JPH0232359Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0232359Y2 JPH0232359Y2 JP1985028520U JP2852085U JPH0232359Y2 JP H0232359 Y2 JPH0232359 Y2 JP H0232359Y2 JP 1985028520 U JP1985028520 U JP 1985028520U JP 2852085 U JP2852085 U JP 2852085U JP H0232359 Y2 JPH0232359 Y2 JP H0232359Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- movement
- axis table
- wafer
- axis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 17
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、半導体基板（ウエハ）に露光を施す
際に使用される半導体基板露光用Ｘ−Ｙステージ
に関する。
際に使用される半導体基板露光用Ｘ−Ｙステージ
に関する。
〔従来の技術〕
従来の撮影露光装置としては、第６図に示す如
きものが知られている。即ち１は露光源でレンズ
２を介してマスクステージ３に載置したレチクル
４のパターンを投撮光学系５を通じてウエハ６上
に例えばステツプアンドリピート露光される。ウ
エハ６はＸ軸テーブル７とＹ軸テーブル８からな
るＸ−Ｙステージ９上に載置される。Ｘ及びＹ軸
テーブル７，８はＸ及びＹ軸テーブル駆動モータ
１０，１１によつて螺杆１３，１３に沿つてＸ−
Ｘ及びＹ−Ｙ軸方向に移動される様になされる。
１２はレーザ干渉計でＸ−Ｙステージの位置検出
を自動的に行うものであり、更に必要に応じてウ
エハ用のＸ−Ｙステージ９の移動だけでなく、マ
スクステージ３もＸ及びＹ軸テーブル駆動モータ
１４，１５で自動的に移動させ、相対的な位置合
わせが出来る様になされている。
きものが知られている。即ち１は露光源でレンズ
２を介してマスクステージ３に載置したレチクル
４のパターンを投撮光学系５を通じてウエハ６上
に例えばステツプアンドリピート露光される。ウ
エハ６はＸ軸テーブル７とＹ軸テーブル８からな
るＸ−Ｙステージ９上に載置される。Ｘ及びＹ軸
テーブル７，８はＸ及びＹ軸テーブル駆動モータ
１０，１１によつて螺杆１３，１３に沿つてＸ−
Ｘ及びＹ−Ｙ軸方向に移動される様になされる。
１２はレーザ干渉計でＸ−Ｙステージの位置検出
を自動的に行うものであり、更に必要に応じてウ
エハ用のＸ−Ｙステージ９の移動だけでなく、マ
スクステージ３もＸ及びＹ軸テーブル駆動モータ
１４，１５で自動的に移動させ、相対的な位置合
わせが出来る様になされている。
上述の如き撮影露光装置によるとＸ−Ｙステー
ジ９のストロークは４インチウエハが適用される
としてXY方向に100×200mm程度である。その精
度はレーザ干渉計を用いて0.1μｍ以下の移動分解
能が得られる。然し、Ｘ−Ｙステージ９に載置さ
れるウエハの径が大きくなり６〜８インチになる
とＸ−Ｙステージ９も大型化し、Ｘ及びＹ軸テー
ブルを移動させる螺杆のスパンは長くなり、螺杆
のたわみ等の影響で上述の如き移動分解能を得る
ことが困難となる欠点を有している。
ジ９のストロークは４インチウエハが適用される
としてXY方向に100×200mm程度である。その精
度はレーザ干渉計を用いて0.1μｍ以下の移動分解
能が得られる。然し、Ｘ−Ｙステージ９に載置さ
れるウエハの径が大きくなり６〜８インチになる
とＸ−Ｙステージ９も大型化し、Ｘ及びＹ軸テー
ブルを移動させる螺杆のスパンは長くなり、螺杆
のたわみ等の影響で上述の如き移動分解能を得る
ことが困難となる欠点を有している。
本考案は、上記従来の欠点に鑑み、移動分解能
