JPS61192434A - ステ−ジ装置 - Google Patents
ステ−ジ装置Info
- Publication number
- JPS61192434A JPS61192434A JP3101585A JP3101585A JPS61192434A JP S61192434 A JPS61192434 A JP S61192434A JP 3101585 A JP3101585 A JP 3101585A JP 3101585 A JP3101585 A JP 3101585A JP S61192434 A JPS61192434 A JP S61192434A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- rotary
- treated
- saddle
- processed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
- B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
- B23Q1/44—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms
- B23Q1/56—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism
- B23Q1/60—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism two sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism
- B23Q1/62—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism two sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism with perpendicular axes, e.g. cross-slides
- B23Q1/621—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism two sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism with perpendicular axes, e.g. cross-slides a single sliding pair followed perpendicularly by a single sliding pair
- B23Q1/623—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism two sliding pairs only, the sliding pairs being the first two elements of the mechanism with perpendicular axes, e.g. cross-slides a single sliding pair followed perpendicularly by a single sliding pair followed perpendicularly by a single rotating pair
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はたとえば電子ビーム描画装置、マスク欠陥検査
装置あるい社マスク欠陥修正装置などに用いられるステ
ージ装置に関する。
装置あるい社マスク欠陥修正装置などに用いられるステ
ージ装置に関する。
従来、この種のステージ装置としてはたとえば、第３図
に示すようなものが知られている。
に示すようなものが知られている。
すなわち、図中１はペースで、このペース１の上面部に
はガイド用の突起部２が突設されている。また、上記ペ
ース１の上面部には移動体としてのサドル３が設けられ
、このサドル３はその底面部に形成された凹所４を上記
ペース１の突起部２に嵌合させてよ方向にスライド自在
になっている。また、上記サドル３の上面部には移動体
としてのステージ５が載置され、このステージ５はその
底面部に形成された凹所６を上記サドル３の上面部に突
設されたガイド用の突起部７に嵌合させてｙ方向にスラ
イド自在になっている。
はガイド用の突起部２が突設されている。また、上記ペ
ース１の上面部には移動体としてのサドル３が設けられ
、このサドル３はその底面部に形成された凹所４を上記
ペース１の突起部２に嵌合させてよ方向にスライド自在
になっている。また、上記サドル３の上面部には移動体
としてのステージ５が載置され、このステージ５はその
底面部に形成された凹所６を上記サドル３の上面部に突
設されたガイド用の突起部７に嵌合させてｙ方向にスラ
イド自在になっている。
上記ステージ５はその上面部にたとえば第４図に２点＃
Ａ線で示されるような描画範囲Ｈを有し、上記サドル３
およびステージ５のスライド範囲Ｓは上記描画範囲Ｈの
寸法ａよりも大きくされている。
Ａ線で示されるような描画範囲Ｈを有し、上記サドル３
およびステージ５のスライド範囲Ｓは上記描画範囲Ｈの
寸法ａよりも大きくされている。
また、上記ステージ５の上方部には処理具としてたとえ
ば電子ビームＥを発生させる発生器（図示しない）が設
けられている。
ば電子ビームＥを発生させる発生器（図示しない）が設
けられている。
しかして、たとえばレチクルを製作する場合には、第４
図に示すように、まず、ステージ５照射するとともに図
示しない駆動機構によりサドル３をＸ方向、ステージ５
をＹ方向にそれぞれ移動させる。
図に示すように、まず、ステージ５照射するとともに図
示しない駆動機構によりサドル３をＸ方向、ステージ５
をＹ方向にそれぞれ移動させる。
これＶこより、電子ビームが描画範囲Ｈの全面に走査さ
