JPS61201143A - 水素ガスセンサー - Google Patents
水素ガスセンサーInfo
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- JPS61201143A JPS61201143A JP60041318A JP4131885A JPS61201143A JP S61201143 A JPS61201143 A JP S61201143A JP 60041318 A JP60041318 A JP 60041318A JP 4131885 A JP4131885 A JP 4131885A JP S61201143 A JPS61201143 A JP S61201143A
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- Japan
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- hydrogen
- light absorption
- sensor
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/75—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated
- G01N21/77—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated by observing the effect on a chemical indicator
- G01N21/7703—Systems in which material is subjected to a chemical reaction, the progress or the result of the reaction being investigated by observing the effect on a chemical indicator using reagent-clad optical fibres or optical waveguides
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はガスセンサーの耐久性を向上する技術に関する
。
。
以下水素ガスセンサーを例にとり説明する。
水素ガスセンサーとしては大別すると電気式のものと光
学式のものがあり、電気式のものでは絶縁体基板上にs
n○2やZnOなどの酸化物半導体層、およびこの半導
体層上に間隔をおいて対向させた一対の電極を設け、上
記半導体層の水素ガスとの接触反応に伴なう電気抵抗変
化を測定するものが知られている。また防爆型の全光学
式のものとして、透明基板上に光導波路を設け、この導
波路上に、水素を吸着解離する物質例えばパラジウム(
P(1)から成る上層とこの解離された水素から電子・
プロトンを受けて光吸収係数が変化する物質例えば酸化
タングステンから成る下層とで形成される積層膜を設け
てセンサーを構成し、水素との反応で上記積層膜の下層
の光吸収係数が増大して導波路からの出射光量が減少す
る現象を利用したセンサーが存在する。
学式のものがあり、電気式のものでは絶縁体基板上にs
n○2やZnOなどの酸化物半導体層、およびこの半導
体層上に間隔をおいて対向させた一対の電極を設け、上
記半導体層の水素ガスとの接触反応に伴なう電気抵抗変
化を測定するものが知られている。また防爆型の全光学
式のものとして、透明基板上に光導波路を設け、この導
波路上に、水素を吸着解離する物質例えばパラジウム(
P(1)から成る上層とこの解離された水素から電子・
プロトンを受けて光吸収係数が変化する物質例えば酸化
タングステンから成る下層とで形成される積層膜を設け
てセンサーを構成し、水素との反応で上記積層膜の下層
の光吸収係数が増大して導波路からの出射光量が減少す
る現象を利用したセンサーが存在する。
:従来技術の問題点〕
いずれのタイプのガスセンサーでも、ガスと接触する検
知部は外気にさらされており、水分との接触によって検
知部に使用されている物質が劣化するため、センサーと
しての寿命が比較的短がいという問題があった。
知部は外気にさらされており、水分との接触によって検
知部に使用されている物質が劣化するため、センサーと
しての寿命が比較的短がいという問題があった。
し従来の問題点を解決する手段〕
ガスセンサーのガス検知部露出面を、非親水性の連続多
孔質体からなる被覆層で保護被覆する。
孔質体からなる被覆層で保護被覆する。
上記の被覆層材質としては特に四弗化エチレン樹脂が好
適であり、これ以外にポリクロルトリフルオルエチレン
、7ノ化ビニル、三弗化エチレン、弗化ビニリデン、六
弗化プロピレン等の耐候性の良好な7ノ素樹脂を用いる
ことができる。
適であり、これ以外にポリクロルトリフルオルエチレン
