JPS61196448A - 光磁気記録素子 - Google Patents
光磁気記録素子Info
- Publication number
- JPS61196448A JPS61196448A JP3793285A JP3793285A JPS61196448A JP S61196448 A JPS61196448 A JP S61196448A JP 3793285 A JP3793285 A JP 3793285A JP 3793285 A JP3793285 A JP 3793285A JP S61196448 A JPS61196448 A JP S61196448A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- corrosion resistance
- magneto
- film
- recording element
- component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野）
本発明は、非晶質金属垂直磁化膜自体の腐食を防止せ′
しめ、光磁気特性の長期信頼性を向上せしめた光磁気記
録素子に関する。
しめ、光磁気特性の長期信頼性を向上せしめた光磁気記
録素子に関する。
（従来技術）
一近年、垂直記録媒体や光磁気記録媒体などを用いた高
密度記録が盛んに研究され、光磁気記録媒体においては
、大量の情報を高密度に記録するため、集束レーザー光
を投光して記録媒体を局部加熱することくよυビットを
書き込み、磁気光学効果を利用して読み出すという記録
方式であり、この媒体には主として希土類−遷移金属元
素から成る非晶質金属垂直磁化膜が用いられる。
密度記録が盛んに研究され、光磁気記録媒体においては
、大量の情報を高密度に記録するため、集束レーザー光
を投光して記録媒体を局部加熱することくよυビットを
書き込み、磁気光学効果を利用して読み出すという記録
方式であり、この媒体には主として希土類−遷移金属元
素から成る非晶質金属垂直磁化膜が用いられる。
磁化膜の材料としては希土類金属の磁気モーメントと遷
移金属の磁気モーメントが反平行に安定となり、且つ記
録材料としての非晶質、垂直磁化、カー回転角、保磁力
等の要求特性に対し、容易に適合し得るものが必要であ
る。また、実用性の点からキュリ一点記録用材料に限る
ならば、王妃の条件を考慮し、Ｆｅ系フェリ 磁性体が
最も□一般的に使用される。Ｆｅ系合金に対゛して希土
類元素としてはＧｄ 、 ＴＩ） 、 ｐｙ 、 Ｅ（
Ｏ等が知られ、遷移金屑糸ではＦｅを必須成分とし、他
にＣｏ等が知られる。本発明者等によれば、これら成分
のうち、Ｆｅが急速な孔食及び表面腐食を起たし、最も
化学的安定性に欠けることを確認した。そのため特にフ
ェリ磁性体を磁化膜として設けられる記録素子に対し、
安定した磁気記録特性を有する記録ビットを維持させる
ために耐食性を向上させることは必須と考えられる。
移金属の磁気モーメントが反平行に安定となり、且つ記
録材料としての非晶質、垂直磁化、カー回転角、保磁力
等の要求特性に対し、容易に適合し得るものが必要であ
る。また、実用性の点からキュリ一点記録用材料に限る
ならば、王妃の条件を考慮し、Ｆｅ系フェリ 磁性体が
最も□一般的に使用される。Ｆｅ系合金に対゛して希土
類元素としてはＧｄ 、 ＴＩ） 、 ｐｙ 、 Ｅ（
Ｏ等が知られ、遷移金屑糸ではＦｅを必須成分とし、他
にＣｏ等が知られる。本発明者等によれば、これら成分
のうち、Ｆｅが急速な孔食及び表面腐食を起たし、最も
化学的安定性に欠けることを確認した。そのため特にフ
ェリ磁性体を磁化膜として設けられる記録素子に対し、
安定した磁気記録特性を有する記録ビットを維持させる
ために耐食性を向上させることは必須と考えられる。
このため、吸湿性、耐酸化性及び耐熱性の観点から各種
のやシ方が提案されている。例えば、記録媒体上に保護
層を設け、外気と遮断することが提案されているが、こ
の層の膜厚が大きすぎると膜内に生じる内部応力の増加
によシ、膜剥離、基板のそシ等が発生するため、１００
０１程度の薄膜にする必要がある。そのため、保護層の
材料によっては、膜質の劣化および欠損が発生し易く、
その部分から酸化反応が促進され、孔食が発生する等の
傾向にある。
のやシ方が提案されている。例えば、記録媒体上に保護
層を設け、外気と遮断することが提案されているが、こ
