JPS6117863B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6117863B2 JPS6117863B2 JP58081360A JP8136083A JPS6117863B2 JP S6117863 B2 JPS6117863 B2 JP S6117863B2 JP 58081360 A JP58081360 A JP 58081360A JP 8136083 A JP8136083 A JP 8136083A JP S6117863 B2 JPS6117863 B2 JP S6117863B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- groups
- siloxane
- composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 36
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 35
- -1 siloxane unit Chemical group 0.000 claims description 29
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 19
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 claims description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 3
- 208000017983 photosensitivity disease Diseases 0.000 claims 1
- 231100000434 photosensitization Toxicity 0.000 claims 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 claims 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 17
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 10
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 description 8
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 7
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 6
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002655 kraft paper Substances 0.000 description 2
- IFAYXYNVSUANMR-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-trimethylsilyloxyphenyl)methanone Chemical compound C1=CC(O[Si](C)(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 IFAYXYNVSUANMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000004447 silicone coating Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJUPTKULISHEID-UHFFFAOYSA-N (4-ethylphenyl)-phenylmethanone Chemical compound C1=CC(CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 IJUPTKULISHEID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- KYZHGEFMXZOSJN-UHFFFAOYSA-N isobutyl benzoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C1=CC=CC=C1 KYZHGEFMXZOSJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052609 olivine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010450 olivine Substances 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N propiophenone Chemical compound CCC(=O)C1=CC=CC=C1 KRIOVPPHQSLHCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000725 trifluoropropyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C(F)(F)F 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
