JPS61197403A - 水素製造法 - Google Patents
水素製造法Info
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- JPS61197403A JPS61197403A JP3821485A JP3821485A JPS61197403A JP S61197403 A JPS61197403 A JP S61197403A JP 3821485 A JP3821485 A JP 3821485A JP 3821485 A JP3821485 A JP 3821485A JP S61197403 A JPS61197403 A JP S61197403A
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- hydrogen
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は原料炭化水素を水蒸気改質して水素全製造する
方法の改良に関するもので、水蒸気改質反応を利用した
水素製造法に於けるオフガス中のメタン及び−酸化炭素
を、水蒸気改質反応の原料の一部として活用できるよう
にした水素製造法に係る。
方法の改良に関するもので、水蒸気改質反応を利用した
水素製造法に於けるオフガス中のメタン及び−酸化炭素
を、水蒸気改質反応の原料の一部として活用できるよう
にした水素製造法に係る。
ナフサ、ＬＰＧなどの炭化水素を原料とし、これを水蒸
気改質して水素を製造するに際しては、＠２図に示す如
く、まず原料炭化水素を水素化脱硫帯域ｌに供給して処
理した後、脱硫てれた原料炭化水素をスチームと共に水
蒸気改質帯域２に供給して、ＣＨ，、Ｃｏ 、 Ｈ，、
ＣＯ２及びＨ２Ｏを含有する改質ガスを生成させ、次い
でこの頃質ガスヲＣＯシフト反応帯域３に送り、改質ガ
ス中のＣＯ及びＨ２ＯをＨｌ及びＣＯ２に転化させるこ
とにより、ガス中の水素濃度を増大させ、しかる後この
ガスを吸着分離帯域４で精製して水素を取得する方法が
、従来一般に採用されている。そして、吸着分離帯域４
はこれを複数個の吸着塔で構成させて、ＣＯシフト反反
応帯域出口ガス精製操作と、吸着塔の再生操作を間断な
く行なうのが通例であり、吸着分離手段には、例えば圧
力、Ｘ、イ７グ吸着（Ｐｒｅｓｓｕｒｅ ＳｗｉｎｇＡ
ｄｓｏｒｐｔｉｏｎ 以下ＰＳＡと略記）が利用されて
いる。
気改質して水素を製造するに際しては、＠２図に示す如
く、まず原料炭化水素を水素化脱硫帯域ｌに供給して処
理した後、脱硫てれた原料炭化水素をスチームと共に水
蒸気改質帯域２に供給して、ＣＨ，、Ｃｏ 、 Ｈ，、
ＣＯ２及びＨ２Ｏを含有する改質ガスを生成させ、次い
でこの頃質ガスヲＣＯシフト反応帯域３に送り、改質ガ
ス中のＣＯ及びＨ２ＯをＨｌ及びＣＯ２に転化させるこ
とにより、ガス中の水素濃度を増大させ、しかる後この
ガスを吸着分離帯域４で精製して水素を取得する方法が
、従来一般に採用されている。そして、吸着分離帯域４
はこれを複数個の吸着塔で構成させて、ＣＯシフト反反
応帯域出口ガス精製操作と、吸着塔の再生操作を間断な
く行なうのが通例であり、吸着分離手段には、例えば圧
力、Ｘ、イ７グ吸着（Ｐｒｅｓｓｕｒｅ ＳｗｉｎｇＡ
ｄｓｏｒｐｔｉｏｎ 以下ＰＳＡと略記）が利用されて
いる。
ところで、上記のような水素製造法では吸着塔の再生過
程で、再生用ガスに用いた水素と共に、ＣＨ，、ＣＯ、
ＣＯ２及びＨ２Ｏがオフガスとして系外に排出される。
程で、再生用ガスに用いた水素と共に、ＣＨ，、ＣＯ、
ＣＯ２及びＨ２Ｏがオフガスとして系外に排出される。
このオフガスは現在のところ、水蒸気改質炉の自家燃料
として使用嘔れているが、このガスには多量のＣＯ，が
含まれている関係で、特殊なバーナを使用しなければな
らず、また多量の顕熱を奪うの′で、炉の熱効率を低下
