JPS61191177A - Solid-state image pickup element - Google Patents
Solid-state image pickup elementInfo
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- JPS61191177A JPS61191177A JP60031899A JP3189985A JPS61191177A JP S61191177 A JPS61191177 A JP S61191177A JP 60031899 A JP60031899 A JP 60031899A JP 3189985 A JP3189985 A JP 3189985A JP S61191177 A JPS61191177 A JP S61191177A
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Landscapes
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はビデオカメラの撮像部等に用いるCCD(Ch
arge Coupled Device )固体撮像
素子に関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a CCD (Ch
(coupled device) relates to a solid-state image sensor.
第6図は従来におけるクロスゲート構造であってフレー
ムトランスファ方式のCCD固体撮像素子のポテンシャ
ル図であり、第6図(イ)はゲート電極Gll G2+
c3.c4及びこれに対するクロックパルス電圧φ1
.φ2.φ3.φ4を示す模式図、第6図(ロ)、(ハ
)は前記ゲート電極G、〜G4と対応する部分のポテン
シャルを示している。FIG. 6 is a potential diagram of a CCD solid-state image sensing device with a conventional cross-gate structure and a frame transfer method.
c3. c4 and the corresponding clock pulse voltage φ1
.. φ2. φ3. The schematic diagrams 6(b) and 6(c) showing φ4 show the potentials of the portions corresponding to the gate electrodes G, .about.G4.
充電変換期間中ば第6図(イ)に示す上層のゲート電極
C,,C3夫々にクロックパルス電圧φ1゜φ3として
ハイレベルの電圧を印加してこれらと対応する部分に第
6図(ロ)に示す如きポテンシャル井戸W、、W3を形
成し、ここに夫々第6図(ロ)に示す(f)の領域から
電荷を集めて蓄積する ゛が、光照度が大きい
場合には各ポテンシャル井戸W、、、W3内への蓄積電
荷量が破線で示すオーバーフローレベルに達してこれを
越える電荷は、オーバーフロードレインに吸収排除され
ブルーミングを抑制された状態となっている。During the charge conversion period, high-level voltages are applied as clock pulse voltages φ1 and φ3 to the upper layer gate electrodes C, C3 shown in FIG. 6(a), respectively, and the voltages shown in FIG. 6(b) are applied to the corresponding portions. Potential wells W, , W3 as shown in FIG. ,, Charges accumulated in W3 that reach and exceed the overflow level shown by the broken line are absorbed and removed by the overflow drain, and blooming is suppressed.
そして光電変換期間の終期には下層のゲート電極G2に
対するクロックパルス電圧φ2をハイレベルに設定して
これと対向する位置に第6図(ハ)に示す如く略2倍近
い深さのポテンシャル井戸W2を形成し、ここに前記ゲ
ート電極G I + 03下に形成されているポテンシ
ャル井戸Wi 、 W3 内の電荷を集め、所謂二画素
を混合した状態で図示しない蓄積部への転送が行われる
ようになっている。At the end of the photoelectric conversion period, the clock pulse voltage φ2 for the gate electrode G2 in the lower layer is set to a high level, and a potential well W2 of approximately twice the depth is placed at a position opposite to this as shown in FIG. 6(c). is formed, and charges in the potential wells Wi, W3 formed under the gate electrode G I + 03 are collected here, so that the so-called two pixels are mixed and transferred to the storage section (not shown). It has become.
ところで上述した如き二画素を混合する方式のCCD固
体撮像素子における出力と光照度との関係を示すと第7
図に示す如くになる。第7図は横軸に光照度を、また縦
軸に出力をとって示してあり、単一の画素における光照
度と出力との関係は線Pa P、p2の如くになって光
照度がPoからP5までは光照度の増大に応して出力も
増大するが、光照度が25を越えるとオーバーフローレ
ベルに達してこれを越える電荷はオーバーフロードレイ
ンに吸収排除され、出力が上昇しない所謂飽和状態とな
る。次に二画素を混合した場合についてみると線PoP
3P4の如くになり、出力は2倍になるが、飽和光照度
がP5であることには変わりがなく、P5を越える光照
度に対しては、出力が上昇せず、換言すればダイナミッ
クレンジが狭くコントラストを表わすことが出来ないこ
ととなる。By the way, the relationship between the output and light illuminance in a CCD solid-state image sensor of the type that mixes two pixels as described above is shown in the seventh figure.