、7ノ化ビニル、三弗化エチレン、弗化ビニリデン、六
弗化プロピレン等の耐候性の良好な7ノ素樹脂を用いる
ことができる。
また上記被覆層は有機樹脂以外に無機物質で構成しても
よい。
よい。
[作 用]
保護被覆層が連続多孔質体で形成されているため通気性
が有り、被検知ガスを含む雰囲気は自由に通過すること
ができ、ガス検知部に容易に達するのでガスの検知特性
は全く影響を受けない。
が有り、被検知ガスを含む雰囲気は自由に通過すること
ができ、ガス検知部に容易に達するのでガスの検知特性
は全く影響を受けない。
また、被覆層は非親水性であるため、連続多孔質であっ
ても毛管現象((よる水分の透過を生じない。また孔径
が小さいほど耐水圧は高くなり防水性は向上する。さら
に、上記被覆層をセンサ一本体に接着固定する際に、気
孔への接着剤浸み込みによるアンカー効果で7〕素樹脂
のような非接着性の材質であっても強固に固定すること
ができる。
ても毛管現象((よる水分の透過を生じない。また孔径
が小さいほど耐水圧は高くなり防水性は向上する。さら
に、上記被覆層をセンサ一本体に接着固定する際に、気
孔への接着剤浸み込みによるアンカー効果で7〕素樹脂
のような非接着性の材質であっても強固に固定すること
ができる。
以下本発明を図面に示した実施例に基づいて詳細に説明
する。
する。
第1図は本発明を平板光導波路タイプの水素ガスセンサ
ーに適用した例を示し、センサー/は透明誘電体基板2
に、この基板よりも屈折率の大な光導波路3を設け、こ
の光導波路3上にガス検知部tとして、光吸収層よおよ
び水素吸着層乙の積層膜を設けて構成される。
ーに適用した例を示し、センサー/は透明誘電体基板2
に、この基板よりも屈折率の大な光導波路3を設け、こ
の光導波路3上にガス検知部tとして、光吸収層よおよ
び水素吸着層乙の積層膜を設けて構成される。
表面側にある吸着層6は、水素ガスを吸着解離する全校
、の薄膜例えばパラジウム(Pd)あるいは白金(Pt
)で形成され、吸着層乙の下にある光吸収層5は、吸着
層乙で解離された水素から電子およびプロトンを受ける
ことにより光吸収係数が変化する物質例えば酸化タング
ステン(WO3)で形成される。
、の薄膜例えばパラジウム(Pd)あるいは白金(Pt
)で形成され、吸着層乙の下にある光吸収層5は、吸着
層乙で解離された水素から電子およびプロトンを受ける
ことにより光吸収係数が変化する物質例えば酸化タング
ステン(WO3)で形成される。
上記構造のセンサーの、光導波路3の両端にそレーザー
等の光源gに、出力用ファイバー7Bの他端をPIN
7オトダイオード等の受光検出器りにそれぞれ接続する
。
等の光源gに、出力用ファイバー7Bの他端をPIN
7オトダイオード等の受光検出器りにそれぞれ接続する
。
上記のセンサーで、吸着層乙に水素ガスが接触すると該
層の水素還元作用によって電子、プロトンが発生し、こ
れらが下方のWO3から成る光吸収層jK注入されて下
記の反応を生じる。
層の水素還元作用によって電子、プロトンが発生し、こ
れらが下方のWO3から成る光吸収層jK注入されて下
記の反応を生じる。
WO3+xH++Xe−−+HxWO3(1)上記反応
が進行するとWO3の光吸収層jが着色(タングステン
ブロンズ)して光吸収係数が増加し、導波路3から浸み
出して光吸収層jを通る工出射光量が減少する。この受
光口変化を測定することにより水素濃度を検知すること
ができる。
が進行するとWO3の光吸収層jが着色(タングステン
ブロンズ)して光吸収係数が増加し、導波路3から浸み
出して光吸収層jを通る工出射光量が減少する。この受
光口変化を測定することにより水素濃度を検知すること
ができる。
上記構造の水素ガスセンサーでは、吸着層乙の全表面お
よび、吸着層乙を吸収層5の表面に部分的に設けた場合
には、光吸収層!の上表面が部分的に外気に露出するこ
ととなり、これら両層j、乙の露出面が水分と接触して
劣化するという問題がある。
よび、吸着層乙を吸収層5の表面に部分的に設けた場合
には、光吸収層!の上表面が部分的に外気に露出するこ
ととなり、これら両層j、乙の露出面が水分と接触して
劣化するという問題がある。
そこで本発明では、第1図に示すようにガス検知部lを
成す両層j、乙の全表面を覆って、非親水二性の連続多
孔質体から成る保護被慶層10で被覆! する。例えばガス検知部lを基板2表面のほぼ中央部に
設け、別途作成した連続多孔質の被覆膜−′″’/ 0
を上記ガス検知部’7に1せて膜IOの周辺部を基板2
上面に接着固定する。
成す両層j、乙の全表面を覆って、非親水二性の連続多
孔質体から成る保護被慶層10で被覆! する。例えばガス検知部lを基板2表面のほぼ中央部に
設け、別途作成した連続多孔質の被覆膜−′″’/ 0
を上記ガス検知部’7に1せて膜IOの周辺部を基板2
上面に接着固定する。
一例として、基板2としてLiNbO3を用い、この基
板2にT1を熱拡散させて光導波路3を形成し、この導