の層の膜厚が大きすぎると膜内に生じる内部応力の増加
によシ、膜剥離、基板のそシ等が発生するため、１００
０１程度の薄膜にする必要がある。そのため、保護層の
材料によっては、膜質の劣化および欠損が発生し易く、
その部分から酸化反応が促進され、孔食が発生する等の
傾向にある。
一方、記録媒体としての磁化膜の材質に耐食性に優れた
ものを選択する方法もあるが、今だ、満足すべき結果は
得られていない。
ものを選択する方法もあるが、今だ、満足すべき結果は
得られていない。
従って、本発明は上記事情に鑑みて完成されたもので、
その目的は、記録素子としての光磁気特性を阻害するこ
となく、記録媒体である磁化膜の耐食性を向上させ、耐
環境特性に優れた高信頼性の光磁気記録素子を提供する
ことにある。
その目的は、記録素子としての光磁気特性を阻害するこ
となく、記録媒体である磁化膜の耐食性を向上させ、耐
環境特性に優れた高信頼性の光磁気記録素子を提供する
ことにある。
本発明においては基体上に少なくとも膜面と垂直な方向
に磁化容易軸を有する非晶質垂直磁性合金から成る磁化
膜を有する光磁気記録素子において、該非晶質垂直磁化
膜が、第１成分としてＣｕおよび第２成分として、Ａｇ
、 Ｓｔ） 、 Ｎｉから選ばれる少なくとも１種と
から成る複合添加物を含有することを特徴とする光磁気
記録素子が提供される。
に磁化容易軸を有する非晶質垂直磁性合金から成る磁化
膜を有する光磁気記録素子において、該非晶質垂直磁化
膜が、第１成分としてＣｕおよび第２成分として、Ａｇ
、 Ｓｔ） 、 Ｎｉから選ばれる少なくとも１種と
から成る複合添加物を含有することを特徴とする光磁気
記録素子が提供される。
（実施例）
本発明における光磁気記録素子の代表的な構造を第１図
に示す。即ち、全体として１で示す記録素子はガラスや
プラスチック（ＰＭＭＡ 、 ＰＣ、エポキシ等）の基
体２上に直接、あるいは光干渉層等の中間層３を介して
主としてフェリ磁性体等の非晶質磁性合金から成る磁化
膜４が形成される。磁化膜４は大気との直接の接触を避
けるために保護膜５が設けられる。また、保護膜５上に
は所望によシ樹脂等のオーバーコート層を設けることも
できる。
に示す。即ち、全体として１で示す記録素子はガラスや
プラスチック（ＰＭＭＡ 、 ＰＣ、エポキシ等）の基
体２上に直接、あるいは光干渉層等の中間層３を介して
主としてフェリ磁性体等の非晶質磁性合金から成る磁化
膜４が形成される。磁化膜４は大気との直接の接触を避
けるために保護膜５が設けられる。また、保護膜５上に
は所望によシ樹脂等のオーバーコート層を設けることも
できる。
本発明者等は先に磁化膜中への添加物として貴金属元素
、軽金属元素、半金属元素、その他冶金的にＦｅに対し
耐食性改善効果があると考えられるものに関し、耐食性
の検討を行なった。比較例１に示すように、 Ａ４１
、 ＭＯ，Ｓｉ、なる添加物は孔食、表面腐食をともに
起たし、Ｃｕ、 ｓｂ、 Ａｇ。
、軽金属元素、半金属元素、その他冶金的にＦｅに対し
耐食性改善効果があると考えられるものに関し、耐食性
の検討を行なった。比較例１に示すように、 Ａ４１
、 ＭＯ，Ｓｉ、なる添加物は孔食、表面腐食をともに
起たし、Ｃｕ、 ｓｂ、 Ａｇ。
Ｎ１なる添加物は表面腐食に於いて効果があるが、孔食
には顕著な効果はないもののＣｕ、Ｎｉは比較 。
には顕著な効果はないもののＣｕ、Ｎｉは比較 。
的有効である。中でもＣｕは、光磁気特性の低下を起た
すまでの添加量範囲が広く、添加元素としては最も望ま
しいものである。
すまでの添加量範囲が広く、添加元素としては最も望ま
しいものである。
しかしながら、 廠のみの添加では実際上十分な耐食性
を有するとはいい難いレベルのものである。
を有するとはいい難いレベルのものである。
本発明によれば、磁化膜に対し、添加物としてＣｕを第
１成分とし、他にＡｇ 、 Ｓｔ） 、 Ｎｉのうちの
少なくとも１種を第２成分として、両者を同時に添加さ
せることにより、前述の扼添加のみの耐食性に比べて、
光磁気特性を低下させない範囲で更に耐食性を改良する
ことができる。
１成分とし、他にＡｇ 、 Ｓｔ） 、 Ｎｉのうちの
少なくとも１種を第２成分として、両者を同時に添加さ
せることにより、前述の扼添加のみの耐食性に比べて、
光磁気特性を低下させない範囲で更に耐食性を改良する
ことができる。
本発明における複合添加物は、磁性合金に対し原子比で
３９ ａｔｏｍ％以下、特に３乃至２０ ＦＬｔｏｍ％
