JPS61207012A - 拡散炉用石英ボ−ト - Google Patents
拡散炉用石英ボ−トInfo
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- JPS61207012A JPS61207012A JP4770785A JP4770785A JPS61207012A JP S61207012 A JPS61207012 A JP S61207012A JP 4770785 A JP4770785 A JP 4770785A JP 4770785 A JP4770785 A JP 4770785A JP S61207012 A JPS61207012 A JP S61207012A
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- JP
- Japan
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- boat
- quartz
- quartz boat
- diffusion furnace
- diffusion
- Prior art date
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Links
- 239000010453 quartz Substances 0.000 title claims abstract description 20
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 20
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 title claims description 19
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 7
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/22—Diffusion of impurity materials, e.g. doping materials, electrode materials, into or out of a semiconductor body, or between semiconductor regions; Interactions between two or more impurities; Redistribution of impurities
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、とくに半導体LSIを製造する拡散@酸化工
程で便用される拡散炉用の石英ボートに関するものであ
る。
程で便用される拡散炉用の石英ボートに関するものであ
る。
従来、拡散炉用の石英ボートは第2図に示すように石英
600両端例にボートハンガーで支える部分70を有し
、一方の面から溝80を有する構造となっており、この
石英ボートにウェハーを載せて、拡散炉の中で拡散・は
化り程を行なっている。
600両端例にボートハンガーで支える部分70を有し
、一方の面から溝80を有する構造となっており、この
石英ボートにウェハーを載せて、拡散炉の中で拡散・は
化り程を行なっている。
上述した従来の拡散炉用石英ボートは高温の拡散工程に
おいては、作業回数を重ねるにつれ、高温のために載せ
ているウェハーの荷電によって第3図に示すように変形
していき、その耐用回数が少なくなっ【しまう。あるい
はウェハーの立て替えに支障が出るといった欠点がある
。
おいては、作業回数を重ねるにつれ、高温のために載せ
ているウェハーの荷電によって第3図に示すように変形
していき、その耐用回数が少なくなっ【しまう。あるい
はウェハーの立て替えに支障が出るといった欠点がある
。
本発明の目的は、高温の拡散工程において、変形を少な
くするような拡散炉用石英ボートを提供することにある
。
くするような拡散炉用石英ボートを提供することにある
。
本発明の拡散炉用石英ボートは、第1図にその実施例を
示すようにボートの表側と裏側に互い違いに溝をつける
ことを特許とするものである。
示すようにボートの表側と裏側に互い違いに溝をつける
ことを特許とするものである。
高温の拡散上框において、石英ボートは作業回数を重ね
るにつれて、高温のために載せているウェハーの荷重に
よって変形してしまうので、一工程あるいは数工程が終
了する毎に石英ボートの表側と裏−をひっくり返して1
史用することによって前回までの工程におい【生じた微
少の変形を修正しながら使用することが可能になる。表
側と裏側の溝を互い違いにつけるのは、石英ボートの強
度を考瀘して開用に耐え得る強度を有した構造にするた
めである。
るにつれて、高温のために載せているウェハーの荷重に
よって変形してしまうので、一工程あるいは数工程が終
了する毎に石英ボートの表側と裏−をひっくり返して1
史用することによって前回までの工程におい【生じた微
少の変形を修正しながら使用することが可能になる。表
側と裏側の溝を互い違いにつけるのは、石英ボートの強
度を考瀘して開用に耐え得る強度を有した構造にするた
めである。
以上のように本発明にか力Sる拡散炉用の石英ボートは
、高温の拡販工程において、ボートの変形を少なくする
ような便用方法がcIJ’ 能な構造になっている。
、高温の拡販工程において、ボートの変形を少なくする
ような便用方法がcIJ’ 能な構造になっている。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一笑施例の側面図である。10は石英
、20.30はボートハンガーを支える部分でボートの
表側と裏側にそれぞれついている。
、20.30はボートハンガーを支える部分でボートの
表側と裏側にそれぞれついている。
40.50riボートの溝で強度を考えて表側より互い
違いにつけである。
違いにつけである。
前述したように、従来の拡散炉用石英ボートでは、高温
の拡散工程において、使用回数を重ねるにつれてボート
が変形してしまうという欠点を持ったが、本発明におけ
る石英ボートではボートの変形を少なくするような便用
方法が可能であるために、石英ボートの耐用回数が増え
、またウェハーの立て替え作条がスムーズに行なうこと
ができるという効果を有する。
の拡散工程において、使用回数を重ねるにつれてボート
が変形してしまうという欠点を持ったが、本発明におけ
る石英ボートではボートの変形を少なくするような便用
方法が可能であるために、石英ボートの耐用回数が増え
、またウェハーの立て替え作条がスムーズに行なうこと
ができるという効果を有する。
第1図は本発明にかかる実施例の側面図である。
第2図は従来の拡散炉用ボートの側面図である。
第3図は高温のために変形した従来の拡散炉用ボートの
側面図である。 10.60・・・・・・石英(SiOz)、 20,3
0゜70・・・・・・ボートハンガーで支える部分、4
0 、50 。 80・−・・・・ボートの溝。
側面図である。 10.60・・・・・・石英(SiOz)、 20,3
0゜70・・・・・・ボートハンガーで支える部分、4
0 、50 。 80・−・・・・ボートの溝。
Claims (1)
- 高温用拡散炉のウェハーを支える石英ボートにおいて
、ボートの表側と裏側に互い違いに溝をつけたことを特
徴とする拡散炉用石英ボート。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4770785A JPS61207012A (ja) | 1985-03-11 | 1985-03-11 | 拡散炉用石英ボ−ト |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4770785A JPS61207012A (ja) | 1985-03-11 | 1985-03-11 | 拡散炉用石英ボ−ト |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61207012A true JPS61207012A (ja) | 1986-09-13 |
Family
ID=12782770
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4770785A Pending JPS61207012A (ja) | 1985-03-11 | 1985-03-11 | 拡散炉用石英ボ−ト |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61207012A (ja) |
-
1985
- 1985-03-11 JP JP4770785A patent/JPS61207012A/ja active Pending
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