The result will be as shown in the figure. Figure 7 shows the light illuminance on the horizontal axis and the output on the vertical axis, and the relationship between the light illuminance and the output at a single pixel is as shown by lines Pa P and p2, and the light illuminance increases from Po to P5. The output increases as the light illuminance increases, but when the light illuminance exceeds 25, the overflow level is reached and the charge exceeding this level is absorbed and removed by the overflow drain, resulting in a so-called saturated state in which the output does not increase. Next, if we look at the case where two pixels are mixed, the line PoP
It becomes like 3P4, and the output is doubled, but the saturation light illuminance is still P5, and for light illuminance exceeding P5, the output does not increase, in other words, the dynamic range is narrow and the contrast is low. This means that it cannot be expressed.
このため従来にあってはダイナミックレンジの拡大のた
めインターライン方式のCCD固体撮像素子においては
受光部からの読み出し電圧を利用する方法が、またフレ
ームトランスファ方式のCCD固体撮像素子においては
表面チャネルのアキュムレーションを利用する方法が既
に提案されている(1984年テレビジョン学会全国大
会論文集3−14゜j978年テレビジョン学会全国大
会論文集2−1.2 )。For this reason, conventionally, in order to expand the dynamic range, an interline type CCD solid-state image sensor uses the readout voltage from the light receiving section, and a frame transfer type CCD solid-state image sensor uses surface channel accumulation. A method using the method has already been proposed (Proceedings of the 1984 National Conference of the Television Society 3-14゜j Proceedings of the 1978 National Conference of the Television Society 2-1.2).
ところで上述した如〈従来の方法にあっては前者の場合
受光部から垂直転送チャネルへのゲートの開閉が自由に
制御できる構造、即ちインターライン方式にのみ有効で
映像信号電荷の蓄積と垂直転送チャネルへのゲーi−と
を同一ゲートで行うフレームトランスファ方式への適用
が出来ないという問題があり、更に後者の方法は表面チ
ャネルを利用するが、転送効率が低く、埋込みチャネル
の採用が普及している現在その適用域が狭い七いう問題
点があった。By the way, as mentioned above, in the former case, the conventional method has a structure in which the opening and closing of the gate from the light receiving section to the vertical transfer channel can be freely controlled, that is, it is effective only for the interline method, and it is effective only for the accumulation of video signal charge and the vertical transfer channel. There is a problem that it cannot be applied to a frame transfer method that uses the same gate to perform both gate and gate i-.Furthermore, although the latter method uses surface channels, the transfer efficiency is low, and the use of embedded channels has become widespread. Currently, the scope of its application is narrow.
本発明はかかる事情に鑑みなされたものであって、その
目的とるところは二画素を混合して出力する場合におい
て、混合する二画素の少なくとも一方の電荷がオーバー
フロー状態に達しないよう電荷蓄積時間を変更させるこ
とによってダイナミックレンジを大幅に拡大出来、画質
が向上し、そのうえインターライン方式は勿論、フレー
ムトランスファ方式のCCD固体撮像素子に対しても適
用が可能な固体撮像素子を提供するにある。The present invention has been made in view of the above circumstances, and its purpose is to increase the charge accumulation time so that the charge of at least one of the two pixels to be mixed does not reach an overflow state when two pixels are mixed and output. It is an object of the present invention to provide a solid-state imaging device which can significantly expand the dynamic range and improve image quality by changing the structure, and can be applied not only to interline type but also to frame transfer type CCD solid-state image sensing devices.
本発明に係る固体撮像素子は、隣接する二画素の電荷を
混合して出力するようにした固体撮像素子において、電
荷を混合すべき二画素の少なくとも一方の電荷量がオー
バーフローレベルに達しないよう夫々の電荷の蓄積時間
を異ならしめたことを特徴とする。A solid-state image sensor according to the present invention is a solid-state image sensor that mixes charges of two adjacent pixels and outputs the mixture. It is characterized by having different charge accumulation times.
第】図は2画素を混合して出力する構成のCCD固体撮
像素子の光照度と出力との関係を示すグラフであり、横
軸に光照度を、また縦軸に出力をとって示しである。破
線は第7図に示した従来の場合における関係を示してお
り、混合すべき2画素で生起された電荷を例えば同じ時
間だけ蓄積する場合には、既述した如く一画素における
光照度と出力との関係がP。P、P2の如くになり、結
局これを混合したときにはPoP3P4となって飽和光
照度はP5となる。FIG. 1 is a graph showing the relationship between light illuminance and output of a CCD solid-state image pickup device configured to output a mixture of two pixels. The horizontal axis represents the light illuminance, and the vertical axis represents the output. The broken line shows the relationship in the conventional case shown in FIG. 7, and when the charges generated in two pixels to be mixed are accumulated for the same amount of time, the light illuminance and output in one pixel, as described above, are The relationship is P. P and P2, and when these are mixed, it becomes PoP3P4 and the saturated light illuminance becomes P5.