の量で含有させるのが好ましい。含有率が３０ ａｔ−
％を超えるとカー回転角数及び保磁力Ｈａ等の光磁気特
性が急速に低下し始める傾向にある。
３９ ａｔｏｍ％以下、特に３乃至２０ ＦＬｔｏｍ％
の量で含有させるのが好ましい。含有率が３０ ａｔ−
％を超えるとカー回転角数及び保磁力Ｈａ等の光磁気特
性が急速に低下し始める傾向にある。
一方、複合添加物中の第１成分であるＣｕの含有率は磁
性合金に対し２０ ａｔｏｍ％以下、特に５乃至１５
ａｔｏｍ％が好ましい。Ｃｕの含有率が２０ ａｔｏｍ
％を超えると、θにおよびＨｃの低下が顕著となる。
性合金に対し２０ ａｔｏｍ％以下、特に５乃至１５
ａｔｏｍ％が好ましい。Ｃｕの含有率が２０ ａｔｏｍ
％を超えると、θにおよびＨｃの低下が顕著となる。
本発明において、磁化膜の組成のうち主体となる磁性合
金としては、ＴｂＦｅ 、 Ｔ’ｂＦｅＣｏ 、 Ｇｄ
ＴｂＦｅＣ。
金としては、ＴｂＦｅ 、 Ｔ’ｂＦｅＣｏ 、 Ｇｄ
ＴｂＦｅＣ。
、 （）ｉＤｙＦｅｃｏ 、 ＤｙＦｅＣｏ等公知のも
ｆ）カ使用できるが、それ自体の耐食性を考慮すれば、
ＤｙＦｅＣ０が最も好ましい。 ＤｙＦｅＣｏ合金にお
けるそれぞれの元素の割合は次式（１） ％式％） 但しＸは０．１８乃至０．３０ （原子比）ｙは０．５
乃至０．１５ （原子比）で表わされ、特にＤｙ以外
の希土類元素を含まない方が好ましい。
ｆ）カ使用できるが、それ自体の耐食性を考慮すれば、
ＤｙＦｅＣ０が最も好ましい。 ＤｙＦｅＣｏ合金にお
けるそれぞれの元素の割合は次式（１） ％式％） 但しＸは０．１８乃至０．３０ （原子比）ｙは０．５
乃至０．１５ （原子比）で表わされ、特にＤｙ以外
の希土類元素を含まない方が好ましい。
これは、ン以外の希土類元素の配合は、耐食性の低下を
招くからである。
招くからである。
本発明の光磁気記録素子を製造するにあたっては、公知
の手段を用いることができ、例えば、蒸着、スパッタリ
ング、イオンブレーティング、イオン注入、メッキ等各
種の方法が使用でき、特にスパッタリング法が組成の均
一性、再現性の点で好ましい。
の手段を用いることができ、例えば、蒸着、スパッタリ
ング、イオンブレーティング、イオン注入、メッキ等各
種の方法が使用でき、特にスパッタリング法が組成の均
一性、再現性の点で好ましい。
本発明を次の例で説明する。
０試料の作成
高周波２元同時スパッタリング装置を用い、一方のター
ゲットを遷移金属、他方のターゲットを希土類金属とし
、それぞれに同量の添加元素チップを乗せ、各々を複合
ターゲットとし、ガラス基板を取り付けたカソード側を
回転させながらスパッタリングを行ない、ガラス基板上
に非晶質の膜厚１５００人の磁化膜を形成させた。尚、
この時の形成は到達真空度５ Ｘ １０ Ｔｏｒｒ
、アルゴンガス圧５ Ｘ １０ Ｔｏｒｒの条件下で
行なった。
ゲットを遷移金属、他方のターゲットを希土類金属とし
、それぞれに同量の添加元素チップを乗せ、各々を複合
ターゲットとし、ガラス基板を取り付けたカソード側を
回転させながらスパッタリングを行ない、ガラス基板上
に非晶質の膜厚１５００人の磁化膜を形成させた。尚、
この時の形成は到達真空度５ Ｘ １０ Ｔｏｒｒ
、アルゴンガス圧５ Ｘ １０ Ｔｏｒｒの条件下で
行なった。
０光磁気特性試験方法
カー回転角及び保磁力は、カー回転角測定装置を用い、
ガラス基板側よシ測定波長６３３ ｎｍで測定した。ま
たキュリ一温度はＶＳＭによシ求めた。
ガラス基板側よシ測定波長６３３ ｎｍで測定した。ま
たキュリ一温度はＶＳＭによシ求めた。
組成分析は１０２発光分光分析によシ求めた。
０耐食性試験
人工汗液（ＮａＨＰＯ４０，９ｇ 、 Ｎａｃｌ Ｏ，
８ｇ 、 （ＨｓＣＯＯＨＯ，５ｇ ｔ’純純水テロ０
０ＣＣしたもの）に所定時間浸漬した。試料表面の孔食
によシ発生したピンホー〃状の透明酸化部分が、そこを
核として面内方向に拡がっていく程度として透明化した
面積の割合で示した。尚、浸漬時間は全て４時間で行な
った。
８ｇ 、 （ＨｓＣＯＯＨＯ，５ｇ ｔ’純純水テロ０
０ＣＣしたもの）に所定時間浸漬した。試料表面の孔食
によシ発生したピンホー〃状の透明酸化部分が、そこを
核として面内方向に拡がっていく程度として透明化した
面積の割合で示した。尚、浸漬時間は全て４時間で行な
った。
比較例１
ＤｙＦｅＣｏ ３元系合金にｆｉ、ｌ 、 Ａｇ 、
Ｃｕ、 Ｍｏ 、 Ｏｒ、 Ｓｂ、 Ｓｉ−、Ｎｉ、を
