで
常時あるいはウェーハ２の移送と同期して回転する円柱
体１２が設けられている。この円柱体１２の軸線１１は
搬送中心線１０上に配置されている。この第１図には、
ストツノ＃５ａ、５ｂによって所定の停止位置に停止さ
せられたウェーハ２が示されており、このウェーハ２は
、それのファセット９の辺を搬送中心線１０に対して直
交させた関係をもってかつこのファセット９が円柱体１
２に接触することなく、僅かな間隙を隔てて対面した関
係で停止するようになされる。このため、円柱体１２は
、つ工−ハ２にファセット９が形成されていない場合を
仮定したこの停止位置におけるウェーハ２の周縁のなす
仮想円周１３と、この停止位置におけるファセット９の
辺とによって囲まれた領域１４内に円柱体１２の少なく
とも一部分が存在する態様をもって設けられている。
次にこのウェーハ搬送装置の動作について第２図Ａ−Ｃ
を参照して説明する。まず、ウェーノ〜２がそれのファ
セット９を図の右上方に向けた状態でエア吹出孔４ａか
ら吹き出す気流によシ図の左方へ搬送された場合を考え
る。第２図Ａに示すように、このウェーハ２は所定の停
止位置に到達する以前に円形の周縁が円柱体１２に当接
する。円柱体１２は例えば図の時計方向に回転している
ため、ウェーハ２は円柱体１２の局面に係合して、第２
図Ｂに示すように反時計方向に回動され、第２図Ｃに示
すように、ファセット９の辺の端部付近に円柱体１２が
係合した状態になる。この場合、ファセット９の辺は搬
送中心線１０に対して非直交関係にある。ウェーハ２は
さらに反時計方向に回動され、第１図に示された状態と
なる。この位置ではウェーハ２と円柱体１２との係合状
態が解除されるため、円柱体１２は空転し、ウェーハ２
は所定の停止位置に停止する。このように、ファセット
９の辺を搬送中心線１０に対して直交させた関係をもっ
てかつファセット９を先頭にして停止位置に到達したウ
ェーハ２を反応室のサセプタ８上にチャージすれば、こ
のサセプタ８上にチャージされたすべてのウェーハ２の
ファセット９が、サセプタ８の回転中心に対して一定の
角度をもって配列されることになり、したがって、ファ
セット９の向きがランダムであることに起因する膜厚や
膜質の不均一は消滅する。
を参照して説明する。まず、ウェーノ〜２がそれのファ
セット９を図の右上方に向けた状態でエア吹出孔４ａか
ら吹き出す気流によシ図の左方へ搬送された場合を考え
る。第２図Ａに示すように、このウェーハ２は所定の停
止位置に到達する以前に円形の周縁が円柱体１２に当接
する。円柱体１２は例えば図の時計方向に回転している
ため、ウェーハ２は円柱体１２の局面に係合して、第２
図Ｂに示すように反時計方向に回動され、第２図Ｃに示
すように、ファセット９の辺の端部付近に円柱体１２が
係合した状態になる。この場合、ファセット９の辺は搬
送中心線１０に対して非直交関係にある。ウェーハ２は
さらに反時計方向に回動され、第１図に示された状態と
なる。この位置ではウェーハ２と円柱体１２との係合状
態が解除されるため、円柱体１２は空転し、ウェーハ２
は所定の停止位置に停止する。このように、ファセット
９の辺を搬送中心線１０に対して直交させた関係をもっ
てかつファセット９を先頭にして停止位置に到達したウ
ェーハ２を反応室のサセプタ８上にチャージすれば、こ
のサセプタ８上にチャージされたすべてのウェーハ２の
ファセット９が、サセプタ８の回転中心に対して一定の
角度をもって配列されることになり、したがって、ファ
セット９の向きがランダムであることに起因する膜厚や
膜質の不均一は消滅する。
以上の説明で明らかなように、本発明をＣＶＤ装置、エ
ピタキシャル成長装置等のためのウェーハ搬送装置に適
用することにより、ウェーハのファセットを同一の方向
に揃えてサセプタ上にチャージすることができるから、
ファセットの向きのバラツキによる膜厚や膜質の不均一
をなくすことができ、良好なＣＶＤ膜あるいはエピタキ
シャル成長膜が得られる利点がある。
ピタキシャル成長装置等のためのウェーハ搬送装置に適
用することにより、ウェーハのファセットを同一の方向
に揃えてサセプタ上にチャージすることができるから、
ファセットの向きのバラツキによる膜厚や膜質の不均一
をなくすことができ、良好なＣＶＤ膜あるいはエピタキ
シャル成長膜が得られる利点がある。
第１図は本発明によるウェーハ搬送装置の要部の拡大平
面図、第２図Ａ−Ｃはその順次の動作を示す拡大平面図
、第６図は従来のウェーハ搬送装置を示す平面図である
。 図面において、ｌａ、ｌｂはウェーハカセット、２はウ
ェーハ、３は搬送トラック、４ａ、４ｂはエア吹出口、
５ａ、５ｂはウェーハストッパ、６はウェーハ吸着器、
７はアーム、８はサセプタ、９はファセット、１０は搬
送中心線、１１は軸線、１２は円柱体、１３は仮想円周
、１４は領域をそれぞれ示す。 第１図 第２図
面図、第２図Ａ−Ｃはその順次の動作を示す拡大平面図
、第６図は従来のウェーハ搬送装置を示す平面図である
。 図面において、ｌａ、ｌｂはウェーハカセット、２はウ
ェーハ、３は搬送トラック、４ａ、４ｂはエア吹出口、
５ａ、５ｂはウェーハストッパ、６はウェーハ吸着器、
７はアーム、８はサセプタ、９はファセット、１０は搬
送中心線、１１は軸線、１２は円柱体、１３は仮想円周
、１４は領域をそれぞれ示す。 第１図 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、周縁の一部分に結晶方位識別用のファセットが形成
された円板状ウェーハを気流によって水平状態で搬送し
うる搬送トラックと、この搬送トラックの搬送終端にお
いて前記ウェーハの周縁に当接してこのウェーハを所定
の停止位置に停止させるストッパとを具備したウェーハ
搬送装置において、 前記ウェーハが、それの前記ファセットの形成された部
分以外の周縁を先頭にして搬送された場合に、または前