波路3上にWO3膜を7μmの厚さで真空蒸着して光吸
収層jとする。
板2にT1を熱拡散させて光導波路3を形成し、この導
波路3上にWO3膜を7μmの厚さで真空蒸着して光吸
収層jとする。
”JJnq Hk* rtF Q Q 99Q!に
’l ヘl−=、k 4 EEI+−1、71し;
+でコートされたW線ルツボを用いて、/×l0−5
TOrr以下の真空度で基板温度を100″Cとして真
空蒸着する。この温度ではWO3はアモルファスになっ
ており、酸素欠陥のために青色を帯びている。
’l ヘl−=、k 4 EEI+−1、71し;
+でコートされたW線ルツボを用いて、/×l0−5
TOrr以下の真空度で基板温度を100″Cとして真
空蒸着する。この温度ではWO3はアモルファスになっ
ており、酸素欠陥のために青色を帯びている。
WO3膜を付けた基板を酸素雰囲気中で2oo”cS1
時間のアニールを行ない安定化させる。
時間のアニールを行ない安定化させる。
次いで上記WO3膜上に水素吸着層6としてPdを10
にIAの厚さにスパッタリング法で付着させる。
にIAの厚さにスパッタリング法で付着させる。
さらに、この外に保護被覆層IOとして、−軸あるいは
二軸の延伸加工を施して連続多孔質とした四弗化エチレ
ン樹脂フィルムを積層し、外周部で接着固定する。上記
構造とすることにより、水素ガスを含む雰囲気は被覆層
10を自由に通過することができ、検知性能は従来と変
らない。
二軸の延伸加工を施して連続多孔質とした四弗化エチレ
ン樹脂フィルムを積層し、外周部で接着固定する。上記
構造とすることにより、水素ガスを含む雰囲気は被覆層
10を自由に通過することができ、検知性能は従来と変
らない。
一力く向上する。
上記構造のセンサーはIOへsoooppmの水素ガス
濃度範囲を±j%の精度で測定可能であり、長期にわた
り初期の性能を維持することができる。
濃度範囲を±j%の精度で測定可能であり、長期にわた
り初期の性能を維持することができる。
第2図に本発明の第二実施例を示す。本例は、光導波路
3を、電子およびプロトンを受けることにより光吸収係
数が変化する物質で形成した、すなわち前述実施例の光
吸aNSそのものを光導波路3とした構造であり、他は
前述実施例と同様である。
3を、電子およびプロトンを受けることにより光吸収係
数が変化する物質で形成した、すなわち前述実施例の光
吸aNSそのものを光導波路3とした構造であり、他は
前述実施例と同様である。
第3図に本発明の第三実施例を示す。本例は光導波路本
体として集束性レンズを適用した例であり、先導波路を
成す本体//は、屈折率が中心軸上で最大で周辺に向け
て漸減する分布をもつ透明円柱体から成る周知の集束性
レンズを中心で半割した半円柱体で構成される。そして
その長さは光線蛇行周期の//2ピッチの整数倍としで
ある。
体として集束性レンズを適用した例であり、先導波路を
成す本体//は、屈折率が中心軸上で最大で周辺に向け
て漸減する分布をもつ透明円柱体から成る周知の集束性
レンズを中心で半割した半円柱体で構成される。そして
その長さは光線蛇行周期の//2ピッチの整数倍としで
ある。
−上記の半円柱状本体/lの平坦側面//A上に光吸収
層5および吸着N乙を設けるとともに、両層!。
層5および吸着N乙を設けるとともに、両層!。
乙の全体を被覆するように非親水性の連続多孔質体/l
の両端面に接続する。
の両端面に接続する。
上記構造のセンサーで、入力ファイバー7Aから本体/
/内に入射した光線/2は略サインカーブを描いて平坦
側面//Aに向い、ここから出射して光吸収層5を透過
した後、吸着層6と光吸収層jとの界面で反射し再び本
体ll内を進行した後出力用ファイバー7Bに入射する
。
/内に入射した光線/2は略サインカーブを描いて平坦
側面//Aに向い、ここから出射して光吸収層5を透過
した後、吸着層6と光吸収層jとの界面で反射し再び本
体ll内を進行した後出力用ファイバー7Bに入射する
。
第5図に本発明の第四実施例を示す。
本例は、高屈折率のコア部13を低屈折率のクラッド層
/44で被覆した光ファイバー75を光導波路3として
用い、このファイバーljのクラッド層lグを一部分除
去してコア部/3を露出させ、この露出コア部/3を囲
むように光吸収層j1水素吸着層6および連続多孔質体
の被覆層10を設けたものである。
/44で被覆した光ファイバー75を光導波路3として
用い、このファイバーljのクラッド層lグを一部分除
去してコア部/3を露出させ、この露出コア部/3を囲
むように光吸収層j1水素吸着層6および連続多孔質体
の被覆層10を設けたものである。
以上本発明を、全光式の水素検知センサーを例にとり説
明したが、本発明は図示例に限定されることなく、種々
の光学式ガスセンサーあるいは電気抵抗測定式のガスセ
ンサーに広く適用することができる。
明したが、本発明は図示例に限定されることなく、種々
の光学式ガスセンサーあるいは電気抵抗測定式のガスセ