させる不都合がめった。加えて、上記のオフガスは水素
製造の原料となり得るＣＨ４及びＣＯ會含んでいるため
、これを単なる燃料として消費してしまうことは得策で
ない。
として使用嘔れているが、このガスには多量のＣＯ，が
含まれている関係で、特殊なバーナを使用しなければな
らず、また多量の顕熱を奪うの′で、炉の熱効率を低下
させる不都合がめった。加えて、上記のオフガスは水素
製造の原料となり得るＣＨ４及びＣＯ會含んでいるため
、これを単なる燃料として消費してしまうことは得策で
ない。
本発明は上記の如き水素製造法の吸着分離工程を改良し
、オフガス中に含まれるＣＨ，及びＣＯを選択的に回収
して、これらを水素製造の原料の一部として利用できる
ようにした水素製造法を提供する。
、オフガス中に含まれるＣＨ，及びＣＯを選択的に回収
して、これらを水素製造の原料の一部として利用できる
ようにした水素製造法を提供する。
既述した通り、水素製造法ではＣｏシフト反応帯域から
流出ガスを、吸着分離帯域に供給し、このガスに含まれ
る水素以外の成分を吸着剤に吸着させて精製水素を取得
しているが、前記の流出ガスを吸着剤層に供給すると、
水素から分離堰れるＣＭ、、Ｃｏ、ＣＯ，及びＨ２Ｏの
各成分は、吸着能力の差に原因して、ガス供給側から見
てＨ２Ｏ／ ＣＯ，／ ＣＨ，／Ｃｏの順に吸着ちれる
。そして、これら各成分の各吸着能力はかなり明確に区
分嘔れる。従って、吸着剤層の再生時に、Ｈ，０及びＣ
Ｏ□の２成分と、ＣＨ，及びＣＯの２成分を態別に脱離
式せることかできれば、後者の２成分を選択的に回収し
てこれを水素製造の原料に使用することができる。
流出ガスを、吸着分離帯域に供給し、このガスに含まれ
る水素以外の成分を吸着剤に吸着させて精製水素を取得
しているが、前記の流出ガスを吸着剤層に供給すると、
水素から分離堰れるＣＭ、、Ｃｏ、ＣＯ，及びＨ２Ｏの
各成分は、吸着能力の差に原因して、ガス供給側から見
てＨ２Ｏ／ ＣＯ，／ ＣＨ，／Ｃｏの順に吸着ちれる
。そして、これら各成分の各吸着能力はかなり明確に区
分嘔れる。従って、吸着剤層の再生時に、Ｈ，０及びＣ
Ｏ□の２成分と、ＣＨ，及びＣＯの２成分を態別に脱離
式せることかできれば、後者の２成分を選択的に回収し
てこれを水素製造の原料に使用することができる。
而して本発明に係る水素製造法は、原料炭化水素を水蒸
気改質帯域に供給して改質ガスを生成させ、この改質ガ
スヲＣＯシフト反応帯域に供給してガス中の水素濃度を
増大させ、ＣＯシフト反反応帯域出口ガス吸着分離法で
精製する水素製造法に於て、前記のＣＯシフト反応蛍域
出ロガスを二つの吸着分離帯域に直列に通過させ、上流
側の第１の吸着分離工程に■１２０及びＣＯ２を、下流
側の第２の吸着分離帯域にＣＨ，及びＣＯをそれぞれ吸
着させて第２の吸着分離帯域から製品水素を回収し、第
２の吸着分離帯域の再生時に当該帯域から脱離するＣＨ
４及びＣＯを、原料炭化水素に混合して水素製造の原料
の一部として使用することを特徴とする。
気改質帯域に供給して改質ガスを生成させ、この改質ガ
スヲＣＯシフト反応帯域に供給してガス中の水素濃度を
増大させ、ＣＯシフト反反応帯域出口ガス吸着分離法で
精製する水素製造法に於て、前記のＣＯシフト反応蛍域
出ロガスを二つの吸着分離帯域に直列に通過させ、上流
側の第１の吸着分離工程に■１２０及びＣＯ２を、下流
側の第２の吸着分離帯域にＣＨ，及びＣＯをそれぞれ吸
着させて第２の吸着分離帯域から製品水素を回収し、第
２の吸着分離帯域の再生時に当該帯域から脱離するＣＨ
４及びＣＯを、原料炭化水素に混合して水素製造の原料
の一部として使用することを特徴とする。
以下、第１図にそって本発明をさらに詳しく説明する。
第１図は本発明方法のブロックダイアダラムであって、
ＬＰＧ、ナフサなどの原料炭化水素は、まず水素化脱硫
帯域１で処理される。ここで脱硫でれた原料炭化水素は
