JPS61187258A - 半導体集積回路チツプ - Google Patents

半導体集積回路チツプ

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JPS61187258A
JPS61187258A JP60026814A JP2681485A JPS61187258A JP S61187258 A JPS61187258 A JP S61187258A JP 60026814 A JP60026814 A JP 60026814A JP 2681485 A JP2681485 A JP 2681485A JP S61187258 A JPS61187258 A JP S61187258A
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JP
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chip
wiring
stress
integrated circuit
semiconductor integrated
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Application number
JP60026814A
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Inventor
Kouji Harada
原田 昿嗣
Masanori Tosa
土佐 雅宣
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体集積回路(以下、ICと呼称する)チッ
プに係シ、特にそのチップの断面構造に関するものであ
る。
〔従来の技術〕
ICチップを収容する容器(以下、パッケージと呼称す
る)は低価格化の観点からセラメックパッケージに代し
、エポキシ樹脂を主材料とする、いわゆる、プラスチッ
クパッケージが多用されている。
一方、ICの目標とする高集積化を実現するために、パ
ターンサイズは微細化される一方でチップサイズは増加
する傾向にある。
このような状況を反映して、従来に見られなかったよう
な不良モード、すなわち、プラスチック材の収縮による
応力によシ、ICチップの内部配線パターンが変形し、
甚しい場合においては断線不良が発生することが判って
きた。
この態様を第3図、第4図、第5図および第6図を用い
て更に詳しく説明する。
第3図は従来のICチップをプラスチックパッケージに
収納した場合の断面図で、1はダイパッドと呼称される
ICチップ4を載せるための台で、この台1は半田3で
ICチップ4を固定している。
そして、ICチップ4の内部配線はA/配線5a+5b
で行われておシ、外部への取シ出しはボンディングバッ
トと呼称される部分7at7bとリード端子2a12b
をAu配線sa*abで接続することにより行われる。
なお、ICチップ4の表面は酸化膜あるいは窒化膜のよ
うな保護膜6で覆われている。
そして、リード端子2a12bの一部を除き、全体をエ
ポキシ樹脂9で覆うように構成されている。
そして、エポキシ樹肥9の硬化は、通常、体積収縮を伴
なうので、ICチップ4には大きな圧縮応力が加わる。
ICチップ4の上面から見た場合の応力は、M配線5a
、5bの変形が生じることの説明図である第4図の(a
)の10(応力)で示した方向に加わる。
そして、チップサイズが大きくなるほどその応力10は
大きくなシ、また、同一チップ内部でも長辺方向、ある
いは対角線上に最も大きな応力10が加わる。
一方、この応力10を受けるAl配線5a+5bはパタ
ーンが微細化されるにしたかい下地との密着面積は減少
し、対抗力は低下する。
したがって、大きいチップサイズで微細なパターンを有
するICにおいては、Al配線5a、5bのパターンは
エポキシ樹脂の硬化後、第4図の(b)に示すような変
形をきたす。そして、この変形が極端に進行すると、配
線の断線を招き、ICは電気的に動作しなくなる。
上記のような現象は、エポキシ樹脂硬化後、ICに温度
変化が加わる場合更に加速される。すなわち、エポキシ
樹脂の熱膨張係数(通常、〜5×10/’C)とICチ
ップの熱膨張係数(Siの場合、〜5x1o/℃)の差
に起因して発生する応力によってもAl配線5a#5b
の断縁が生ずる。
さて、ICチップ4の周辺断面は、Al配線の゛  変
形が生じることの説明図である第5図に示すようになっ
ており、チップ主面とチップ側面11とはチップ端12
において、通常、90°に近い角度で接している。
これは、ICチップ4を8iウエーハから分割する場合
、従来法によるSiウェーハの分割法の′  説明図で
ある第6図に示すようなダイアモンドホイール14で切
シ溝をつけた後分割することに起因している。なお、こ
の第6図において、13はSiウェーハを示し、矢印は
ダイアモンドホイール140回転方向を示す。
このような鋭い角度をもつ構造体の場合、その周辺に非
常に大きな応力が集中して発生することは古くから知ら
れていることで、例えば、(機械工学便覧(1968年
4月発行)、日本機械学会発行、4〜10頁)などの文
献にも述べられている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記のような従来のICチップでは、応力集中部分の角
度が鋭角になり、応力受容部分の面積が小さくなるほど
、集中応力は大きくなり、Al配線パターンの変形は、
微細パターンでチップサイズが大きいと発生しやすくな
るが、チップ端の形状によっても加速され、Al配線に
変形を生ずるという問題点があった。
本発明は上記のような問題点を解決するためなされたも
ので、Al配線の変形不良を改良することができる半導
体集積回路チップを得ることを目的とする。
〔問題点を解決するだめの手段〕
本発明による半導体集積回路チップは、そのチップの周