ンサーに広く適用することができる。
よる検出性能の低下を生じることがなく、長期間にわた
り安定した性能を維持することができる。
り安定した性能を維持することができる。
第7図は本発明の第一実施例を示す側断面図、第2図は
本発明の第二実施例を示す側断面図、第3図は本発明の
第三実施例を示す側断面図、第4図は同正面図、第S図
は本発明の第四実施例を示す側断面図である。 /・・・・・・ガスセンサー 3・・・・・光導波路t
・・・・・・ガス検知部 j・・・・・・光吸収層6・
・・・・・水素吸着層7A・・・・・・人力用光7アイ
パー7B・・・・・・出力用光ファイバー ざ・・・・
・・光 源り・・・・受光検出器
本発明の第二実施例を示す側断面図、第3図は本発明の
第三実施例を示す側断面図、第4図は同正面図、第S図
は本発明の第四実施例を示す側断面図である。 /・・・・・・ガスセンサー 3・・・・・光導波路t
・・・・・・ガス検知部 j・・・・・・光吸収層6・
・・・・・水素吸着層7A・・・・・・人力用光7アイ
パー7B・・・・・・出力用光ファイバー ざ・・・・
・・光 源り・・・・受光検出器
Claims (4)
- (1)ガス検知部の露出面を、非親水性の連続多孔質体
からなる被覆層で覆ったことを特徴とするガスセンサー
。 - (2)特許請求の範囲第1項において、被覆層を四弗化
エチレン樹脂で形成したガスセンサー。 - (3)特許請求の範囲第1項において、前記ガス検知部
は、ガスとの反応で光の透過率が変化する物質の層で形
成され、該層を通る光の受光量変化によりガス濃度を検
知するようにしたガスセンサー。 - (4)特許請求の範囲第1項において、前記ガス検知部
は、水素を吸着解離する物質から成る吸着層と、該層の
下に設けられ前記解離水素を受けて光吸収係数が変化す
る物質の層とで形成されているガスセンサー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60041318A JPS61201143A (ja) | 1985-03-04 | 1985-03-04 | 水素ガスセンサー |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60041318A JPS61201143A (ja) | 1985-03-04 | 1985-03-04 | 水素ガスセンサー |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61201143A true JPS61201143A (ja) | 1986-09-05 |
JPH0210374B2 JPH0210374B2 (ja) | 1990-03-07 |
Family
ID=12605161
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60041318A Granted JPS61201143A (ja) | 1985-03-04 | 1985-03-04 | 水素ガスセンサー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61201143A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63307335A (ja) * | 1987-05-22 | 1988-12-15 | アメリカン テレフォン アンド テレグラフ カムパニー | 広域センサ、広域検出方法及びその装置 |
WO2006011117A2 (en) * | 2004-07-23 | 2006-02-02 | Arcelik Anonim Sirketi | Coating material and fiber optic sensor in which this coating material is used |
JP2006342411A (ja) * | 2005-06-10 | 2006-12-21 | Japan Atomic Energy Agency | 光学式水素検知材料用酸化タングステン薄膜の作製方法 |
JP2007248367A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Atsumi Tec:Kk | 水素ガス検知装置 |
WO2007116919A1 (ja) * | 2006-04-04 | 2007-10-18 | Japan Atomic Energy Agency | 水素ガス検知材とその被膜方法 |
JP2009180521A (ja) * | 2008-01-29 | 2009-08-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | ガス検知素子およびその作製方法 |
