JPS61210510A - 薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘツドの製造方法Info
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- JPS61210510A JPS61210510A JP5208085A JP5208085A JPS61210510A JP S61210510 A JPS61210510 A JP S61210510A JP 5208085 A JP5208085 A JP 5208085A JP 5208085 A JP5208085 A JP 5208085A JP S61210510 A JPS61210510 A JP S61210510A
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- magnetic pole
- magnetic
- thin
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
- G11B5/3143—Disposition of layers including additional layers for improving the electromagnetic transducing properties of the basic structure, e.g. for flux coupling, guiding or shielding
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- Electromagnetism (AREA)
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- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
磁気ディスク装置等に用いられる薄膜磁気ヘッドの製造
において、下部磁極層を形成するに先立って、磁性層を
被着し、該磁極層を下部磁極層形成予定領域に断面形状
が台形となるようにパターニングした後、その磁性膜上
に下部磁極層を被着して、下部磁極層の媒体対向先端部
の近傍に、磁束集中を緩和させるテーパー状の磁極突出
部を形成した構成とし、磁束集中に起因する“ネガティ
ブエツジ”の発生を低減することを可能にする。
において、下部磁極層を形成するに先立って、磁性層を
被着し、該磁極層を下部磁極層形成予定領域に断面形状
が台形となるようにパターニングした後、その磁性膜上
に下部磁極層を被着して、下部磁極層の媒体対向先端部
の近傍に、磁束集中を緩和させるテーパー状の磁極突出
部を形成した構成とし、磁束集中に起因する“ネガティ
ブエツジ”の発生を低減することを可能にする。
本発明は磁気ディスク装置、或いは磁気テープ装置など
に用いられる薄膜磁気ヘッドの製造方法に係り、特に記
録再生時の波形における“ネガティブエツジ”の発生を
減少させることを可能とする新規な薄膜磁気ヘッドの磁
極形成方法に関するものである。
に用いられる薄膜磁気ヘッドの製造方法に係り、特に記
録再生時の波形における“ネガティブエツジ”の発生を
減少させることを可能とする新規な薄膜磁気ヘッドの磁
極形成方法に関するものである。
近来、磁気ディスク装置等に用いられている磁気ヘッド
は、磁気ディスク媒体に対する高密度記録化及び高効率
化が進められ、その形状も益々小型化されると共に、高
精度化がなされ、記録に寄与する磁極先端部でのヘッド
磁界分布が急峻で、高密度な記録を可能とする小型な種
々のタイプの薄膜磁気ヘッドが既に提案され、実用化さ
れっつある。
は、磁気ディスク媒体に対する高密度記録化及び高効率
化が進められ、その形状も益々小型化されると共に、高
精度化がなされ、記録に寄与する磁極先端部でのヘッド
磁界分布が急峻で、高密度な記録を可能とする小型な種
々のタイプの薄膜磁気ヘッドが既に提案され、実用化さ
れっつある。
例えば、薄膜磁気ヘッドの１種として上部磁極層と下部
磁極層間に層間絶縁層を介在させて、磁極先端ギャップ
層とコイル導体層を積層形成したタイプの薄膜磁気ヘッ
ドが知られている。
磁極層間に層間絶縁層を介在させて、磁極先端ギャップ
層とコイル導体層を積層形成したタイプの薄膜磁気ヘッ
ドが知られている。
このようなタイプの磁気へ、ドにおいては、記録再生時