を落とすことなく、その移動範囲を拡張すること
のできる半導体基板露光用Ｘ−Ｙステージを提供
するため、Ｘ及びＹ軸方向にスライドするように
互いに嵌合された複数のテーブルからなる位置決
め精度の高い第１のＸ−Ｙステージ手段と、該第
１のＸ−Ｙステージ手段上に設けられ、Ｘ及びＹ
軸方向にスライドするように互いに嵌合された複
数のテーブルからなる位置決め精度の低い第２の
Ｘ−Ｙステージ手段と、該第２のＸ−Ｙステージ
手段上に設けられたウエハ載置台と、前記第１の
Ｘ−Ｙステージ手段にのみ設けられ、Ｘ及びＹ軸
方向の移動距離を計測して移動量サーボを行うサ
ーボ手段と、前記第２のＸ−Ｙステージ手段で前
記ウエハ載置台を粗く位置決めした後み、該第２
のＸ−Ｙステージ手段の各テーブルを互いに固定
したまま前記第１のＸ−Ｙステージ手段で前記移
動量サーボにより前記ウエハ載置台を精密に位置
決めするように駆動する駆動手段とを有すること
を特徴とするものである。
を落とすことなく、その移動範囲を拡張すること
のできる半導体基板露光用Ｘ−Ｙステージを提供
するため、Ｘ及びＹ軸方向にスライドするように
互いに嵌合された複数のテーブルからなる位置決
め精度の高い第１のＸ−Ｙステージ手段と、該第
１のＸ−Ｙステージ手段上に設けられ、Ｘ及びＹ
軸方向にスライドするように互いに嵌合された複
数のテーブルからなる位置決め精度の低い第２の
Ｘ−Ｙステージ手段と、該第２のＸ−Ｙステージ
手段上に設けられたウエハ載置台と、前記第１の
Ｘ−Ｙステージ手段にのみ設けられ、Ｘ及びＹ軸
方向の移動距離を計測して移動量サーボを行うサ
ーボ手段と、前記第２のＸ−Ｙステージ手段で前
記ウエハ載置台を粗く位置決めした後み、該第２
のＸ−Ｙステージ手段の各テーブルを互いに固定
したまま前記第１のＸ−Ｙステージ手段で前記移
動量サーボにより前記ウエハ載置台を精密に位置
決めするように駆動する駆動手段とを有すること
を特徴とするものである。
上記位置決め精度の高い第１のＸ−Ｙステージ
手段としては、第６図に示したような従来のＸ−
Ｙステージを使用できる。また、第２のＸ−Ｙス
テージ手段としては、位置決め精度の低い、例え
ば移動分解能が１〜10μｍ程度のものを使用でき
る。
手段としては、第６図に示したような従来のＸ−
Ｙステージを使用できる。また、第２のＸ−Ｙス
テージ手段としては、位置決め精度の低い、例え
ば移動分解能が１〜10μｍ程度のものを使用でき
る。
本考案のＸ−Ｙステージでは、精密な位置決め
を行うための第１のＸ−Ｙステージ手段上に、粗
く位置決めを素早く行うための第２のＸ−Ｙステ
ージ手段が設けられているので、これとは逆の上
下関係の場合と比べて、第２のＸ−Ｙステージ手
段へ加わる重量が大きく軽減されることになる。
しかも、精密な移動距離計測を可能にする移動量
サーボを第１のＸ−Ｙステージ手段でのみ行い、
位置決め精度の粗い第２のＸ−Ｙステージ手段で
は移動量サーボを行わないようにしているので、
第２のＸ−Ｙステージ手段では移動量サーボに伴
う付帯設備がない分だけ重量が軽くなつている。
これらのことから、素早い位置決めを目的とした
第２のＸ−Ｙステージ手段は、位置決め精度は粗
いが、目的箇所の近辺まで非常に素早く移動する
ことが可能になる。
を行うための第１のＸ−Ｙステージ手段上に、粗
く位置決めを素早く行うための第２のＸ−Ｙステ
ージ手段が設けられているので、これとは逆の上
下関係の場合と比べて、第２のＸ−Ｙステージ手
段へ加わる重量が大きく軽減されることになる。
しかも、精密な移動距離計測を可能にする移動量
サーボを第１のＸ−Ｙステージ手段でのみ行い、
位置決め精度の粗い第２のＸ−Ｙステージ手段で
は移動量サーボを行わないようにしているので、
第２のＸ−Ｙステージ手段では移動量サーボに伴
う付帯設備がない分だけ重量が軽くなつている。
これらのことから、素早い位置決めを目的とした
第２のＸ−Ｙステージ手段は、位置決め精度は粗