JP2011197008A (ja) * | 2010-03-17 | 2011-10-06 | General Electric Co <Ge> | 光ファイバ水素純度センサ及びシステム |
JP6229986B1 (ja) * | 2016-07-21 | 2017-11-15 | 国立大学法人東北大学 | 鉄鋼材料中の水素の検出器 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102242201B1 (ko) * | 2019-07-10 | 2021-04-19 | 아주대학교 산학협력단 | 수소 센서 및 이의 제조방법 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61178646A (ja) * | 1985-02-04 | 1986-08-11 | グールド・インコーポレイテツド | 酸素モニタ素子およびその製造方法 |
-
1985
- 1985-03-04 JP JP60041318A patent/JPS61201143A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61178646A (ja) * | 1985-02-04 | 1986-08-11 | グールド・インコーポレイテツド | 酸素モニタ素子およびその製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63307335A (ja) * | 1987-05-22 | 1988-12-15 | アメリカン テレフォン アンド テレグラフ カムパニー | 広域センサ、広域検出方法及びその装置 |
US7773835B2 (en) | 2004-07-23 | 2010-08-10 | Arcelik Anonim Sirketi | Coating material and fiber optic sensor in which this coating material is used |
WO2006011117A2 (en) * | 2004-07-23 | 2006-02-02 | Arcelik Anonim Sirketi | Coating material and fiber optic sensor in which this coating material is used |
WO2006011117A3 (en) * | 2004-07-23 | 2006-04-20 | Arcelik As | Coating material and fiber optic sensor in which this coating material is used |
JP4717522B2 (ja) * | 2005-06-10 | 2011-07-06 | 独立行政法人 日本原子力研究開発機構 | 光学式水素検知材料用酸化タングステン薄膜の作製方法 |
JP2006342411A (ja) * | 2005-06-10 | 2006-12-21 | Japan Atomic Energy Agency | 光学式水素検知材料用酸化タングステン薄膜の作製方法 |
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JP2007278744A (ja) * | 2006-04-04 | 2007-10-25 | Japan Atomic Energy Agency | 水素ガス検知材とその被膜方法 |
US8052898B2 (en) | 2006-04-04 | 2011-11-08 | Japan Atomic Energy Agency | Hydrogen gas detecting material and the coating method |
JP2009180521A (ja) * | 2008-01-29 | 2009-08-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | ガス検知素子およびその作製方法 |
JP2011197008A (ja) * | 2010-03-17 | 2011-10-06 | General Electric Co <Ge> | 光ファイバ水素純度センサ及びシステム |
JP6229986B1 (ja) * | 2016-07-21 | 2017-11-15 | 国立大学法人東北大学 | 鉄鋼材料中の水素の検出器 |
JP2018013424A (ja) * | 2016-07-21 | 2018-01-25 | 国立大学法人東北大学 | 鉄鋼材料中の水素の検出器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0210374B2 (ja) | 1990-03-07 |
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