に各磁極先端部の角張ったエツジ部分で大きな”ネガテ
ィブエツジ“と称される記録再生信号を劣化させるノイ
ズが発生するという問題があり、かかる問題の解消が要
求されている。
に各磁極先端部の角張ったエツジ部分で大きな”ネガテ
ィブエツジ“と称される記録再生信号を劣化させるノイ
ズが発生するという問題があり、かかる問題の解消が要
求されている。
上記の如き薄膜膜磁気ヘッドは、一般に第４図の平面図
及び該第４図に示すＡ−Ａ″切断線に沿った第５図の断
面図によって示されるように、例えばガラス、或いはセ
ラミックス等からなる非磁性基板１上に、パーマロイ等
からなる下部磁極層２をマスクめっき法などにより規定
の形状に形成する。
及び該第４図に示すＡ−Ａ″切断線に沿った第５図の断
面図によって示されるように、例えばガラス、或いはセ
ラミックス等からなる非磁性基板１上に、パーマロイ等
からなる下部磁極層２をマスクめっき法などにより規定
の形状に形成する。
次に該下部磁極層２上に５ｉ０２等のギャップ層３及び
第１絶縁層４を被着形成した後、該第１絶縁層４上に銅
（Ｃｕ）等からなる導体層をスパッタリング法等により
被着し、該導体層をフォトリソグラフィ工程によって薄
膜コイル５にバターニングする。
第１絶縁層４を被着形成した後、該第１絶縁層４上に銅
（Ｃｕ）等からなる導体層をスパッタリング法等により
被着し、該導体層をフォトリソグラフィ工程によって薄
膜コイル５にバターニングする。
次に該薄膜コイル５を含む第１絶縁層４上に第２絶縁層
６を被着し、かかる基板ｌ上に、パーマロイ等からなる
上部磁極層７をマスクめっき法などにより規定の形状に
形成した後、その上面に更に５ｉ０２、又はＭ２Ｏ３か
らなる保護層８を被着形成すると共に、前記下部磁極層
２及び上部磁極層７の先端面を露出するように切削し、
該両磁極先端面を研磨仕上げして、磁気記録媒体９に対
する対面面を形成することにより完成させている。
６を被着し、かかる基板ｌ上に、パーマロイ等からなる
上部磁極層７をマスクめっき法などにより規定の形状に
形成した後、その上面に更に５ｉ０２、又はＭ２Ｏ３か
らなる保護層８を被着形成すると共に、前記下部磁極層
２及び上部磁極層７の先端面を露出するように切削し、
該両磁極先端面を研磨仕上げして、磁気記録媒体９に対
する対面面を形成することにより完成させている。
ところで、このような構成の従来の薄膜磁気ヘッドにお
いては、第６図の要部拡大断面図に示すように、高密度
記録再生を行うための下部磁極層２と上部磁極層７の各
媒体対向先端部の厚さ、即ち各磁極長ｌが数μｍ以下と
極めて短いことから、記録再生時にそれら各磁極先端の
角ばったエツジ部分Ａに磁束集中現象が起こり、かかる
現象に起因して記録再生信号波形中に、所謂“ネガティ
ブエツジ”と称される記録再生信号を劣化させるノイズ
波形が発生する問題がある。
いては、第６図の要部拡大断面図に示すように、高密度
記録再生を行うための下部磁極層２と上部磁極層７の各
媒体対向先端部の厚さ、即ち各磁極長ｌが数μｍ以下と
極めて短いことから、記録再生時にそれら各磁極先端の
角ばったエツジ部分Ａに磁束集中現象が起こり、かかる
現象に起因して記録再生信号波形中に、所謂“ネガティ
ブエツジ”と称される記録再生信号を劣化させるノイズ
波形が発生する問題がある。
第７図はこのような“ネガティブエツジ”ＭＥの発生を
伴った薄膜磁気ヘッドの孤立再生波形の１例を示すもの
で、本図の場合、下部磁極層２の角ばったエツジ部分Ａ
において特に顕著な“ネガティブエツジ”が現れている
。
伴った薄膜磁気ヘッドの孤立再生波形の１例を示すもの
で、本図の場合、下部磁極層２の角ばったエツジ部分Ａ
において特に顕著な“ネガティブエツジ”が現れている
。
本発明は、以上のような問題点が磁極先端部近傍に、エ
ツジに対する磁束集中を緩和する突出手段を設けること
により解決されること、また該突出手段を磁極先端部近
傍に設ける方法として、例えば磁極層をその断面形状が
台形となるようにウェットエツチング法により容易にパ
ターニングできることに着目して、第１図（ａ）に示す
ように基板３１上に下部磁極層を形成するに先立って、
磁性層３２をスパッタリング法により被着し、更にその
上面にレジスト膜３３を塗着する。
ツジに対する磁束集中を緩和する突出手段を設けること
により解決されること、また該突出手段を磁極先端部近
傍に設ける方法として、例えば磁極層をその断面形状が