- C08K5/5406—Silicon-containing compounds containing elements other than oxygen or nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
- C08L83/08—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
本発明は放射線硬化性オルガノポリシロキサン
組成物、特には放射線照射によつてシリコーン移
行性のない充分に硬化された塗布面を与える放射
線硬化性オルガノポリシロキサン組成物に関する
ものである。 放射線照射により硬化するオルガノポリシロキ
サン組成物については、例えばけい素原子に結合
したビニル基を有するオルガノポリシロキサンと
けい素原子に結合した水素基を有するオルガノハ
イドロジエンシロキサンとを光照射によつて付加
反応させるもの、（特開昭47−32072号公報、特公
昭53−48198号公報参照）、またけい素原子に結合
したメルカプト基を有するオルガノポリシロキサ
ンとけい素原子に結合したビニル基を有するオル
ガノポリシロキサンとを光増感剤の共存下に光照
射によつて反応させるもの（特公昭54−6512号公
報、特公昭57−34318号公報、特開昭54−48854号
公報、特開昭54−50067号公報参照）が知られて
いる。しかし、これな公知のオルガノポリシロキ
サン組成物ではこの組成物の塗布面でのシリコー
ンの移行があるため、その表面硬化が不充分なも
のになり易く、したがつてこれらは剥離紙用への
利用などに必ずしも満足すべき性質を示すもので
はなかつた。すなわち、上記したような公知のオ
ルガノシロキサン組成物を剥離紙用として使用す
る場合これらは極めて薄い塗膜として対象物に塗
布されるのであるが、これを光照射で硬化させる
ときにはその表面硬化がわるいためにその剥離性
能に経時変化が生じたり、このシリコーンがこれ
と接触している粘着剤に移行するという不利があ
つた。そのため、この種のオルガノシロキサン組
成物については硬化性を上げてこれらの欠点を除
去するという目的において、オルガノシロキサン
中の官能基の量を増したり、光増感剤の配合量を
増加するという方法が提案されているが、これら
は却つて剥離性を損なうことになつたり、あるい
は臭気発生を伴なうものにあるという不利をもた
らすもので好ましいものではなく、実用化には到
つていない。 本発明はこのような不利を解決した放射線硬化
性オルガノポリシロキサン組成物に関するもので
あり、これはＡ）一般式 （こゝにR1は２価炭化水素基、R2は水素原子
またはメチル基、R3は非置換または置換１価炭
化水素基、Ｘは酸素原子、
組成物、特には放射線照射によつてシリコーン移
行性のない充分に硬化された塗布面を与える放射
線硬化性オルガノポリシロキサン組成物に関する
ものである。 放射線照射により硬化するオルガノポリシロキ
サン組成物については、例えばけい素原子に結合
したビニル基を有するオルガノポリシロキサンと
けい素原子に結合した水素基を有するオルガノハ
イドロジエンシロキサンとを光照射によつて付加
反応させるもの、（特開昭47−32072号公報、特公
昭53−48198号公報参照）、またけい素原子に結合
したメルカプト基を有するオルガノポリシロキサ
ンとけい素原子に結合したビニル基を有するオル
ガノポリシロキサンとを光増感剤の共存下に光照
射によつて反応させるもの（特公昭54−6512号公
報、特公昭57−34318号公報、特開昭54−48854号
公報、特開昭54−50067号公報参照）が知られて
いる。しかし、これな公知のオルガノポリシロキ
サン組成物ではこの組成物の塗布面でのシリコー
ンの移行があるため、その表面硬化が不充分なも
のになり易く、したがつてこれらは剥離紙用への
利用などに必ずしも満足すべき性質を示すもので
はなかつた。すなわち、上記したような公知のオ
ルガノシロキサン組成物を剥離紙用として使用す
る場合これらは極めて薄い塗膜として対象物に塗
布されるのであるが、これを光照射で硬化させる
ときにはその表面硬化がわるいためにその剥離性
能に経時変化が生じたり、このシリコーンがこれ
と接触している粘着剤に移行するという不利があ
つた。そのため、この種のオルガノシロキサン組
成物については硬化性を上げてこれらの欠点を除
去するという目的において、オルガノシロキサン
中の官能基の量を増したり、光増感剤の配合量を
増加するという方法が提案されているが、これら
は却つて剥離性を損なうことになつたり、あるい
は臭気発生を伴なうものにあるという不利をもた
らすもので好ましいものではなく、実用化には到
つていない。 本発明はこのような不利を解決した放射線硬化
性オルガノポリシロキサン組成物に関するもので
あり、これはＡ）一般式 （こゝにR1は２価炭化水素基、R2は水素原子
またはメチル基、R3は非置換または置換１価炭
化水素基、Ｘは酸素原子、
【式】硫黄原子またはチオ化合物、ｍ
＝０〜２）で示されるシロキサン単位と、一般
式
式
【式】（こゝにR3は前記に同じ、ｎ＝
０〜３）で示されるシロキサン単位とからなり、
１分子中に上記式で示されるシロキサン単位を
少なくとも２ケ有するオルガノポリシロキサン、
B1分子中に少なくとも２ケのメルカプト基を有
する、このメルカプト基の量と上記Ａ成分中の不
飽和基との比が１：100〜100：１の範囲になる量