夫々的Ｓ ａｔ％添加した４元系合金の磁化膜を作成し
試料番号１乃至９として夫々について初期光磁気特性と
耐孔食性改善効果について調べた結果を第１表に示す。
Ｃｕ、 Ｍｏ 、 Ｏｒ、 Ｓｂ、 Ｓｉ−、Ｎｉ、を
夫々的Ｓ ａｔ％添加した４元系合金の磁化膜を作成し
試料番号１乃至９として夫々について初期光磁気特性と
耐孔食性改善効果について調べた結果を第１表に示す。
耐食性については人工汁液浸漬後の膜面状態から、Ｄｙ
ＦｅＣｏ合金と同程度の孔食と表面腐食が進んだものを
Ｘ１孔食の程度が同じかそれ以下で表面腐食がないもの
を△、全く変化のないものを○として表示した。
ＦｅＣｏ合金と同程度の孔食と表面腐食が進んだものを
Ｘ１孔食の程度が同じかそれ以下で表面腐食がないもの
を△、全く変化のないものを○として表示した。
第１表から明らかなように、ｋｌ 、 Ｍｏ、 Ｓｉ
では孔食、表面腐食を起たし、未添加の材料１と同程度
であるのに対し、Ｃｕ、 Ｓｂ、 Ａｇ 、 Ｎ１は表
面腐食は無く金属光沢を保つようになった。また、これ
らは大旨θｋ ＊ Ｔｃの低下は起こさなかった。
では孔食、表面腐食を起たし、未添加の材料１と同程度
であるのに対し、Ｃｕ、 Ｓｂ、 Ａｇ 、 Ｎ１は表
面腐食は無く金属光沢を保つようになった。また、これ
らは大旨θｋ ＊ Ｔｃの低下は起こさなかった。
Ｏｒは耐孔食性には優れていたがθｋ ａ Ｔｃの低下
が比較例２ ＤｙＦｅＣｏ合金とＣｕｔ−添加元素として２ａｔ％、
６ ａｔ％、１２ａｔ％、 ２０ ａｔ％なる添加量の
合金をキュリ一温度一定となるようにｃｏ含有量で補償
するよう磁化膜を作製し、試料番号１０乃至１４として
夫々について初期光磁気特性と、耐孔食性について調べ
た。
が比較例２ ＤｙＦｅＣｏ合金とＣｕｔ−添加元素として２ａｔ％、
６ ａｔ％、１２ａｔ％、 ２０ ａｔ％なる添加量の
合金をキュリ一温度一定となるようにｃｏ含有量で補償
するよう磁化膜を作製し、試料番号１０乃至１４として
夫々について初期光磁気特性と、耐孔食性について調べ
た。
また比較の為に’ｒｂｒｅｃｏ合金についても試料番号
１５．１６として調べた。その結果も第２表に示す。Ｃ
ｕ成分の増加に従い孔食量は一定しベＩｖまで減らせる
一方、θｋ及びＨａは低下する傾向にあった。
１５．１６として調べた。その結果も第２表に示す。Ｃ
ｕ成分の増加に従い孔食量は一定しベＩｖまで減らせる
一方、θｋ及びＨａは低下する傾向にあった。
比較例３
ＤｙＦ’ｅＣｏ 、 ＴｂＦｅＣｏ 、 ＧｄＴ’ｂＦ
ｅＯｏ について補償組成近傍でかつキュリ一温度が２
００℃近傍となるような組成の合金から成る磁化膜を試
料番号１７乃至 １９として、夫々について初期光磁気
特性と、耐孔食性について調べた結果を第３表に示す。
ｅＯｏ について補償組成近傍でかつキュリ一温度が２
００℃近傍となるような組成の合金から成る磁化膜を試
料番号１７乃至 １９として、夫々について初期光磁気
特性と、耐孔食性について調べた結果を第３表に示す。
耐孔食性については人工汁液に浸漬した後の孔食量を面
積百分率で示した。
積百分率で示した。
実験の結果、光磁９ＩＣ＃性においては大きな差異は見
受けられなかったが、耐食性においてＤｙＦｅＣ。
受けられなかったが、耐食性においてＤｙＦｅＣ。
が最も優れていた。
実施例ｌ
ＤｙＦｅＣｏ合金に対し、ＣｕＫＳ’ｂ 、 Ａｇ 、
Ｎｉ、 をそれぞれ組合わした複合添加物を加えた
合金の磁化膜を作製し、試料番号２０乃至２４として夫
々について初期光磁気特性と耐食性試験を行なった。
Ｎｉ、 をそれぞれ組合わした複合添加物を加えた
合金の磁化膜を作製し、試料番号２０乃至２４として夫
々について初期光磁気特性と耐食性試験を行なった。
結果は第４表に示す。
第４表から明らかな通シ、いずれの試料も優れた光磁気
特性と耐食性を示した。
特性と耐食性を示した。
実施例２
ＴｂＦｅＣｏ合金に対し、実施例１と同様、Ｃｕに。
Ｓｂ 、 Ａｇ 、 Ｎｉをそれぞれ組合わした複合添
加物を加えた合金を作製し、試料番号２５乃至２７とし
て夫々について試験を行なった。
加物を加えた合金を作製し、試料番号２５乃至２７とし
て夫々について試験を行なった。
結果は第４表に示す。
第４表によれば、実施例１はどではないが、優れた光磁
気特性と耐食性を示した。
気特性と耐食性を示した。
比較例４
試料番号２０の組成のうちＣｕの量を増やした以外はま
ったく同様にして合金の磁化膜をｆｌ：製し、試料番号