辺断面において、チップ主面に隣接する断面部分に面取
りを有する構造からなるようにしたものである。
〔作用〕
チップ端の形状を174円周状もしくはチップ端の角度
を90°以上の断面形状とし、チップ周辺部における応
力集中を分散することによル、この近傍に位置するAl
配線への応力を緩和する。
〔実施例〕
以下、図面に基づき本発明の実施例を詳細に説明する。
第1図は本発明によるICチップの実施例を示す構成図
で、(a)はチップ端の形状を1/4円周状にした場合
を示し、(b)はチップ端の角度を90以上にした場合
を示す。
この第1図(a)、Φ)において第5図と同一符号のも
のは相当部分を示し、第1図(a)における15aはそ
の形状を1/4円周状にしたチップ端であシ、このよう
にチップ端15aの形状を1/4円周状になし、チップ
周辺部における応力集中を分散させることにより、この
近傍に位置するAA配線5への応力を緩和することがで
きる。
また、第1図(b)も第1図(a)と同様であり、チツ
ブ端15bの角度を第1図Φ)に示すように、90°以
上(この場合は135°)にすることにより、応力集中
を緩和している。この第1図Φ)において、(イ)。
(ロ)はそれぞれ135°の角度を示す。
このように、チップ主面に隣接する断面部分に、面取υ
を有する構造の断面形状を得るには、いくつかの方法が
考えられるが、例えば、第」図(a)に示す形状に対し
ては、その構造を得るための一方法の説明図である第2
図の(a)に示すようなダイヤモンドホイール16aで
、また、第4図の)に示す形状に対しては、第2図の(
b)に示すようなダイヤモンドホイール16bで、それ
ぞれSiウェーハに切り溝を入れてチップを分割するこ
とにより実現することができる。
なお、以上の説明においては、SiのICのチップにつ
いて述べたが、本発明はこれに限定されるものではなく
、他の半導体ICでも同様に適用することができ、また
、配線材料もAlに限定されないことは勿論である。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、複雑な手段を用
いることなく、チップ周辺の形状を面取シして応力の集
中を緩和する簡単な構成によって、ICチップ周辺にお
けるエポキシ樹脂による応力集中を緩和することができ
、配線材料の変形を防止することができるので、実用上
の効果は極めて大である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による半導体集積回路チップの実施例を
示す構成図、第2図は第1図に示す実施例の構造を得る
だめの方法の説明図、第3図は従来の半導体集積回路チ
ップをプラスチックパッケージに収納した場合の断面図
、第4図および第5図はAI!配線の変形が生じること
の説明図、第6図は従来法による8iウエーハの分割法
の説明図である。 411#参〇ICチツプ、5・#赤−Al配線、11@
111111チツプ端、15a、15b* @ a m
チップ端。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  半導体集積回路チップの周辺断面において、チップ主
    面に隣接する断面部分に、面取りを有する構造からなる
    ことを特徴とする半導体集積回路チップ。
JP60026814A 1985-02-14 1985-02-14 半導体集積回路チツプ Pending JPS61187258A (ja)

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JP60026814A JPS61187258A (ja) 1985-02-14 1985-02-14 半導体集積回路チツプ

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JP60026814A JPS61187258A (ja) 1985-02-14 1985-02-14 半導体集積回路チツプ

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JPS61187258A true JPS61187258A (ja) 1986-08-20

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ID=12203751

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JP60026814A Pending JPS61187258A (ja) 1985-02-14 1985-02-14 半導体集積回路チツプ

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JP (1) JPS61187258A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005101673A (ja) * 2005-01-11 2005-04-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置
JP2010034278A (ja) * 2008-07-29 2010-02-12 Rohm Co Ltd 半導体装置

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005101673A (ja) * 2005-01-11 2005-04-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置
JP2010034278A (ja) * 2008-07-29 2010-02-12 Rohm Co Ltd 半導体装置

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