台形となるようにウェットエツチング法により容易にパ
ターニングできることに着目して、第１図（ａ）に示す
ように基板３１上に下部磁極層を形成するに先立って、
磁性層３２をスパッタリング法により被着し、更にその
上面にレジスト膜３３を塗着する。
次に第１図中）に示すように該レジストＩＩＩ！３３を
所定パターンにバターニングし、そのレジストマスクパ
ターン３４を介して前記磁性層３２をウェットエツチン
グ法により多少オーバーぎみにエツチングを行って、第
１図（Ｃ）に示すように下部磁極層形成予定領域に断面
形状が台形となるようにパターニングする。
所定パターンにバターニングし、そのレジストマスクパ
ターン３４を介して前記磁性層３２をウェットエツチン
グ法により多少オーバーぎみにエツチングを行って、第
１図（Ｃ）に示すように下部磁極層形成予定領域に断面
形状が台形となるようにパターニングする。
しかる後、該磁性層３２上に絶縁層３５を被着し、かつ
その絶縁層３５を平面ラッピングして第１図（ｄｌに示
すように前記磁性層３２と同一平面にすると共に、かか
る磁性層３２上に下部磁極層３６を形成することにより
、容易に下部磁極層３６の媒体対向先端部の近傍にテー
パー状の磁極突出部３２ａが形成された薄膜磁気ヘッド
を得ることができる。
その絶縁層３５を平面ラッピングして第１図（ｄｌに示
すように前記磁性層３２と同一平面にすると共に、かか
る磁性層３２上に下部磁極層３６を形成することにより
、容易に下部磁極層３６の媒体対向先端部の近傍にテー
パー状の磁極突出部３２ａが形成された薄膜磁気ヘッド
を得ることができる。
このように薄膜磁気ヘッドにおける下部磁極層３６の媒
体対向先端部の近傍に、テーパー状の磁極突出部３２ａ
を形成した構成とすることにより、記録再生時において
当該下部磁極層３６の媒体対向先端部のエツジ部分に対
する磁束集中が、近傍の磁極突出部３２ａへも分散して
緩和されることから、′ネガティブエツジ”の発生を大
幅に低減することが可能となる。
体対向先端部の近傍に、テーパー状の磁極突出部３２ａ
を形成した構成とすることにより、記録再生時において
当該下部磁極層３６の媒体対向先端部のエツジ部分に対
する磁束集中が、近傍の磁極突出部３２ａへも分散して
緩和されることから、′ネガティブエツジ”の発生を大
幅に低減することが可能となる。
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
第１図は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法の一実
施例を工程順に示す要部断面図である。
施例を工程順に示す要部断面図である。
先ず第１図（ａ）に示すように例えばガラス、或いはセ
ラミ−／クス等からなる非磁性基板３１上に、パーマロ
イ （Ｎｉ−Ｆｅ）等からなる磁性層３２をスパッタリ
ング法、或いはメッキ法等により被着形成した後、更に
その上面にレジスト膜３３を塗着する。
ラミ−／クス等からなる非磁性基板３１上に、パーマロ
イ （Ｎｉ−Ｆｅ）等からなる磁性層３２をスパッタリ
ング法、或いはメッキ法等により被着形成した後、更に
その上面にレジスト膜３３を塗着する。
次に第１図中）に示すように該レジスト膜３３を所定パ
ターンにパターニングし、そのレジストマスクパターン
３４を介して前記磁性層３２をウェットエツチング法に
より多少オーバーぎみにエツチング処理を行って、第１
図（Ｃ１に示すように下部磁極層形成予定領域に断面形
状が台形となるようにバターニングする。
ターンにパターニングし、そのレジストマスクパターン
３４を介して前記磁性層３２をウェットエツチング法に
より多少オーバーぎみにエツチング処理を行って、第１
図（Ｃ１に示すように下部磁極層形成予定領域に断面形
状が台形となるようにバターニングする。
引続き該磁性層３２上に、５ｉ０２． Ａｌ１０３等の
平坦化用絶縁層３５を被着し、かつその絶縁層３５を平
面ラフピング処理して第１図（ｄ）に示すように前記磁
性層３２と同一平面にすると共に、かかる磁性層３２上
にパーマロイ（Ｎｉ−Ｆｅ）等からなる下部磁極層３６
をスパッタリング法とフォトリソグラフィ工程等により
形成する。
平坦化用絶縁層３５を被着し、かつその絶縁層３５を平
面ラフピング処理して第１図（ｄ）に示すように前記磁
性層３２と同一平面にすると共に、かかる磁性層３２上
にパーマロイ（Ｎｉ−Ｆｅ）等からなる下部磁極層３６
をスパッタリング法とフォトリソグラフィ工程等により