そこで、混合すべき2画素の電荷の蓄積時間を少なくと
も一方が飽和状態とならないように異ならせる。例えば
混合すべき2画素のうち一方の画素では電荷を従来と同
様に一点鎖線で示す如くpop、p2のパターンで電荷
の蓄積を行わせ、他方の画素ではこれよりも電荷蓄積時
間を短縮して二点鎖線で示す如<POp7p2のパター
ンで電荷の蓄積を行わせる。これによって2画素を混合
したときは実線で示す如くになり、光照度がP9ではじ
めて飽和状態になることとなる。従って従来にあっては
P5で飽和状態となっていたのに比較してその飽和光照
度、即ちダイナミックレンジが大幅に拡大し得ることと
なる。Therefore, the charge accumulation times of the two pixels to be mixed are made different so that at least one of them does not become saturated. For example, in one of the two pixels to be mixed, charge is accumulated in a pop, p2 pattern as shown by the dashed line, as in the conventional case, and in the other pixel, the charge accumulation time is shortened. Charges are accumulated in a pattern of <POp7p2 as shown by the two-dot chain line. As a result, when two pixels are mixed, it becomes as shown by the solid line, and the light illuminance reaches a saturated state for the first time at P9. Therefore, the saturated light illuminance, that is, the dynamic range, can be greatly expanded compared to the conventional case where the saturated state is reached at P5.
以下本発明をその実施例を示す図面に基づき具体的に説
明する。第2図はクロスゲート構造であってフレームト
ランスファ方式のCCD固定撮像素子における撮像部の
模式的平面図であり、図中10はSiMの基板を示して
いる。この基板10には一定間隔を隔てて各チャネルを
分割するためのチャネルストッパ11.11・・・が縦
向き(垂直方向)に形成され、また各チャネルストッパ
11.11・・・の幅方向の中央にはその長手方向に沿
ってオーバーフロードレイン12..12・・・が形成
されている。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be specifically described below based on drawings showing embodiments thereof. FIG. 2 is a schematic plan view of an imaging section in a frame transfer CCD fixed imaging device having a cross-gate structure, and numeral 10 in the figure indicates a SiM substrate. On this substrate 10, channel stoppers 11, 11, . In the center there is an overflow drain 12. along its length. .. 12... are formed.
そして上記チャネルストッパ11・・・、オーバーフロ
ードレイン12・・・を形成した基板10上には図示し
ない絶縁膜を隔てて横方向(水平方向)に延びる下層ゲ
ート電極13.13・・・が、垂直方向に一定間隔を隔
てて形成され、またこの上には同じく図示しない絶縁膜
を隔てて前記チャネルストッパ11、オーバーフロード
レイン12と対応する位置毎に垂直方向に延びる上層ゲ
ート電極14.14・・・が横方向に一定間隔を隔てて
形成され、これら上、下層ゲート電極13.14による
格子目部分に受光部15が形成されている。この上層ゲ
ート電極14..14・・・はその長手方向に狭幅部1
4aと広幅部14bとが所定ピッチで交互するよう形成
されており、この狭幅部14aと広幅部14bとが相隣
する上層ゲート電極14.14間では互い違いになり、
月つ各広幅部14bが相隣する下層電極13.13の両
者にわたるようにして形成し前記受光部15に生成され
た電荷の蓄積部としである。On the substrate 10 on which the channel stoppers 11, overflow drains 12, and so on are formed, lower gate electrodes 13 and 13, which extend in the lateral direction (horizontal direction) across an insulating film (not shown), are vertically disposed. Upper layer gate electrodes 14, 14, . . . are formed at regular intervals in the direction, and extend vertically at positions corresponding to the channel stopper 11 and the overflow drain 12, with an insulating film (not shown) therebetween. are formed at regular intervals in the lateral direction, and light receiving portions 15 are formed in the lattice portions formed by the upper and lower gate electrodes 13 and 14. This upper layer gate electrode 14. .. 14... has a narrow part 1 in its longitudinal direction.
4a and wide width portions 14b are formed alternately at a predetermined pitch, and the narrow width portions 14a and wide width portions 14b are alternated between adjacent upper layer gate electrodes 14 and 14,
Each wide portion 14b is formed so as to span both adjacent lower layer electrodes 13, 13, and serves as an accumulation portion for charges generated in the light receiving portion 15.