のメルカプト基含有オルガノシリコーン化合物と
からなることを特徴とするものである。 これを説明すると、本発明者らはけい素原子に
結合したビニル基を有するオルガノポリシロキサ
ンとけい素原子に結合したメルカプト基を有する
オルガノポリシロキサンとからなる放射線硬化性
オルガノポリシロキサン組成物の放射線硬化性の
改良について種々検討した結果、この硬化性につ
いてはビニル基含有オルガノシロキサン中におけ
るビニル基をけい素原子に直接結合させることな
く、これをけい素原子から遠く離して結合させて
けい素原子周辺への立体障害の影響を少なくする
と共に、このビニル基の２重結合の近くに電子供
与性のヘテロ原子または電子吸引性のヘテロ原子
を含む有機基を導入しておけば、このオルガノシ
ロキサンの反応性を高めることができることを見
出し、これにもとづいてさらに研究を進め、これ
によればこの組成物の塗布面での硬化性を満足す
べき硬度にまで高めることができ、シリコーンの
移行もなくすことができることを確認して本発明
を完成させた。 本発明の組成物を構成するＡ成分としてのビニ
ル基を含有するオルガノシロキサンは前記した一
般式，のシロキサン単位からなるものである
が、この で示されるシロキサン単位におけるR1はメチ
レン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン
基、フエニレン基などのような２価炭化水素基、
R2は水素原子またはメチル基、R3は炭素数１〜
30の１価炭化水素基で、これにはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、ドデ
シル基などのアルキル基、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基などのシクロアルキル基、フエニ
ル基、トリル基、ナフチル基、キシリル基などの
芳香族基、ビニル基、アリル基などのアルケニル
基、２−フエニルエチル基などのアラルキル基、
されにはこれらの基の水素原子の１部を塩素原
子、フツ素原子などで置換したクロロプロピル
基、クロロフエニル基、ジクロロプロピル基、
３，３，３−トリフルオロプロピルなどが例示さ
れる。またこのＸは酸素原子、
１分子中に上記式で示されるシロキサン単位を
少なくとも２ケ有するオルガノポリシロキサン、
B1分子中に少なくとも２ケのメルカプト基を有
する、このメルカプト基の量と上記Ａ成分中の不
飽和基との比が１：100〜100：１の範囲になる量
のメルカプト基含有オルガノシリコーン化合物と
からなることを特徴とするものである。 これを説明すると、本発明者らはけい素原子に
結合したビニル基を有するオルガノポリシロキサ
ンとけい素原子に結合したメルカプト基を有する
オルガノポリシロキサンとからなる放射線硬化性
オルガノポリシロキサン組成物の放射線硬化性の
改良について種々検討した結果、この硬化性につ
いてはビニル基含有オルガノシロキサン中におけ
るビニル基をけい素原子に直接結合させることな
く、これをけい素原子から遠く離して結合させて
けい素原子周辺への立体障害の影響を少なくする
と共に、このビニル基の２重結合の近くに電子供
与性のヘテロ原子または電子吸引性のヘテロ原子
を含む有機基を導入しておけば、このオルガノシ
ロキサンの反応性を高めることができることを見
出し、これにもとづいてさらに研究を進め、これ
によればこの組成物の塗布面での硬化性を満足す
べき硬度にまで高めることができ、シリコーンの
移行もなくすことができることを確認して本発明
を完成させた。 本発明の組成物を構成するＡ成分としてのビニ
ル基を含有するオルガノシロキサンは前記した一
般式，のシロキサン単位からなるものである
が、この で示されるシロキサン単位におけるR1はメチ
レン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン
基、フエニレン基などのような２価炭化水素基、
R2は水素原子またはメチル基、R3は炭素数１〜
30の１価炭化水素基で、これにはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、ドデ
シル基などのアルキル基、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基などのシクロアルキル基、フエニ
ル基、トリル基、ナフチル基、キシリル基などの
芳香族基、ビニル基、アリル基などのアルケニル
基、２−フエニルエチル基などのアラルキル基、
されにはこれらの基の水素原子の１部を塩素原
子、フツ素原子などで置換したクロロプロピル
基、クロロフエニル基、ジクロロプロピル基、
３，３，３−トリフルオロプロピルなどが例示さ
れる。またこのＸは酸素原子、
【式】硫黄原子またはチオ化合物を示
すものであるが、このヘテロ原子としての硫黄は
−Ｏ−（CH2）−2S−、−CH2−Ｏ−CH2−Ｓ−のよ
うなエーテル結合、チオエーテル結合またはエス
テル結合であつてもよい。この式で示されるシ
ロキサン単位については次式、 （式中のViはビニル基、Meはメチル基を示
す、以下同じ）が例示され、また、この式
−Ｏ−（CH2）−2S−、−CH2−Ｏ−CH2−Ｓ−のよ
うなエーテル結合、チオエーテル結合またはエス
テル結合であつてもよい。この式で示されるシ
ロキサン単位については次式、 （式中のViはビニル基、Meはメチル基を示
す、以下同じ）が例示され、また、この式