形成する。
しかる後、第１図（ｅｌに示すように前記下部磁極層３
６上に、以下従来と同様の製造工程によりギャップ層３
７．第１絶縁層３日、薄膜コイル層３９．第２絶縁層４
０．上部磁極層４１及び保護層４２を順に積層形成した
後、切断線Ｂに沿って前記下部磁極層３６及び上部磁極
層４１の先端面が露出するように切削し、該両磁極先端
面をラッピング研磨仕上を行って媒体対向面を形成する
ことにより、下部磁極層３６の媒体対向先端部の近傍に
、テーパー状の磁極突出部３２ａが形成された薄膜磁気
ヘッドを容易に得ることができる。
６上に、以下従来と同様の製造工程によりギャップ層３
７．第１絶縁層３日、薄膜コイル層３９．第２絶縁層４
０．上部磁極層４１及び保護層４２を順に積層形成した
後、切断線Ｂに沿って前記下部磁極層３６及び上部磁極
層４１の先端面が露出するように切削し、該両磁極先端
面をラッピング研磨仕上を行って媒体対向面を形成する
ことにより、下部磁極層３６の媒体対向先端部の近傍に
、テーパー状の磁極突出部３２ａが形成された薄膜磁気
ヘッドを容易に得ることができる。
尚、以上の実施例において、上記下部磁極層３６及び上
部磁極層４１の形成方法としては、レジストマスクパタ
ーンを用いたマスクメッキ法を適用するようにしてもよ
い。
部磁極層４１の形成方法としては、レジストマスクパタ
ーンを用いたマスクメッキ法を適用するようにしてもよ
い。
このようにして得られた薄膜磁気ヘッドによれば、第２
図の磁極先端部分拡大断面図に示すように、例えば磁気
信号再生動作時における下部磁極層３６の媒体対向先端
部のエツジＡに集中する磁束の一部が、近傍の磁極突出
部３２ａへも分散吸収されて緩和されることから、′ネ
ガティブエツジ”ＨＥの波形発生が第３図に示すように
大きく減少され、それによる再生信号の影響度が僅少と
なり、再生特性が向上する。
図の磁極先端部分拡大断面図に示すように、例えば磁気
信号再生動作時における下部磁極層３６の媒体対向先端
部のエツジＡに集中する磁束の一部が、近傍の磁極突出
部３２ａへも分散吸収されて緩和されることから、′ネ
ガティブエツジ”ＨＥの波形発生が第３図に示すように
大きく減少され、それによる再生信号の影響度が僅少と
なり、再生特性が向上する。
更に、以上の実施例においては磁束集中を緩和するため
の磁極突出部３２ａを、下部磁極層３６側にのみ形成し
た例について説明したが、必要に応じて上部磁極層４１
側にも同様の方法によりテーパー状の磁極突出部を形成
出来ることは言うまでもなく、両磁極層に対してそれぞ
れ磁極突出部を形成するようにすれば、より効果的であ
る。
の磁極突出部３２ａを、下部磁極層３６側にのみ形成し
た例について説明したが、必要に応じて上部磁極層４１
側にも同様の方法によりテーパー状の磁極突出部を形成
出来ることは言うまでもなく、両磁極層に対してそれぞ
れ磁極突出部を形成するようにすれば、より効果的であ
る。
以上の説明から明らかなように、本発明に係るＷＩｉ膜
磁気ヘッドの製造方法によれば、下部磁極層の媒体対向
先端部の近傍に、磁束集中を緩和するためのテーパー状
の磁極突出部を設けた薄膜磁気ヘッドを容易に形成する
ことが可能となり、記録再生波形における“ネガティブ
エツジ”の発生を著しく低減することが可能となる。
磁気ヘッドの製造方法によれば、下部磁極層の媒体対向
先端部の近傍に、磁束集中を緩和するためのテーパー状
の磁極突出部を設けた薄膜磁気ヘッドを容易に形成する
ことが可能となり、記録再生波形における“ネガティブ
エツジ”の発生を著しく低減することが可能となる。
従って、再生出力の変動が抑止され、良好な記録再生特
性を有する信頼性の良い薄膜磁気ヘッドを得ることが出
来る優れた利点を有する。
性を有する信頼性の良い薄膜磁気ヘッドを得ることが出
来る優れた利点を有する。
第１図は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法の一実
施例を工程順に示す要部断面 図、 第２図は本発明の製造方法によって得られた薄膜磁気ヘ
ッドの磁極先端部を示す部分 拡大断面図、 第３図は本発明の製造方法によって得られた薄膜磁気ヘ
ッドによる孤立再生波形を示 す図、 第４図は従来の薄膜磁気ヘッドを説明するための要部平
面図、 第５図は第１４図に示すＡ−Ａ’切断線に沿うた断面図
、 第６図は従来の薄膜磁気ヘッドの磁極先端部を示す部分
拡大断面図、 第７図は従来の薄膜磁気ヘッドによる孤立再生波形を示
