JPS61192444U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS61192444U JPS61192444U JP6665686U JP6665686U JPS61192444U JP S61192444 U JPS61192444 U JP S61192444U JP 6665686 U JP6665686 U JP 6665686U JP 6665686 U JP6665686 U JP 6665686U JP S61192444 U JPS61192444 U JP S61192444U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- projection lens
- deflect
- deflector
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
第１図および第２図は従来例の説明図、第３図
は本考案の実施例の構成を示す説明図、第４図は
第３図の実施例の動作説明図であり、図中、１０
，１０′，１０″は電子ビーム、１１は投影レン
ズ、１２，１３は偏向器、１４は露光フイールド
、１５は分割領域を示す。
は本考案の実施例の構成を示す説明図、第４図は
第３図の実施例の動作説明図であり、図中、１０
，１０′，１０″は電子ビーム、１１は投影レン
ズ、１２，１３は偏向器、１４は露光フイールド
、１５は分割領域を示す。
Claims (1)
- 電子ビームの露光用投影レンズの入射側焦点位
置に該投影レンズと組合せ電子レンズをテレセン
トリツク偏向させ試料の露光フイールド内の分割
領域の基点を選択する雷磁型の第１の偏向器を設
け、前記投影レンズの出射側に前記分割領域の基
点に位置する電子ビームを該分割領域内の所定位
置に偏向させる静電型の第２の偏向器を設けたこ
とを特徴とする電子ビーム露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6665686U JPS61192444U (ja) | 1986-05-01 | 1986-05-01 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6665686U JPS61192444U (ja) | 1986-05-01 | 1986-05-01 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61192444U true JPS61192444U (ja) | 1986-11-29 |
Family
ID=30599766
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6665686U Pending JPS61192444U (ja) | 1986-05-01 | 1986-05-01 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61192444U (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5093571A (ja) * | 1973-12-19 | 1975-07-25 | ||
| JPS52109373A (en) * | 1976-03-10 | 1977-09-13 | Rikagaku Kenkyusho | Method of deflecting and scanning electron beam |
-
1986
- 1986-05-01 JP JP6665686U patent/JPS61192444U/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5093571A (ja) * | 1973-12-19 | 1975-07-25 | ||
| JPS52109373A (en) * | 1976-03-10 | 1977-09-13 | Rikagaku Kenkyusho | Method of deflecting and scanning electron beam |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS61192444U (ja) | ||
| JPS62127653U (ja) | ||
| JPS62169458U (ja) | ||
| JPS5894254U (ja) | 電子線ホログラフイ−用光学装置 | |
| JPS6330851U (ja) | ||
| JPS6163391U (ja) | ||
| JPS61188152U (ja) | ||
| JPS6028137Y2 (ja) | 電子ビ−ム露光装置 | |
| JPS63109919U (ja) | ||
| JPS6253417U (ja) | ||
| JPS6367350U (ja) | ||
| JPS5966853U (ja) | 面積走査角度走査両用電子線走査型分析装置 | |
| JPH03127368U (ja) | ||
| JPS6329117U (ja) | ||
| JPS5862344U (ja) | 製版装置における倍率調整機構 | |
| JPS61109422U (ja) | ||
| JPS6215308U (ja) | ||
| JPS61109421U (ja) | ||
| JPS6386632U (ja) | ||
| JPH0424252U (ja) | ||
| JPS61114415U (ja) | ||
| JPS5894251U (ja) | 荷電粒子線応用装置 | |
| JPS5917556U (ja) | 光学顕微鏡を具えた電子線装置 | |
| JPH0326901U (ja) | ||
| JPS61109420U (ja) |