れ、所定のパターンが描画されることになる。
れ、所定のパターンが描画されることになる。
ところで、この描画時において、上記サドル３がスライ
ド移動されると、その一部がペース１から突出するが、
このときサドル３とペースｌとの重り部Ｙ、に対するサ
ドル３のオーババング量Ｙ、の比が大きくなると、サド
ル３のピッチング的動きが増大し、走行精度上悪影響を
与える欠点があった。
ド移動されると、その一部がペース１から突出するが、
このときサドル３とペースｌとの重り部Ｙ、に対するサ
ドル３のオーババング量Ｙ、の比が大きくなると、サド
ル３のピッチング的動きが増大し、走行精度上悪影響を
与える欠点があった。
そこで、ペース１を大形化することにより・重り部Ｙ、
とオーバハング量Ｙ２の比を小さくすることが考えられ
るが、この場合には、軽薄短小の面から特に、真空チャ
ンバを必要とする電子ビーム描画装置においては、真空
チャンバが大形化してしまう不都合があった。
とオーバハング量Ｙ２の比を小さくすることが考えられ
るが、この場合には、軽薄短小の面から特に、真空チャ
ンバを必要とする電子ビーム描画装置においては、真空
チャンバが大形化してしまう不都合があった。
本発明は上記事情に着目してなされたもので、その目的
とするところは、移動体の走行精度を低下させることな
く、小形化を図ることができるようにしたステージ装置
を提供しようとするものである。
とするところは、移動体の走行精度を低下させることな
く、小形化を図ることができるようにしたステージ装置
を提供しようとするものである。
本発明は上記目的を達成するため、移動体の上部に回転
台を設け、この回転台上に被処理材を載置し、前記被処
理材の処理面が処理具によって複数分の１処理されるご
とに前記回転台を所定角度ずつ回転させて前記処理具に
対する被処理材の対向位置を変更することにより、大形
化することなく、移動体のピッチング的な動きを防止で
きるようにしたものである。
台を設け、この回転台上に被処理材を載置し、前記被処
理材の処理面が処理具によって複数分の１処理されるご
とに前記回転台を所定角度ずつ回転させて前記処理具に
対する被処理材の対向位置を変更することにより、大形
化することなく、移動体のピッチング的な動きを防止で
きるようにしたものである。
以下、本発明を第１図および第２図に示す一実施例を参
照して説明する。なお、第３図および第４図で示した部
分と同一部分については同一番号を示してその説明を省
略する。図中１１はステージ５の上面部に回転自在に設
けられた回転台としての回転ステージである。この回転
ステージ１ノは図示しない駆動機構により支軸１１ａを
中心として時計方向に９０°ずつ回転されるようになっ
ている。また、上記回転ステージ１１の上面の描画範囲
Ｈは第２図に示すように４つのゾーンＡ、Ｂ、Ｃ，ｌ）
に区分され、電子ビームの発生器は前記ゾーン人の略中
央部に対向されてｈる。前記回転ステージ１１はゾーン
Ａに対する描画が終了するごとに９０°ずつ回転しゾー
ン人の位置に順次、ゾーンＢ、Ｃ。
照して説明する。なお、第３図および第４図で示した部
分と同一部分については同一番号を示してその説明を省
略する。図中１１はステージ５の上面部に回転自在に設
けられた回転台としての回転ステージである。この回転
ステージ１ノは図示しない駆動機構により支軸１１ａを
中心として時計方向に９０°ずつ回転されるようになっ
ている。また、上記回転ステージ１１の上面の描画範囲
Ｈは第２図に示すように４つのゾーンＡ、Ｂ、Ｃ，ｌ）
に区分され、電子ビームの発生器は前記ゾーン人の略中
央部に対向されてｈる。前記回転ステージ１１はゾーン
Ａに対する描画が終了するごとに９０°ずつ回転しゾー
ン人の位置に順次、ゾーンＢ、Ｃ。
Ｄを移動させて電子ビームの発生器にそれぞれ対向させ
るようになっている。 □ また、上記ステージ５の側面部にはレーザミラー１２が
取付けられ、ステージ５のＸ、Ｙ方向の移動量をレーザ
で測長するようになっており、回転ステージ１１の回転
に関係なくレーザパルスｔ−堰込めるようになっている
。
るようになっている。 □ また、上記ステージ５の側面部にはレーザミラー１２が
取付けられ、ステージ５のＸ、Ｙ方向の移動量をレーザ
で測長するようになっており、回転ステージ１１の回転
に関係なくレーザパルスｔ−堰込めるようになっている
。
しかして、たとえばレチクルを製作する場合には、まず
、回転ステージ１ノの上面に試料８を載置して固定し、
しかるのちサドル３をＸ方向、ステージ５をＹ方向にそ
れぞれ適宜移動させながら発生器からの電子ビームをＯ
Ｎ 、 ＯＦＦさせてゾーンＡの全体の描画１ｆ％える
。このときの描画範囲の最大値はほぼ１／２ａ であ
る。しかるのち、回転ステージ１１を支軸１１ａを中心
として時計方向に９０°回転させてゾーンＢを電子ビー
ムの発生器に対向させ、上述したゾーンＡの場合と同様
にして描画？行なう。以後、順次、同様にしてゾーン０
１ゾーンＤの描画を行ない、試料８の全面が処理される
ことになる。
、回転ステージ１ノの上面に試料８を載置して固定し、
しかるのちサドル３をＸ方向、ステージ５をＹ方向にそ
れぞれ適宜移動させながら発生器からの電子ビームをＯ
Ｎ 、 ＯＦＦさせてゾーンＡの全体の描画１ｆ％える
。このときの描画範囲の最大値はほぼ１／２ａ であ
る。しかるのち、回転ステージ１１を支軸１１ａを中心
として時計方向に９０°回転させてゾーンＢを電子ビー
ムの発生器に対向させ、上述したゾーンＡの場合と同様
にして描画？行なう。以後、順次、同様にしてゾーン０
１ゾーンＤの描画を行ない、試料８の全面が処理される
ことになる。
なお、回転ステージ１１の回転中心は描画範囲Ｈの真中
心で危くともよいが、この場合には、真中心からずれた
分だけ、ステージ５のｘ、ｙ方向のストロークに余裕を
もたせ、少なくとも各ゾーンＡ、Ｂ、Ｃ，Ｄへ移動した
際には試料８に設けられたマークによって電子ビームと
の位置合せを行なう必要がある０ また、上記一実施例においては、レーザミラー１２をス