、スチームと共に水蒸気改質帯域２に供給され、ＣＨ，
、Ｈｌ、ｃｏ 、 ｃｏ、及びＨ２Ｏ’ｉ含有する改質
ガスに転化する。改質帯域２は必要に応じて、低温水蒸
気改質帯域と高温水蒸気改質帯域とで構成させることも
できれば、高温水蒸気改質帯域だけとすることもできる
。いずれにしても、水蒸気改質帯域からは上記の５成分
を含有する改質ガスが得られる。このガスは次いでＣｏ
シフト反応帯域３に供給され、ここでガス中のＣＯ及び
Ｈ，０はＨｌ及びＣＯｌに転化し、ガス中の水素濃度が
増大する。
ＬＰＧ、ナフサなどの原料炭化水素は、まず水素化脱硫
帯域１で処理される。ここで脱硫でれた原料炭化水素は
、スチームと共に水蒸気改質帯域２に供給され、ＣＨ，
、Ｈｌ、ｃｏ 、 ｃｏ、及びＨ２Ｏ’ｉ含有する改質
ガスに転化する。改質帯域２は必要に応じて、低温水蒸
気改質帯域と高温水蒸気改質帯域とで構成させることも
できれば、高温水蒸気改質帯域だけとすることもできる
。いずれにしても、水蒸気改質帯域からは上記の５成分
を含有する改質ガスが得られる。このガスは次いでＣｏ
シフト反応帯域３に供給され、ここでガス中のＣＯ及び
Ｈ，０はＨｌ及びＣＯｌに転化し、ガス中の水素濃度が
増大する。
ここまでの各単位操作は、第２図に示した従来法のそれ
と実質的に異なるところがなく、従って、上記の水ぶ化
脱硫帯域、水蒸気改質帯域及びＣｏシフト反応帯域それ
ぞれには、第２図に示すような従来の水素製造法で採用
嘔れて来た触媒及び反応条件が採用可能である。
と実質的に異なるところがなく、従って、上記の水ぶ化
脱硫帯域、水蒸気改質帯域及びＣｏシフト反応帯域それ
ぞれには、第２図に示すような従来の水素製造法で採用
嘔れて来た触媒及び反応条件が採用可能である。
本発明の方法と従来法との際立った相違点は、Ｃｏシフ
ト反応帯域から流出するガス（このガスを以下シフトガ
スと呼ぶ）の処理方法にある。
ト反応帯域から流出するガス（このガスを以下シフトガ
スと呼ぶ）の処理方法にある。
従来法は第２図に示す如く、単段の吸着分離帯域４にシ
フトガスを供給し、これに含まれる水素以外の成分を吸
着除去することで製品水素を取得するものであり、この
吸着分離方式のモデルを図示すれば第３図の通りである
。これに対し、本発明の方法は第１図に示す如く、第１
吸層分離帯域４ａ及び第２吸着分離帯域４ｂに、シフト
ガスを直列流で通過させることにより、製品水素を取得
する。
フトガスを供給し、これに含まれる水素以外の成分を吸
着除去することで製品水素を取得するものであり、この
吸着分離方式のモデルを図示すれば第３図の通りである
。これに対し、本発明の方法は第１図に示す如く、第１
吸層分離帯域４ａ及び第２吸着分離帯域４ｂに、シフト
ガスを直列流で通過させることにより、製品水素を取得
する。
すなわち、本発明の方法によれば、シフトガスは第１吸
着分離帯域４ａに供給され、この帯域でシフトガス中の
Ｈ，０及びＣ０２がまず吸着除去される。この際、シフ
トガスに含まれるＣＨ，及びＣＯは、吸着能力の差に由
来して、Ｈ２と同様吸着式れることなく帯域４ａｉ通過
する。この通過ガスは次いで第２吸着分離帯域４ｂに供
給嘔れ、ここでガス中のＣＨ，及びＣＯが吸着除去され
る結果、この帯域の出口ガスとして製品水素を得ること
ができる。この吸着分離方式のモデルは第４図（Ａ）の
吸着ステップで示される。一方、再生ステップは第４図
（Ｂ）に示され、帯域４ａ及び４ｂそれぞれを典型的に
は水素で個別にノξ−ジすることによって両帯域が再生
てれる。
着分離帯域４ａに供給され、この帯域でシフトガス中の
Ｈ，０及びＣ０２がまず吸着除去される。この際、シフ
トガスに含まれるＣＨ，及びＣＯは、吸着能力の差に由
来して、Ｈ２と同様吸着式れることなく帯域４ａｉ通過
する。この通過ガスは次いで第２吸着分離帯域４ｂに供
給嘔れ、ここでガス中のＣＨ，及びＣＯが吸着除去され
る結果、この帯域の出口ガスとして製品水素を得ること