いが、目的箇所の近辺まで非常に素早く移動する
ことが可能になる。
従つて、本考案のＸ−Ｙステージを使用してウ
エハを位置決めする場合は、まず第２のＸ−Ｙス
テージ手段によつて広い範囲内で素早く粗い位置
決めを行い、その後、第１のＸ−Ｙステージ手段
によつて狭い範囲内で移動量サーボによる精密な
位置決めを行うことができる。これにより、例え
ば８インチ等の大口径のウエハを位置決めする際
にも、高い移動分解能で、しかも素早く位置決め
することが可能になる。
エハを位置決めする場合は、まず第２のＸ−Ｙス
テージ手段によつて広い範囲内で素早く粗い位置
決めを行い、その後、第１のＸ−Ｙステージ手段
によつて狭い範囲内で移動量サーボによる精密な
位置決めを行うことができる。これにより、例え
ば８インチ等の大口径のウエハを位置決めする際
にも、高い移動分解能で、しかも素早く位置決め
することが可能になる。
以下、本考案の一実施例を図面について詳記す
る。第１図は本考案の原理的構成を示すＸ−Ｙス
テージの斜視図、第２図は本考案のＸ−Ｙステー
ジによる可動範囲を示す平面図である。第１図に
示されるように本考案のＸ−Ｙステージは比較的
精度の高い第１のＸ−Ｙステージ１７と精度の低
い第２のＸ−Ｙステージ１６とを重ね合せて投影
露光装置用Ｘ−Ｙステージを構成する。第１のＸ
−Ｙステージ１７はベース１８上にＹ軸テーブル
１９とＸ軸テーブル２０からなり、Ｘ及びＹ軸テ
ーブル、１９及び２０は螺杆２１，２２に案内さ
れてＹ−Ｙ、Ｘ−Ｘ方向にパルスモータ２３，２
４によつて移動するこの時の移動ストロークは
Y2及びX2である。
る。第１図は本考案の原理的構成を示すＸ−Ｙス
テージの斜視図、第２図は本考案のＸ−Ｙステー
ジによる可動範囲を示す平面図である。第１図に
示されるように本考案のＸ−Ｙステージは比較的
精度の高い第１のＸ−Ｙステージ１７と精度の低
い第２のＸ−Ｙステージ１６とを重ね合せて投影
露光装置用Ｘ−Ｙステージを構成する。第１のＸ
−Ｙステージ１７はベース１８上にＹ軸テーブル
１９とＸ軸テーブル２０からなり、Ｘ及びＹ軸テ
ーブル、１９及び２０は螺杆２１，２２に案内さ
れてＹ−Ｙ、Ｘ−Ｘ方向にパルスモータ２３，２
４によつて移動するこの時の移動ストロークは
Y2及びX2である。
第２のＸ−Ｙステージ１６は同じくベース２
５、Ｙ軸テーブル２６、Ｘ軸テーブル２７よりな
りＹ及びＸ軸テーブル２６，２７は螺杆２９，２
８とパルスモータ３０，３１によつてＹ−Ｙ及び
Ｘ−Ｘ方向に移動し、この時の移動ストロークは
Y1、及びX1であり、Y1＞Y2、X1＞X2の関係に
ある。第２図に第１及び第２のＸ−Ｙステージの
可動範囲を模式的に示す。
５、Ｙ軸テーブル２６、Ｘ軸テーブル２７よりな
りＹ及びＸ軸テーブル２６，２７は螺杆２９，２
８とパルスモータ３０，３１によつてＹ−Ｙ及び
Ｘ−Ｘ方向に移動し、この時の移動ストロークは
Y1、及びX1であり、Y1＞Y2、X1＞X2の関係に
ある。第２図に第１及び第２のＸ−Ｙステージの
可動範囲を模式的に示す。
第１のＸ−Ｙステージ１７の最上面、すなわち
Ｘ軸テーブル２０の上面はX2×Y2で示す符号３
２の領域内を駆動可能であり、第２のＸ−Ｙステ
ージ１６の最上面、すなわちＸ軸テーブル２７の
上面はY1×X1で示す符号３３の領域内を駆動可
能である。
Ｘ軸テーブル２０の上面はX2×Y2で示す符号３
２の領域内を駆動可能であり、第２のＸ−Ｙステ
ージ１６の最上面、すなわちＸ軸テーブル２７の
上面はY1×X1で示す符号３３の領域内を駆動可
能である。
以下、本考案の投影露光装置のＸ−Ｙステージ
の実際の構成を第３図乃至第５図について詳記す
る。第３図は本考案の投影露光装置のＸ−Ｙステ
ージ斜視図、第４図は本考案の投影露光装置のＸ
又はＹ軸テーブルの側面図、第５図は第４図のＡ
−Ａ断面矢視図である。
の実際の構成を第３図乃至第５図について詳記す
る。第３図は本考案の投影露光装置のＸ−Ｙステ