す図である。゛ 第１図乃至第２図において、 ３１は非磁性基板、３２は磁極層、３２ａはテーパー状
磁極突出部、３３はレジスト膜、３４はレジストマスク
パターン、３５は平坦用絶縁層、３６は下部磁極層、３
７はギャップ層、３８は第１絶縁層、３９は薄膜コイル
層、４０は第２絶縁層、４１は上部磁極層、４２は保護
層をそれぞれ示す。 （ｄ） （ｅ） オシ明−突絶例１旺明Ｂ工社口 第 １ 図 本発明Ｃ：Ｉるへ−Ｉド４雑範ＩＪ墨剤一部分払た眸面
口１１２ｖ！Ｊ 滞、発日月によ与に並入ヘッド／ｌｊ口〔勇主シｌ形図
第３図
施例を工程順に示す要部断面 図、 第２図は本発明の製造方法によって得られた薄膜磁気ヘ
ッドの磁極先端部を示す部分 拡大断面図、 第３図は本発明の製造方法によって得られた薄膜磁気ヘ
ッドによる孤立再生波形を示 す図、 第４図は従来の薄膜磁気ヘッドを説明するための要部平
面図、 第５図は第１４図に示すＡ−Ａ’切断線に沿うた断面図
、 第６図は従来の薄膜磁気ヘッドの磁極先端部を示す部分
拡大断面図、 第７図は従来の薄膜磁気ヘッドによる孤立再生波形を示
す図である。゛ 第１図乃至第２図において、 ３１は非磁性基板、３２は磁極層、３２ａはテーパー状
磁極突出部、３３はレジスト膜、３４はレジストマスク
パターン、３５は平坦用絶縁層、３６は下部磁極層、３
７はギャップ層、３８は第１絶縁層、３９は薄膜コイル
層、４０は第２絶縁層、４１は上部磁極層、４２は保護
層をそれぞれ示す。 （ｄ） （ｅ） オシ明−突絶例１旺明Ｂ工社口 第 １ 図 本発明Ｃ：Ｉるへ−Ｉド４雑範ＩＪ墨剤一部分払た眸面
口１１２ｖ！Ｊ 滞、発日月によ与に並入ヘッド／ｌｊ口〔勇主シｌ形図
第３図
Claims (1)
- 基板上に下部磁極層、ギャップ層及び層間絶縁層を介し
てコイル導体層及び上部磁極層を順に積層形成する薄膜
磁気ヘッドの製造方法において、上記基板上に下部磁極
層を形成するに先立って、該基板上に磁性層を被着し、
該磁性層を下部磁極層形成予定領域に断面形状が台形と
なるようにパターニングした後、その磁性層上に下部磁
極層を被着形成することにより、下部磁極層の媒体対向
先端部の近傍に、テーパー状の磁極突出部を形成するこ
とを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5208085A JPS61210510A (ja) | 1985-03-14 | 1985-03-14 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5208085A JPS61210510A (ja) | 1985-03-14 | 1985-03-14 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61210510A true JPS61210510A (ja) | 1986-09-18 |
Family
ID=12904839
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5208085A Pending JPS61210510A (ja) | 1985-03-14 | 1985-03-14 | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61210510A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0356126A2 (en) * | 1988-08-17 | 1990-02-28 | Quantum Corporation | Recording head to minimize undershoots in readback pulses |
-
1985
- 1985-03-14 JP JP5208085A patent/JPS61210510A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0356126A2 (en) * | 1988-08-17 | 1990-02-28 | Quantum Corporation | Recording head to minimize undershoots in readback pulses |
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