いま下層ゲート電極13・・・、上層ゲート電極14・
・・の夫々は1つおきに電気的に接続されており、この
ように接続した状態の電極の組を下層ゲート電極13・
・・にあっては第1ゲート電極G1、第3ゲート電極G
3とし、また上層ゲート電極】4・・・にあっては第2
ゲート電極G2、第4ゲート電極G、とし、またこれら
各第1〜第4ゲート電極61〜G。Now, the lower layer gate electrode 13..., the upper layer gate electrode 14...
... are electrically connected to each other, and the set of electrodes connected in this way is connected to the lower gate electrode 13.
..., the first gate electrode G1, the third gate electrode G
3, and the upper layer gate electrode] 4...
A gate electrode G2, a fourth gate electrode G, and each of the first to fourth gate electrodes 61 to G.
に印加するクロックパルス電圧をφ1.φ2.φ3゜φ
4とする。このクロックパルス電圧及び印加のタイミン
グは図示しない駆動回路によって制御され、各画素の電
荷を第2図に一点鎖線で示す如く蓄積し、更に転送する
ようにしである。The clock pulse voltage applied to φ1. φ2. φ3゜φ
Set it to 4. The clock pulse voltage and the timing of application are controlled by a drive circuit (not shown), so that the charge in each pixel is accumulated as shown by the dashed line in FIG. 2, and is further transferred.
第3図(イ)、(ロ)、(ハ)、(ニ)は電荷蓄積時に
おけるクロックパルス波形図を示し、また第4図(イ)
はゲート電極の模式図、第4図(ロ)、(ハ)、(ニ)
は前記第3図(イ)〜(ニ)に示す如き波形のクロック
パルスで制御される場合における(1)、 (IT)
、 (Iff)の各位置でのボテンヤル図を示してい
る。Figures 3 (a), (b), (c), and (d) show clock pulse waveform diagrams during charge accumulation, and Figure 4 (a)
Figures 4 (b), (c), (d) are schematic diagrams of gate electrodes.
(1), (IT) when controlled by clock pulses with waveforms as shown in FIGS. 3 (a) to (d) above.
, (Iff) at each position.
電荷蓄積期間の当初は第3図(イ)に示す如くクロック
パルス電圧φ1はハイレベルに、他のクロックパルス電
圧φ2.φ3.φ4はローレベルに設定する。これによ
って第4図(ロ)に示す如く第1ゲート電極G1と対向
する位置には深いポテンシャル井戸W1を形成し、第2
.第4ゲート電極G 2 + 04と対向する位置のポ
テンシャルは低く、第3ゲート電極G3と対向する位置
のポテンシャルは更に低く設定維持する。これによって
第6図(ロ)に示す従来より広い第4図(ロ)中にte
lで示す範囲から電荷を蓄積しポテンシャル井戸W1内
に蓄積する。このとき入射光強度が大きい場合にあって
は、ポテンシャル井戸内の電荷レベルは、オーバーフロ
ーレベル(C1で示す位置に達しており、ブルーミング
が抑制された状態となっている。At the beginning of the charge accumulation period, as shown in FIG. 3(a), the clock pulse voltage φ1 is at a high level, and the other clock pulse voltages φ2 . φ3. φ4 is set to low level. As a result, a deep potential well W1 is formed at a position facing the first gate electrode G1, as shown in FIG.
.. The potential at the position facing the fourth gate electrode G 2 + 04 is low, and the potential at the position facing the third gate electrode G3 is set and maintained even lower. As a result, there is a te area in Fig. 4 (b) which is wider than the conventional one shown in Fig. 6 (b).
Charges are accumulated from the range indicated by l and are accumulated in the potential well W1. At this time, when the intensity of the incident light is high, the charge level within the potential well has reached an overflow level (a position indicated by C1), and blooming is suppressed.
このような状態をt。からtlまでの間維持した後、次
に第3ゲート電極G3のクロックパルス電圧φ3をハイ
レベルにする。これによって第4図(ハ)に示す如く、
第3ゲート電極G3と対向する位置にも第1ゲート電極
G1と対向する位置におけると同様のポテンシャル井戸
W3が形成され、ここにも電荷が遅れて蓄積されはじめ
ることとなる。ただこのポテンシャル井戸W3へ蓄積さ
れる電荷は蓄、積時間が短いために未だオーバーフロー
レベル(C1には達していない状態となっている。This state is called t. After maintaining the voltage for a period from to tl, the clock pulse voltage φ3 of the third gate electrode G3 is then set to a high level. As a result, as shown in Figure 4 (c),
A potential well W3 similar to that at the position facing the first gate electrode G1 is formed at a position facing the third gate electrode G3, and charges begin to be accumulated here as well with a delay. However, since the charge accumulated in this potential well W3 has a short accumulation time, it has not yet reached the overflow level (C1).