ージ斜視図、第４図は本考案の投影露光装置のＸ
又はＹ軸テーブルの側面図、第５図は第４図のＡ
−Ａ断面矢視図である。
第３図に於いて、第１図と同一部分には同一符
号を付すに、第１のＸ−Ｙステージ１７のベース
１８上にはＹ軸方向に延びる凸状のレール１８ａ
を有し該凸状部に嵌り合う凹部１９ａが、第４図
に示す様にＹ軸テーブル１９に形成され、凸状の
レール１８ａには該レール１８ａの軸に沿つて空
洞部１８ｂが形成され、該空洞部１８ｂ内には螺
杆２１の雄螺子と嵌螺合する雌螺子部を有する突
出部１８ｃがベース１８側に第５図に示す様に固
定されている。
号を付すに、第１のＸ−Ｙステージ１７のベース
１８上にはＹ軸方向に延びる凸状のレール１８ａ
を有し該凸状部に嵌り合う凹部１９ａが、第４図
に示す様にＹ軸テーブル１９に形成され、凸状の
レール１８ａには該レール１８ａの軸に沿つて空
洞部１８ｂが形成され、該空洞部１８ｂ内には螺
杆２１の雄螺子と嵌螺合する雌螺子部を有する突
出部１８ｃがベース１８側に第５図に示す様に固
定されている。
Ｙ軸テーブル１９の凹部１９ａはベース１８の
凸部と嵌り合つてＹ−Ｙ方向に摺動自在となさ
れ、必要に応じボールベアリング又は浮上エアベ
アリング等で摺動時の摩擦抵抗を減少する様に構
成するを可とする。Ｙ軸テーブル１９の側端には
駆動保持部３２ｄを有し、パルスモータ等の駆動
源２３が保持され、螺杆２１の軸受部を構成して
いる。上記構成ベース１８とＹ軸テーブル１９と
のスライド状態を説明したが第１のＸ−Ｙステー
ジ１７を構成するＹ軸テーブル１９とＸ軸テーブ
ル２０との関係もレール１９ｂにＸ軸テーブルの
凹部２０ａが嵌り合つてＹ−Ｙ方向と直交するＸ
−Ｘ方向に摺動自在となる様になされる。尚図示
しないが通常のＸ，Ｙ，θステージの様に第１及
び後述する第２のＸ−Ｙステージに回転方向θの
微調整が出来る様にするを可とする。第２のＸ−
Ｙステージ１６を構成するＹ軸テーブル２６とＸ
軸テーブル２７とのレール２６ａと凹部２７ａの
嵌合、並にＸ軸テーブル２７とウエハ載置台３４
とのレール２７ｂと凹部３５ａとの嵌合も第４図
及び第５図に述べたと同様の構成をとることが出
来る。螺杆２２，２８，２９を駆動するパルスモ
ータはそれぞれ符号２４，３１，３０で表され、
これらを保持する駆動保持部３２ｃ，３２ａ，３
２ｂで表されている。
凸部と嵌り合つてＹ−Ｙ方向に摺動自在となさ
れ、必要に応じボールベアリング又は浮上エアベ
アリング等で摺動時の摩擦抵抗を減少する様に構
成するを可とする。Ｙ軸テーブル１９の側端には
駆動保持部３２ｄを有し、パルスモータ等の駆動
源２３が保持され、螺杆２１の軸受部を構成して
いる。上記構成ベース１８とＹ軸テーブル１９と
のスライド状態を説明したが第１のＸ−Ｙステー
ジ１７を構成するＹ軸テーブル１９とＸ軸テーブ
ル２０との関係もレール１９ｂにＸ軸テーブルの
凹部２０ａが嵌り合つてＹ−Ｙ方向と直交するＸ
−Ｘ方向に摺動自在となる様になされる。尚図示
しないが通常のＸ，Ｙ，θステージの様に第１及
び後述する第２のＸ−Ｙステージに回転方向θの
微調整が出来る様にするを可とする。第２のＸ−
Ｙステージ１６を構成するＹ軸テーブル２６とＸ
軸テーブル２７とのレール２６ａと凹部２７ａの
嵌合、並にＸ軸テーブル２７とウエハ載置台３４
とのレール２７ｂと凹部３５ａとの嵌合も第４図
及び第５図に述べたと同様の構成をとることが出
来る。螺杆２２，２８，２９を駆動するパルスモ
ータはそれぞれ符号２４，３１，３０で表され、
これらを保持する駆動保持部３２ｃ，３２ａ，３
２ｂで表されている。
上述の構成で第１のＸ−Ｙステージ１７はＸ−
Ｙ方向の移動スパンを比較的小さくとり、その精
度（移動精度）を0.01〜0.1μｍ程度に選択し、図
示されていないがレーザ干渉計等を用いてＸ及び
Ｙ軸方向の移動距離を精密計測して移動量サーボ
を行う様になす。又、第２のＸ−Ｙステージ１６
は上記第１のＸ−Ｙステージ１７に比べてＸ−Ｙ