２８として光磁気特性および耐食性を調べた。結果は第
４表に示す。
ったく同様にして合金の磁化膜をｆｌ：製し、試料番号
２８として光磁気特性および耐食性を調べた。結果は第
４表に示す。
測定の結果、試料番号２０に比較して、θに、Ｈｃが低
下した。
下した。
比較例５
試料番号２０の組成のうちＣｕの添加量を増やした以外
はまったく同様にして磁化膜を作製し、試料番号２９と
して、光磁気特性、耐食性試験を行なった。結果は第４
表に示す。
はまったく同様にして磁化膜を作製し、試料番号２９と
して、光磁気特性、耐食性試験を行なった。結果は第４
表に示す。
測定の結果、試料番号２０に比較して、θにおよびＨａ
の低下を招いた。
の低下を招いた。
（発明の効果）
本発明の光磁気記録素子は、上述したように磁化膜自体
、極めて優れた耐食性を示すことにより、耐環境特性に
優れ、長期的な光磁気特性の安定性を得ることができ、
しかも、光磁気特性においても優れた特性を示すもので
ある。
、極めて優れた耐食性を示すことにより、耐環境特性に
優れ、長期的な光磁気特性の安定性を得ることができ、
しかも、光磁気特性においても優れた特性を示すもので
ある。
図面は、本発明の光磁気記録素子の基本的構造を示す図
である。 １・−記録素子 ２・−基体 ４・・・非晶質垂直磁化膜
である。 １・−記録素子 ２・−基体 ４・・・非晶質垂直磁化膜
Claims (3)
- （１）基体上に少なくとも膜面と垂直な方向に磁化容易
軸を有する非晶質磁性合金から成る磁化膜を有する光磁
気記録素子において、該磁化膜が、第１成分としてＣｕ
、および第２成分としてＡｇ、Ｓｂ、Ｎｉから選ばれる
少なくとも１種とから成る複合添加物を含有することを
特徴とする光磁気記録素子。 - （２）前記複合添加物が前記磁性合金に対し３０ａｔｏ
ｍ％以下、および前記第１成分が２０ａｔｏｍ％以下の
量で含有される特許請求の範囲第１項記載の光磁気記録
素子。 - （３）前記磁性合金がＤｙＦｅＣｏである特許請求の範
囲第１項記載の光磁気記録素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3793285A JPS61196448A (ja) | 1985-02-26 | 1985-02-26 | 光磁気記録素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3793285A JPS61196448A (ja) | 1985-02-26 | 1985-02-26 | 光磁気記録素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61196448A true JPS61196448A (ja) | 1986-08-30 |
Family
ID=12511325
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3793285A Pending JPS61196448A (ja) | 1985-02-26 | 1985-02-26 | 光磁気記録素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61196448A (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60231306A (ja) * | 1984-05-01 | 1985-11-16 | Ricoh Co Ltd | 非晶質磁気光学層 |
| JPS60246606A (ja) * | 1984-05-22 | 1985-12-06 | Ricoh Co Ltd | 非晶質磁気光学層 |
| JPS6118107A (ja) * | 1984-07-04 | 1986-01-27 | Ricoh Co Ltd | 非晶質磁気光学層 |
| JPS61117749A (ja) * | 1984-11-13 | 1986-06-05 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPS61188759A (ja) * | 1985-02-15 | 1986-08-22 | Minolta Camera Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
-
1985