ができる。この吸着分離方式のモデルは第４図（Ａ）の
吸着ステップで示される。一方、再生ステップは第４図
（Ｂ）に示され、帯域４ａ及び４ｂそれぞれを典型的に
は水素で個別にノξ−ジすることによって両帯域が再生
てれる。
この際、帯域４ａから脱離するＣＯ，及びＨ２Ｏは第１
オフガスとして系外に取り出されるが、帯域４ｂから脱
離するＣＨ，及びＣＯは、水素製造の原料となり得るの
で、これを第２オフガスとして回収し、ライン５経由で
水素化脱硫帯域１の入口にリサイクル嘔せるのである（
第１図参照）。
オフガスとして系外に取り出されるが、帯域４ｂから脱
離するＣＨ，及びＣＯは、水素製造の原料となり得るの
で、これを第２オフガスとして回収し、ライン５経由で
水素化脱硫帯域１の入口にリサイクル嘔せるのである（
第１図参照）。
尚、第２オフガスは帯域４ｂのパージに用いた水素を含
有するが、この水素は脱硫用水素として利用することが
できる。また、原料炭化水素のイオウ分が水蒸気改質反
応に支障を来たす程でない場合には、水素化脱硫帯域の
設置を省略することができる。
有するが、この水素は脱硫用水素として利用することが
できる。また、原料炭化水素のイオウ分が水蒸気改質反
応に支障を来たす程でない場合には、水素化脱硫帯域の
設置を省略することができる。
以上の通り、本発明に於けるシフトガスの処理方法は、
直列に接続された二つの吸着分離帯域を使用し、シフト
ガス中のＣＯｌ及びＨ２Ｏｉ上流側の吸着分離帯域で、
またＣＨ，及びＣＯを下流側の吸着分離帯域で、それぞ
れ吸着−脱離嘔せるものであり、この点で従来のシフト
ガス処理法と全く相違する。しかし、個々の吸着分離帯
域を複数個の吸着塔で構成させることにより、個々の帯
域でガスの吸着と脱離（再生）を並行させ得ることは従
来法と異ならない。従ってまた、各帯域で使用する吸着
剤にも、従来の水素製造法で使用される水素精製用吸着
剤が使用可能である。そしてまた、水素Ｎ製に際して採
用される吸着分離手段としても、前述したＰ８Ａのほか
、ガスの吸着−脱離を温度差で行なわせる吸着分離手段
が採用可能である。
直列に接続された二つの吸着分離帯域を使用し、シフト
ガス中のＣＯｌ及びＨ２Ｏｉ上流側の吸着分離帯域で、
またＣＨ，及びＣＯを下流側の吸着分離帯域で、それぞ
れ吸着−脱離嘔せるものであり、この点で従来のシフト
ガス処理法と全く相違する。しかし、個々の吸着分離帯
域を複数個の吸着塔で構成させることにより、個々の帯
域でガスの吸着と脱離（再生）を並行させ得ることは従
来法と異ならない。従ってまた、各帯域で使用する吸着
剤にも、従来の水素製造法で使用される水素精製用吸着
剤が使用可能である。そしてまた、水素Ｎ製に際して採
用される吸着分離手段としても、前述したＰ８Ａのほか
、ガスの吸着−脱離を温度差で行なわせる吸着分離手段
が採用可能である。
本発明の方法によれば、炭化水素の水蒸気改質で水素を
製造する際のオフガスの一部を、水素製造の原料として
活用できるので、それだけ原料炭化水素の消費量を削減
することができ、また水蒸気改質炉の燃料として、オフ
ガスを用いずにすむので、安価な燃料を選択使用するこ
ともでき、従って水素の製造コストを下げることができ
る。
製造する際のオフガスの一部を、水素製造の原料として
活用できるので、それだけ原料炭化水素の消費量を削減
することができ、また水蒸気改質炉の燃料として、オフ
ガスを用いずにすむので、安価な燃料を選択使用するこ
ともでき、従って水素の製造コストを下げることができ
る。
進んで、本発明の実施例を従来法と対比して示す。
まず、比較例として第２図に示す従来法に従い、脱硫Ｌ
Ｐ Ｇ ５８００ｋｔ／ＨＲに過熱スチーム１８００
０ ｋｔ／ＨＲｆ混合し、この混合物ｔ−４５０″Ｃ１
１７ｋｆ／ ｃｍ”Ｇの条件で低温水蒸気数９ｉ Ｌだ
後、８３０″Ｃ、１５ｋＶ′ｃｍ”Ｇの条件下に高温水