【式】で示されるシロキサン単位にお
けるR3は前記したとおりのものであればよく、
これはそのｎ＝０のときにはビニル基であつても
よいが、このｎが１〜２のときはビニル基であつ
てはならず、これらについては次式で示されるも
のが好ましいものとされる。 Me2SiO，MeSiO3/2，PhMeSiO，
PhSiO3/2，Ph2SiO，
これはそのｎ＝０のときにはビニル基であつても
よいが、このｎが１〜２のときはビニル基であつ
てはならず、これらについては次式で示されるも
のが好ましいものとされる。 Me2SiO，MeSiO3/2，PhMeSiO，
PhSiO3/2，Ph2SiO，
【式】
（式中のPhはフエニル基を示す）。
なお、このＡ成分としてのオルガノポリシロキ
サンは式で示されるシロキサン単位を0.1〜100
％、式で示されるシロキサン単位を０〜99.9％
含むものとすればよく、これは25℃で測定した粘
度が1000〜60000000cSの範囲のものとすること
がよい。 他方、本発明の組成物を構成するＢ成分として
のメルカプト基含有オルガノシリコーン化合物は
その分子中に少なくとも２ケのメルカプト基を含
有するものであればオルガノシラン、オルガノシ
ロキサンのいずれであつてもよいし、その分子構
造およびメルカプト基の結合位置に特に制限はな
く、これはまた線状構造体、分枝状構造体のいず
れであつてもよい。また、このものの分子鎖末端
はトリメチルシリル基のようなトリオルガノシリ
ル基、ヒドロキシジオルガノシリル基、メルカプ
トプロピルメチル基のようなメルカプトジオルガ
ノシリル基などのいずれであつてもよいが、この
メルカプト基は例えばSH（CH2）aSi≡（ａは１
〜３）、
サンは式で示されるシロキサン単位を0.1〜100
％、式で示されるシロキサン単位を０〜99.9％
含むものとすればよく、これは25℃で測定した粘
度が1000〜60000000cSの範囲のものとすること
がよい。 他方、本発明の組成物を構成するＢ成分として
のメルカプト基含有オルガノシリコーン化合物は
その分子中に少なくとも２ケのメルカプト基を含
有するものであればオルガノシラン、オルガノシ
ロキサンのいずれであつてもよいし、その分子構
造およびメルカプト基の結合位置に特に制限はな
く、これはまた線状構造体、分枝状構造体のいず
れであつてもよい。また、このものの分子鎖末端
はトリメチルシリル基のようなトリオルガノシリ
ル基、ヒドロキシジオルガノシリル基、メルカプ
トプロピルメチル基のようなメルカプトジオルガ
ノシリル基などのいずれであつてもよいが、この
メルカプト基は例えばSH（CH2）aSi≡（ａは１
〜３）、
【式】のような形でけい素原
子に結合していることが好ましい。また、このオ
ルガノシリコーン化合物中のけい素原子に結合す
るメルカプト基以外の有機基としてはメチル基、
エチル基、プロピル基、フエニル基、トリフルオ
ロプロピル基などが例示されるが、これらの有機
基を含むけい基原子とメルカプト基と結合したけ
い素原子の配列順序などに特に制限はない。この
メルカプト基を有するオルガノシリコーン化合物
は本発明の組成物が無溶剤で塗布されることもあ
るので、これは25℃における粘度が10000cS以下
のものとすることがよいが、これは特に制限的な
ものではない。 本発明の組成物は上記したＡ成分とＢ成分との
配合よつて得られるが、これらの配合比はこのＢ
成分の配合量をＡ成分中のビニル基に対しＢ成分
中のメルカプト基が１：100〜100：１モルの範囲
となるようにすればよく、これは好ましくはＡ成
分中のビニル基とＢ成分中のメルカプト基がCH2
＝CH／SH＝２／１〜１／２の範囲となるように
すればよい。 本発明の組成物はこれを構成するビニル基含有
オルガノポリシロキサンが上記した式で示され
るシロキサン単位を含むものであることから、こ
れに紫外線、電子線などの放射線を照射するとこ
のビニル基とメルカプト基との反応によつて硬化
し、その塗膜面はシリコーンの移行もなく十分に
硬化するので、これは剥離剤などとして有用とさ
れるが、これにはその硬化反応を促進させるため
の増感剤を添加してもよい。この増感剤は公知の
ものでよく、これにはアセトフエノン、プロピオ
フエノン、ｐ−エチルベンゾフエノン、ｐ−トリ
メチルシロキシベンゾフエノン、ｐ−トリメチル
シロキシベンゾフエノンのようなベンゾフエノン
類、キサントーン、フルオレノン、ベンズアルデ
ヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフエニ
ルアミン、カルバゾール、ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイ
ソブチルエーテル、アゾビスイソブチロニトリル
などのような芳香族ケトン、アゾ化合物などが例
示されるが、これらの添加量は前記した本発明の
組成物を光増感されるのに充分な量とすればよ
く、これは通常の組成物に対し0.01〜20重量％、
好ましくは0.1〜５重量％とすればよい。 なお、本発明の組成物は必要に応じて酸化防止
剤などの安定剤や着色剤、充填剤を添加してもよ
く、これはまた溶剤で稀釈して低粘度化してもよ
い。また、この組成物は木材、紙、プラスチツク
フイルム、金属箔などの基体にこれを適当な方法
で塗布したのち、放射線照射をすればそれが十分
な硬度をもつ硬化膜とされ、この硬化膜は離型
性、撥水性、絶縁性、耐候性をもつているので、
これは剥離剤を始めとする各種の用途に有用とさ