上記の状態をtlからt2までの間、維持した後第2ゲ
ート電極G2のクロックパルス電圧φ2をハイレベルに
する。これによって第4図(ニ)に示す如く第2ゲート
電極G2と対向する位置に前述した両ポテンシャル井戸
よりも深いポテンシャル井戸W2が形成仝れ、蓄積され
た電荷は全てこのポテンシャル井戸W2内に混合蓄積さ
れ、即ち2画素混合され、この状態で転送チャネルに沿
って図示しない蓄積部へ転送されてゆくこととな前記し
た第4図(ハ)に示すポテンシャル図において、混合さ
れるべき一方の画素における第1ゲート電極G1と対向
する位置に形成されているポテンシャル井戸Wlに蓄積
された電荷はオーバーフロー状態となっており、この画
素についその光照度と出力との関係は第3図に示すpo
p、P2の状態にある。After maintaining the above state from tl to t2, the clock pulse voltage φ2 of the second gate electrode G2 is set to high level. As a result, as shown in FIG. 4(d), a potential well W2 deeper than both potential wells described above is formed at a position facing the second gate electrode G2, and all the accumulated charges are mixed in this potential well W2. In the potential diagram shown in FIG. 4(c), one pixel to be mixed is The charges accumulated in the potential well Wl formed at the position facing the first gate electrode G1 in the pixel are in an overflow state, and the relationship between the light illuminance and the output for this pixel is shown in FIG.
p, in the state of P2.
一方第3ゲート電極G3と対向する位置に形成されてい
るポテンシャル井戸W3に蓄積された電荷は未だオーバ
ーフローレベルには達しておらず、この画素についての
光照度と出力との関係は第1図に示すpop、p2の状
態にある。On the other hand, the charges accumulated in the potential well W3 formed at a position facing the third gate electrode G3 have not yet reached the overflow level, and the relationship between the light illuminance and the output for this pixel is shown in FIG. It is in the pop, p2 state.
従って再出力電荷量であるポテンシャル井戸から集めた
電荷を蓄積しているポテンシャルW2における光照度と
出力との関係は第1図のP、P6P8P4の如き関係と
なり、飽和光照度がPsからPsまで大きくなりグイナ
ミノクレンジが格段に拡大されることが解る。Therefore, the relationship between the light illuminance and the output at the potential W2, which stores the charges collected from the potential well, which is the re-output charge amount, is as shown in P, P6P8P4 in Fig. 1, and the saturated light illuminance increases from Ps to Ps. It is clear that Namino Cleanse will be greatly expanded.
なおポテンシャル井戸W3への電荷蓄積時間は、少すく
ともここの電荷レベルがオーツー−フローレベルに達し
ないように定めるのが望ましいが、必ずしも全てのボテ
ンンヤル井戸W3の電荷レベルをオーバーフローレベル
以下に設定しなくても良い。Although it is desirable to set the charge accumulation time in the potential well W3 so that the charge level here does not reach at least the overflow level, it is not necessary to set the charge level of all potential wells W3 below the overflow level. It's okay.
上記ポテンシャル井戸W3への電荷蓄積時間は第2図に
示す時間t1〜t2の期間を調節することによって変更
でき、この期間をlta節した場合の光照度と出力との
関係を示したのが第5図である。The charge accumulation time in the potential well W3 can be changed by adjusting the period from time t1 to t2 shown in FIG. It is a diagram.
第5図は横軸に光照度を縦軸に出力をとって示しており
、t、〜t2の期間を小にすればグラフ中a、b、cの
如く変化し、低光照度域では、その傾斜が大きく、換言
すれば低照度での光感度が大きく、しかも高照度域では
傾斜が緩く、換言すれば飽和光照度が大きくコントラス
I・を明瞭に表現し得ることとなる。Figure 5 shows the light illuminance on the horizontal axis and the output on the vertical axis.If the period from t to t2 is made small, the graph changes as indicated by a, b, and c, and in the low light illuminance region, the slope In other words, the light sensitivity at low illuminance is large, and the slope is gentle in the high illuminance region, in other words, the saturated light illuminance is large, and the contrast I can be clearly expressed.