蒸気改質して改質ガスを得た。この場合、低温水蒸気改
質及び高温水蒸気改質には共にニッケル触媒を使用した
。得られた改質ガスヲＣＯシフト反応器に供給し、鉄−
クロム触媒の存在下、３５０℃、１４．５ ｋｔ／ ｃ
ｍ”Ｇの条件でシフトガスを得た。このシフトガスｆ：
ＰｓＡ式吸着分離帯域で精製したところ、純度９９．９
％以上の水素が１７３７０ Ｎｍ”／ ＨＲ得られ、ま
た１ ２６８６ Ｎｍ”／ＨＨのオフガス（熱量１３３
０ Ｋｃａ Ｉ／ Ｎｍ” ）が得られた。
Ｐ Ｇ ５８００ｋｔ／ＨＲに過熱スチーム１８００
０ ｋｔ／ＨＲｆ混合し、この混合物ｔ−４５０″Ｃ１
１７ｋｆ／ ｃｍ”Ｇの条件で低温水蒸気数９ｉ Ｌだ
後、８３０″Ｃ、１５ｋＶ′ｃｍ”Ｇの条件下に高温水
蒸気改質して改質ガスを得た。この場合、低温水蒸気改
質及び高温水蒸気改質には共にニッケル触媒を使用した
。得られた改質ガスヲＣＯシフト反応器に供給し、鉄−
クロム触媒の存在下、３５０℃、１４．５ ｋｔ／ ｃ
ｍ”Ｇの条件でシフトガスを得た。このシフトガスｆ：
ＰｓＡ式吸着分離帯域で精製したところ、純度９９．９
％以上の水素が１７３７０ Ｎｍ”／ ＨＲ得られ、ま
た１ ２６８６ Ｎｍ”／ＨＨのオフガス（熱量１３３
０ Ｋｃａ Ｉ／ Ｎｍ” ）が得られた。
次に、第１図に示す本発明方法に従い、上記したところ
と同種同値の脱硫ＬＰＧを、上と全く同一条件で処理し
てシフトガスを得た。但し、脱［ＬＰＧに混合する過熱
スチーム量は２４２００ｋｇ／ＨＲに増量し、さらに第
２吸着分離帯域から得られる第２オフガスを加えて脱硫
ＬＰＧの低温水蒸気改質を行なった。得られたシフトガ
スを本発明方法に従う２段吸着分離方式（両段ともＰＳ
Ａ採用）で処理したところ、純度９９．９チ以上の水素
が２６４００ Ｎｍ”／ＨＲ得られ、系外には熱量２６
０ Ｋｃａｌ／Ｎｍ”の第１オフガス１１９０ＯＮｍ’
／ＨＲが排出嘔れた。
と同種同値の脱硫ＬＰＧを、上と全く同一条件で処理し
てシフトガスを得た。但し、脱［ＬＰＧに混合する過熱
スチーム量は２４２００ｋｇ／ＨＲに増量し、さらに第
２吸着分離帯域から得られる第２オフガスを加えて脱硫
ＬＰＧの低温水蒸気改質を行なった。得られたシフトガ
スを本発明方法に従う２段吸着分離方式（両段ともＰＳ
Ａ採用）で処理したところ、純度９９．９チ以上の水素
が２６４００ Ｎｍ”／ＨＲ得られ、系外には熱量２６
０ Ｋｃａｌ／Ｎｍ”の第１オフガス１１９０ＯＮｍ’
／ＨＲが排出嘔れた。
すなわち、本発明の方法によれば、同量のＬＰＧから２
６４００／１７３７０＝１．５２倍の水素が得られるこ
とがわかる。
６４００／１７３７０＝１．５２倍の水素が得られるこ
とがわかる。
次表は上に述べた比較例（従来法）及び実施例（本発明
方法）に於ける各単位操作前後のガス組成を対比したも
のである。
方法）に於ける各単位操作前後のガス組成を対比したも
のである。
第１表−（１）
第１表−（２）
第１表−（３）
第１表−（４）
第１図は本発明方法の、第２図は従来法のそれぞれブロ
ックダイアグラムである。第３図は従来法による吸着分
離様式のモデル図、第４図（５）及びω）図は本発明の
方法による吸着分離様式のモデル図でめる。
ックダイアグラムである。第３図は従来法による吸着分
離様式のモデル図、第４図（５）及びω）図は本発明の
方法による吸着分離様式のモデル図でめる。
Claims (1)
- １、原料炭化水素を水蒸気改質帯域に供給して改質ガス
を生成させ、この改質ガスをＣＯシフト反応帯域に供給
してガス中の水素濃度を増大させ、ＣＯシフト反応帯域
出口ガスを吸着分離法で精製する水素製造法に於て、前
記のＣＯシフト反応帯域出口ガスを二つの吸着分離帯域
に直列に通過させ、上流側の第１の吸着分離帯域にＨ＿
２Ｏ及びＣＯ＿２を、下流側の第２の吸着分離帯域にＣ
Ｈ＿４及びＣＯをそれぞれ吸着させて第２の吸着分離帯
域から製品水素を回収し、第２の吸着分離帯域の再生時