方向の移動スパンを大きくとり、その精度（移動
精度）を１〜10μｍ程度に選択して、上記第１の
Ｘ−Ｙステージに重ね合せることで、第２のＸ−
Ｙステージ１６上のウエハ載置台３４に６〜８イ
ンチの直径のウエハを乗せて該ウエハの外周部迄
第２のＸ−Ｙステージにより移動が可能である。
よつて、第２のＸ−Ｙステージ１６で粗い位置決
めを素早く行つた後に、この第２のＸ−Ｙステー
ジ１６の各テーブルを互いに固定したまま、下方
の精密な第１のＸ−Ｙステージで精密な位置決め
を行うことが出来る。尚、第２のＸ−Ｙステージ
を停止させるには第１及び第２のＸ軸用のパルス
モータ同士を互いに逆方向回転させてサーボする
ことで比較的簡単に所定位置に停止させることが
出来る。又図示しないブレーキ手段等で停止保持
させることが可能である。
Ｙ方向の移動スパンを比較的小さくとり、その精
度（移動精度）を0.01〜0.1μｍ程度に選択し、図
示されていないがレーザ干渉計等を用いてＸ及び
Ｙ軸方向の移動距離を精密計測して移動量サーボ
を行う様になす。又、第２のＸ−Ｙステージ１６
は上記第１のＸ−Ｙステージ１７に比べてＸ−Ｙ
方向の移動スパンを大きくとり、その精度（移動
精度）を１〜10μｍ程度に選択して、上記第１の
Ｘ−Ｙステージに重ね合せることで、第２のＸ−
Ｙステージ１６上のウエハ載置台３４に６〜８イ
ンチの直径のウエハを乗せて該ウエハの外周部迄
第２のＸ−Ｙステージにより移動が可能である。
よつて、第２のＸ−Ｙステージ１６で粗い位置決
めを素早く行つた後に、この第２のＸ−Ｙステー
ジ１６の各テーブルを互いに固定したまま、下方
の精密な第１のＸ−Ｙステージで精密な位置決め
を行うことが出来る。尚、第２のＸ−Ｙステージ
を停止させるには第１及び第２のＸ軸用のパルス
モータ同士を互いに逆方向回転させてサーボする
ことで比較的簡単に所定位置に停止させることが
出来る。又図示しないブレーキ手段等で停止保持
させることが可能である。
本考案は上述の如く構成し、且つ動作させたの
で大型ウエハを露光する場合にステージの移動範
囲が拡大されて、精密な露光が極めて簡単な構成
で行い得る特徴を有する。
で大型ウエハを露光する場合にステージの移動範
囲が拡大されて、精密な露光が極めて簡単な構成
で行い得る特徴を有する。
第１図は本考案の半導体基板用Ｘ−Ｙステージ
の動作を説明する原理的な斜視図、第２図は第１
図のＸ−Ｙステージによつて拡張されるテーブル
の移動範囲を説明するための平面図、第３図は本
考案の半導体基板用Ｘ−Ｙステージの一実施例を
示す斜視図、第４図はＸ−Ｙステージに用いられ
るテーブルの側面図、第５図は第４図のＡ−Ａ断
面矢視図、第６図は従来の露光装置の模式的な斜
視図である。 １……露光源、２……レンズ、３……マスクス
テージ、４……レチクル、５……投撮光学系、６
……ウエハ、７……Ｘ軸テーブル、８……Ｙ軸テ
ーブル、９……Ｘ−Ｙステージ、１０，１１，１
４，１５……駆動モータ、１３，２１，２２，２
８，２９……螺杆、１６……第１のＸ−Ｙステー
ジ、１７……第２のＸ−Ｙステージ、１８，２５
……ベース、１９，２６……Ｙ軸テーブル、２
０，２７……Ｘ軸テーブル、２３，２４，３０，
３１……パルスモータ等の駆動源、３２ａ，３２
ｂ，３２ｃ，３２ｄ……駆動部保持部。
の動作を説明する原理的な斜視図、第２図は第１
図のＸ−Ｙステージによつて拡張されるテーブル
の移動範囲を説明するための平面図、第３図は本
考案の半導体基板用Ｘ−Ｙステージの一実施例を
示す斜視図、第４図はＸ−Ｙステージに用いられ
るテーブルの側面図、第５図は第４図のＡ−Ａ断
面矢視図、第６図は従来の露光装置の模式的な斜
視図である。 １……露光源、２……レンズ、３……マスクス
テージ、４……レチクル、５……投撮光学系、６
……ウエハ、７……Ｘ軸テーブル、８……Ｙ軸テ
ーブル、９……Ｘ−Ｙステージ、１０，１１，１
４，１５……駆動モータ、１３，２１，２２，２