記ファセットの辺が搬送方向に対して非直交関係をもっ
てこのファセットを先頭にして搬送された場合に、この
ウェーハが前記停止位置に到達する以前にこのウェーハ
の周縁に係合してこのウェーハを回動させ、かつ、この
回動に伴って前記ウェーハがそれのファセットの辺を前
記搬送方向に対して直交させた関係をもってこのファセ
ットを先頭にして前記停止位置に到達したときに、前記
ウェーハの周縁との係合状態を解除される態様をもって
、前記ストッパの近傍にウェーハ回動手段を設けたこと
を特徴とするウェーハ搬送装置。 ２、前記ウェーハ回動手段が、垂直方向の軸線のまわり
で回転可能な円柱体よりなり、前記ウェーハがそれのフ
ァセットの辺を前記搬送方向に対して直交させる関係を
もってこのファセットを先頭にした状態で前記停止位置
に停止した場合、前記円柱体が前記ウェーハの周縁に接
触することなく前記ファセットに対面し、かつ、このウ
ェーハに前記ファセットが形成されていない場合を仮定
した前記停止位置におけるウェーハの周縁のなす仮想円
周とこの停止位置における前記ファセットの辺とによっ
て囲まれた領域内に前記円柱体の少なくとも一部分が存
在する態様をもって、前記円柱体が設けられていること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載のウェーハ搬送
装置。 ３、前記円柱体の軸線が前記搬送トラックの搬送中心線
上に設けられていることを特徴とする特許請求の範囲第
２項記載のウェーハ搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60058168A JPS61218142A (ja) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | ウエ−ハ搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60058168A JPS61218142A (ja) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | ウエ−ハ搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61218142A true JPS61218142A (ja) | 1986-09-27 |
Family
ID=13076464
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60058168A Pending JPS61218142A (ja) | 1985-03-25 | 1985-03-25 | ウエ−ハ搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61218142A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS588106A (ja) * | 1981-07-08 | 1983-01-18 | 株式会社ア−トネイチヤ−関西 | 自毛挾着具 |
-
1985
- 1985-03-25 JP JP60058168A patent/JPS61218142A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS588106A (ja) * | 1981-07-08 | 1983-01-18 | 株式会社ア−トネイチヤ−関西 | 自毛挾着具 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100567496B1 (ko) | 얇은 원반 모양의 물건을 위한 운반 장치 | |
| KR920004063B1 (ko) | 반도체 웨이퍼 표면의 연삭 방법 및 그 장치 | |
| US7052229B2 (en) | Alignment of semiconductor wafers and other articles | |
| JP4032778B2 (ja) | 板状部材の搬送装置 | |
| JPH02130849A (ja) | 搬送装置 | |
| JPS61218142A (ja) | ウエ−ハ搬送装置 | |
| JP3155015B2 (ja) | 基板処理装置を通して基板を動かす装置 | |
| JPH05100199A (ja) | 搬送アーム | |
| JP2584026B2 (ja) | 物品搬送具及びその整列装置 | |
| JP2000044035A (ja) | ボトル搬送装置における停留装置 | |
| JPH03206938A (ja) | 検査用搬送装置 | |
| JPH0581176B2 (ja) | ||
| JPS63300524A (ja) | ウエ−ハカセット搬送用保持機構 | |
| JPS63128637A (ja) | 半導体装置の製造装置 | |
| JP2001176244A (ja) | テープ定尺切断装置 | |
| JPH01247311A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS59935A (ja) | カセツトリング搬送装置 | |
| JPS62180855A (ja) | 板状ワ−ク載せ換え機構 | |
| JPH07106395A (ja) | ウエハカセット移載装置 | |
| JPH03124043A (ja) | ウェハーカセット収納ｂｏｘ | |
| JPS6212547A (ja) | 半導体基板搬送機構 | |
| JPH0834238B2 (ja) | 半導体基板の搬送装置 | |
| JPS62222648A (ja) | 搬送装置 | |
| JPS63250130A (ja) | 半導体ウエハ処理装置 | |
| JPH0332428U (ja) |