に当該帯域から脱離するＣＨ＿４及びＣＯを、原料炭化
水素に混合して水素製造の原料の一部として使用するこ
とを特徴とする水素製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3821485A JPS61197403A (ja) | 1985-02-27 | 1985-02-27 | 水素製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3821485A JPS61197403A (ja) | 1985-02-27 | 1985-02-27 | 水素製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61197403A true JPS61197403A (ja) | 1986-09-01 |
| JPH0517163B2 JPH0517163B2 (ja) | 1993-03-08 |
Family
ID=12519058
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3821485A Granted JPS61197403A (ja) | 1985-02-27 | 1985-02-27 | 水素製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61197403A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03193112A (ja) * | 1989-12-21 | 1991-08-22 | Jgc Corp | 合成用混合ガス製造方法 |
| JPH0465301A (ja) * | 1990-07-02 | 1992-03-02 | Marutani Kakoki Kk | 純水素の製造方法 |
| JP2008542188A (ja) * | 2005-06-06 | 2008-11-27 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 水素及び一酸化炭素を同時に製造する方法 |
| JP2010083754A (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-15 | Ifp | Ｃｏ２の完全な捕捉を伴って水素を製造し、未転化メタンを再循環させる方法 |
| JP2012511491A (ja) * | 2008-12-11 | 2012-05-24 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 改質ガスからの水素の製造および副生するｃｏ２の同時捕捉 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5926121A (ja) * | 1982-08-04 | 1984-02-10 | Kogyo Kaihatsu Kenkyusho | 転炉ガス中の有用成分分離法 |
| JPS59205336A (ja) * | 1983-04-22 | 1984-11-20 | フオスタ−・ホイ−ラ−・エナ−ジイ・コ−ポレイシヨン | メタノ−ル等の酸素付加有機化合物類の製造方法 |
-
1985
- 1985-02-27 JP JP3821485A patent/JPS61197403A/ja active Granted
Patent Citations (2)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0517163B2 (ja) | 1993-03-08 |
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