８，２９……螺杆、１６……第１のＸ−Ｙステー
ジ、１７……第２のＸ−Ｙステージ、１８，２５
……ベース、１９，２６……Ｙ軸テーブル、２
０，２７……Ｘ軸テーブル、２３，２４，３０，
３１……パルスモータ等の駆動源、３２ａ，３２
ｂ，３２ｃ，３２ｄ……駆動部保持部。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 Ｘ及びＹ軸方向にスライドするように互いに嵌
合された複数のテーブルからなる位置決め精度の
高い第１のＸ−Ｙステージ手段と、 該第１のＸ−Ｙステージ手段上に設けられ、Ｘ
及びＹ軸方向にスライドするように互いに嵌合さ
れた複数のテーブルからなる位置決め精度の低い
第２のＸ−Ｙステージ手段と、 該第２のＸ−Ｙステージ手段上に設けられたウ
エハ載置台と、 前記第１のＸ−Ｙステージ手段にのみ設けら
れ、Ｘ及びＹ軸方向の移動距離を計測して移動量
サーボを行うサーボ手段と、 前記第２のＸ−Ｙステージ手段で前記ウエハ載
置台を粗く位置決めした後に、該第２のＸ−Ｙス
テージ手段の各テーブルを互いに固定したまま前
記第１のＸ−Ｙステージ手段で前記移動量サーボ
により前記ウエハ載置台を精密に位置決めするよ
うに駆動する駆動手段とを有することを特徴とす
る半導体基板露光用Ｘ−Ｙステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985028520U JPH0232359Y2 (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985028520U JPH0232359Y2 (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61145938U JPS61145938U (ja) | 1986-09-09 |
| JPH0232359Y2 true JPH0232359Y2 (ja) | 1990-09-03 |
Family
ID=30526470
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985028520U Expired JPH0232359Y2 (ja) | 1985-02-28 | 1985-02-28 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0232359Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61219543A (ja) * | 1985-03-26 | 1986-09-29 | Koshin Seisakusho:Kk | 移動加工装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4911074A (ja) * | 1972-05-26 | 1974-01-31 | ||
| JPS60147737A (ja) * | 1984-01-13 | 1985-08-03 | Hitachi Ltd | ペリクルホルダ |
-
1985
- 1985-02-28 JP JP1985028520U patent/JPH0232359Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4911074A (ja) * | 1972-05-26 | 1974-01-31 | ||
| JPS60147737A (ja) * | 1984-01-13 | 1985-08-03 | Hitachi Ltd | ペリクルホルダ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61145938U (ja) | 1986-09-09 |
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