- 1985-02-26 JP JP3793285A patent/JPS61196448A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60231306A (ja) * | 1984-05-01 | 1985-11-16 | Ricoh Co Ltd | 非晶質磁気光学層 |
| JPS60246606A (ja) * | 1984-05-22 | 1985-12-06 | Ricoh Co Ltd | 非晶質磁気光学層 |
| JPS6118107A (ja) * | 1984-07-04 | 1986-01-27 | Ricoh Co Ltd | 非晶質磁気光学層 |
| JPS61117749A (ja) * | 1984-11-13 | 1986-06-05 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPS61188759A (ja) * | 1985-02-15 | 1986-08-22 | Minolta Camera Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0168046A2 (en) | Magneto-optical recording material | |
| CA1315612C (en) | Perpendicular magnetic storage medium | |
| US5660929A (en) | Perpendicular magnetic recording medium and method of producing same | |
| JPS6134744A (ja) | 磁気光学記録媒体 | |
| Chen | Fabrication and characterization of thin films with perpendicular magnetic anisotropy for high-density magnetic recording: Part II a review | |
| Hartmann et al. | Improvement of corrosion resistance of GdTbFe by metal coatings | |
| JP2504946B2 (ja) | 光磁気記録用媒体 | |
| US5413868A (en) | Perpendicular magnetic recording medium comprising a magnetic thin film of cobalt, palladium, chromium and oxygen | |
| JPS61196448A (ja) | 光磁気記録素子 | |
| JPS61172237A (ja) | 光磁気記録素子 | |
| US5040166A (en) | Magneto-optical recording medium having a reflective film of Ag and Mn or Ag, Mn and Sn | |
| KR920007319B1 (ko) | 광자기 기록매체 | |
| JP2680586B2 (ja) | 光磁気記憶媒体 | |
| US20030175554A1 (en) | Magneto-optic recording medium recordable at ultrahigh recording density | |
| JPH0223553A (ja) | 光磁気記録材料 | |
| JPS61172236A (ja) | 光磁気記録素子 | |
| JPS6367326B2 (ja) | ||
| JPS62267950A (ja) | 磁気光学記録媒体 | |
| JPS62165753A (ja) | 磁気光学記録媒体 | |
| JPS63140058A (ja) | 光磁気記録材料 | |
| JPS63104243A (ja) | 光磁気記録素子 | |
| Takahashi et al. | Stability Test of GdTbFe at High Temperatures | |
| JPS6243847A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH0432209A (ja) | 磁性膜 | |
| JP2600953B2 (ja) | 光磁気記録媒体 |