テージ５の側面に取付けたが、これに限られることなく
回転ステージ１１の各面に取付けるようにしてもよい。
心で危くともよいが、この場合には、真中心からずれた
分だけ、ステージ５のｘ、ｙ方向のストロークに余裕を
もたせ、少なくとも各ゾーンＡ、Ｂ、Ｃ，Ｄへ移動した
際には試料８に設けられたマークによって電子ビームと
の位置合せを行なう必要がある０ また、上記一実施例においては、レーザミラー１２をス
テージ５の側面に取付けたが、これに限られることなく
回転ステージ１１の各面に取付けるようにしてもよい。
また、レーザミラー１２はアツベのエラーをなくすため
に、描画面と同じ平面上で測定するようにしてもよい。
に、描画面と同じ平面上で測定するようにしてもよい。
また、試料８に対しては電子ビームではなく光を照射さ
せるようにしてもよい。
せるようにしてもよい。
その他、本発明はその要旨の範囲内で種々変形実施可能
なことは勿論である。
なことは勿論である。
本発明は以上説明したように、移動体上に回転台を回転
自在に設け、この回転台上に被処理材を載置し、前記被
処理材の処理面が複数分の１処理されるごとに回転台を
所定角度回転させることにより、処理具に対する被処理
材の処理面の対向位置を変更させるから、移動体の移動
ストロークを小さくできる。したが、って、移動体のピ
ッチング的な動作が少なくなり走行精度を向上できると
ともに装置の小形化を図ることができるという効果を奏
する。
自在に設け、この回転台上に被処理材を載置し、前記被
処理材の処理面が複数分の１処理されるごとに回転台を
所定角度回転させることにより、処理具に対する被処理
材の処理面の対向位置を変更させるから、移動体の移動
ストロークを小さくできる。したが、って、移動体のピ
ッチング的な動作が少なくなり走行精度を向上できると
ともに装置の小形化を図ることができるという効果を奏
する。
はその回転台の描画範囲を示す平面図、第３図は従来の
ステージ装置を示す斜視図、第４図はそのステージ上の
描画範囲を示す平面図である。
ステージ装置を示す斜視図、第４図はそのステージ上の
描画範囲を示す平面図である。
８・・・被処理材（試料）、３・・・移動体（サドル）
、５・・・移動体（ステージ）、１１・・・回転台。
、５・・・移動体（ステージ）、１１・・・回転台。
出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１図
第２図
第３図
Claims (3)
- （１）処理具に対向した状態で被処理材を載置し、この
被処理材を所定方向に移動する移動体を移動させながら
前記処理具により処理させるものにおいて、前記移動体
上に回転自在に設けられ前記被処理材を載置する回転台
を具備し、前記被処理材の処理面が複数分の１処理され
るごとに前記回転台を所定角度回転させて前記処理具に
対する被処理材の対向位置を変更させることを特徴とす
るステージ装置。 - （２）回転台は被処理材の処理面積の１／４が処理され
るごとに９０°回転することを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載のステージ装置。 - （３）処理具は電子ビームあるいは光を被処理材に照射
させることを特徴とする特許請求の範囲第１項または第
２項記載のステージ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3101585A JPS61192434A (ja) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | ステ−ジ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3101585A JPS61192434A (ja) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | ステ−ジ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61192434A true JPS61192434A (ja) | 1986-08-27 |
Family
ID=12319713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3101585A Pending JPS61192434A (ja) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | ステ−ジ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61192434A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2381947A (en) * | 2001-11-09 | 2003-05-14 | Leica Microsys Lithography Ltd | Electron beam lithography machine with rotating stage |
-
1985
- 1985-02-19 JP JP3101585A patent/JPS61192434A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2381947A (en) * | 2001-11-09 | 2003-05-14 | Leica Microsys Lithography Ltd | Electron beam lithography machine with rotating stage |
| GB2381947B (en) * | 2001-11-09 | 2004-01-07 | Leica Microsys Lithography Ltd | Electron beam lithography machine |
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