なお」二述の説明はいずれもクロスゲート構造であって
フレームトランスファ方式のCCD固体撮像素子につい
て説明したが、これに限らすインターライン方式のCC
1′l固体撮像素子にも適用し得ることは勿論である。Note that the above two explanations have been made regarding CCD solid-state imaging devices that have a cross-gate structure and use a frame transfer method, but are not limited to this.
Of course, the present invention can also be applied to a 1'l solid-state image sensor.
以上の如く本発明素子にあっては、相隣する画素の電荷
を蓄積する時間を異なることとしたから、飽和する光照
度を大きくし、グイナミンクレンジを拡大することが出
来て、高照度の被写体に対しても十分なコントラストが
得られ、また電荷の蓄積時間も単にクロックの長さのみ
で調節することが出来て制御が簡単となり、動作も安定
するなど、本発明は優れた効果を奏するものである。As described above, in the device of the present invention, since the time for accumulating charges of adjacent pixels is different, it is possible to increase the saturated light illuminance and expand the Guinamin range, which allows for high illumination. The present invention has excellent effects, such as obtaining sufficient contrast for the subject, and being able to adjust the charge accumulation time simply by changing the length of the clock, simplifying control and stabilizing the operation. It is something.
第1図は本発明素子の光電変換特性図、第2図は本発明
素子の撮像部を示す模式的平面図、第3図は本発明素子
の撮像部のクロック波形図、第4図は同じく電荷の蓄積
態様を示すポテンシャル図、第5図は本発明素子におけ
る光電変換特性図、第6図は従来素子における光電変換
特性図、第7図は従来素子のクロック波形図である。
10・・・基板 11・・・チャネルストッパ 12・
・・オーバーフロードレイン 13・・・下層ゲート電
極 14・・・上】 2
層ゲート電極 G I、 G2 、 G 3 、G 4
・・・ゲート電極 φ1.φ2.φ3.φ4・・・ク
ロックパルス電圧
特 許 出願人 三洋電機株式会社
代理人 弁理士 河 野 登 夫
\ 〜 へ◆ 0
558各 −
(く
手 続 補 正 書 (自発)昭和60年9
月 9日
国Fig. 1 is a photoelectric conversion characteristic diagram of the device of the present invention, Fig. 2 is a schematic plan view showing the imaging section of the device of the invention, Fig. 3 is a clock waveform diagram of the imaging section of the device of the invention, and Fig. 4 is the same. FIG. 5 is a potential diagram showing the manner of charge accumulation, FIG. 5 is a photoelectric conversion characteristic diagram of the device of the present invention, FIG. 6 is a photoelectric conversion characteristic diagram of the conventional device, and FIG. 7 is a clock waveform diagram of the conventional device. 10... Substrate 11... Channel stopper 12.
...Overflow drain 13...Lower layer gate electrode 14...Upper] 2 layer gate electrode GI, G2, G3, G4
...Gate electrode φ1. φ2. φ3. φ4... Clock pulse voltage patent Applicant Sanyo Electric Co., Ltd. Agent Patent Attorney Noboru Kono
month 9th country
Claims (1)
た固体撮像素子において、電荷を混合すべき二画素の少
なくとも一方の電荷量がオーバーフローレベルに達しな
いよう夫々の電荷の蓄積時間を異ならしめたことを特徴
とする固体撮像素子。1. In a solid-state image sensor that mixes and outputs the charges of two adjacent pixels, the accumulation time of each charge is different so that the amount of charge of at least one of the two pixels whose charges are to be mixed does not reach an overflow level. A solid-state image sensor characterized by a solid state.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60031899A JPS61191177A (en) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | Solid-state image pickup element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60031899A JPS61191177A (en) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | Solid-state image pickup element |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61191177A true JPS61191177A (en) | 1986-08-25 |
Family
ID=12343854
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60031899A Pending JPS61191177A (en) | 1985-02-19 | 1985-02-19 | Solid-state image pickup element |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61191177A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992009000A1 (en) * | 1990-11-09 | 1992-05-29 | Olympus Optical Co., Ltd. | Device for sensing in-focus position |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1985
- 1985-02-19 JP JP60031899A patent/JPS61191177A/en active Pending
Patent Citations (4)
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WO1992009000A1 (en) * | 1990-11-09 | 1992-05-29 | Olympus Optical Co., Ltd. | Device for sensing in-focus position |
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