れる。 つぎに本発明の実施例をあげるが、例中におけ
るMeはメチル基、Phはフエニル基、Viはビニル
基を、また粘度は25℃における測定値を、部は重
量部を示したものであり、例中における剥離力、
残留接着率およびシリコーン移行性は下記の方法
による測定結果を示したものである。 （剥離力＝ｇ／５cm） 硬化されたシリコーン塗膜上に、接着剤オリバ
インBPS−5127（東洋インキ社製、商品名）を
30g／m2で塗工し、100℃で３分間乾燥して得た
ものを表面紙にはり合わせ、２Kgのローラーで１
往復圧着し、25℃で20時間放置後、180度で引離
したときの剥離力（ｇ／５cm）で示した。 （残留接着率％） ニツトポリエステルテープ31B（日東電気工業
社製、商品名）をシロキサン硬化膜にはり合わせ
て２Kgのローラーで１往復圧着後、70℃で20g／
cm2の荷重をかけて20時間エージングした後、この
テープを剥離してステンレス板（＃280）にはり
つけ、そのときの接着力をテフロン板に同じよう
にはり合わせた上記31Bテープの結果と比較して
百分率で示した。 （シリコーン移行性） 硬化されたシリコーン塗膜上に厚さ20μのポリ
エステルフイルムを20g／cm2の力で70℃、24時間
圧着したのち、これを引きはなし、そのポリエス
テルフイルム面の油性マジツクインキのはじき度
でシリコーンの移行性を判定した。 〇…ほとんどはじかない。 △…かなりのはじきが見られる。 ×…全体にはじきが見られる。 実施例 １ Ａ 94モル％のMe2SiO単位、３モル％のPh2SiO
単位および３モル％の 単位からなる、末端がビニルジメチルシロキ
サン基で封鎖された粘度約3000cpsのオルガノ
ポリシロキサン100部、 Ｂ
ルガノシリコーン化合物中のけい素原子に結合す
るメルカプト基以外の有機基としてはメチル基、
エチル基、プロピル基、フエニル基、トリフルオ
ロプロピル基などが例示されるが、これらの有機
基を含むけい基原子とメルカプト基と結合したけ
い素原子の配列順序などに特に制限はない。この
メルカプト基を有するオルガノシリコーン化合物
は本発明の組成物が無溶剤で塗布されることもあ
るので、これは25℃における粘度が10000cS以下
のものとすることがよいが、これは特に制限的な
ものではない。 本発明の組成物は上記したＡ成分とＢ成分との
配合よつて得られるが、これらの配合比はこのＢ
成分の配合量をＡ成分中のビニル基に対しＢ成分
中のメルカプト基が１：100〜100：１モルの範囲
となるようにすればよく、これは好ましくはＡ成
分中のビニル基とＢ成分中のメルカプト基がCH2
＝CH／SH＝２／１〜１／２の範囲となるように
すればよい。 本発明の組成物はこれを構成するビニル基含有
オルガノポリシロキサンが上記した式で示され
るシロキサン単位を含むものであることから、こ
れに紫外線、電子線などの放射線を照射するとこ
のビニル基とメルカプト基との反応によつて硬化
し、その塗膜面はシリコーンの移行もなく十分に
硬化するので、これは剥離剤などとして有用とさ
れるが、これにはその硬化反応を促進させるため
の増感剤を添加してもよい。この増感剤は公知の
ものでよく、これにはアセトフエノン、プロピオ
フエノン、ｐ−エチルベンゾフエノン、ｐ−トリ
メチルシロキシベンゾフエノン、ｐ−トリメチル
シロキシベンゾフエノンのようなベンゾフエノン
類、キサントーン、フルオレノン、ベンズアルデ
ヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフエニ
ルアミン、カルバゾール、ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイ
ソブチルエーテル、アゾビスイソブチロニトリル
などのような芳香族ケトン、アゾ化合物などが例
示されるが、これらの添加量は前記した本発明の
組成物を光増感されるのに充分な量とすればよ
く、これは通常の組成物に対し0.01〜20重量％、
好ましくは0.1〜５重量％とすればよい。 なお、本発明の組成物は必要に応じて酸化防止
剤などの安定剤や着色剤、充填剤を添加してもよ
く、これはまた溶剤で稀釈して低粘度化してもよ
い。また、この組成物は木材、紙、プラスチツク
フイルム、金属箔などの基体にこれを適当な方法
で塗布したのち、放射線照射をすればそれが十分
な硬度をもつ硬化膜とされ、この硬化膜は離型
性、撥水性、絶縁性、耐候性をもつているので、
これは剥離剤を始めとする各種の用途に有用とさ
れる。 つぎに本発明の実施例をあげるが、例中におけ
るMeはメチル基、Phはフエニル基、Viはビニル
基を、また粘度は25℃における測定値を、部は重
量部を示したものであり、例中における剥離力、
残留接着率およびシリコーン移行性は下記の方法
による測定結果を示したものである。 （剥離力＝ｇ／５cm） 硬化されたシリコーン塗膜上に、接着剤オリバ
インBPS−5127（東洋インキ社製、商品名）を
30g／m2で塗工し、100℃で３分間乾燥して得た
ものを表面紙にはり合わせ、２Kgのローラーで１
往復圧着し、25℃で20時間放置後、180度で引離
したときの剥離力（ｇ／５cm）で示した。 （残留接着率％） ニツトポリエステルテープ31B（日東電気工業
社製、商品名）をシロキサン硬化膜にはり合わせ
て２Kgのローラーで１往復圧着後、70℃で20g／
cm2の荷重をかけて20時間エージングした後、この
テープを剥離してステンレス板（＃280）にはり
つけ、そのときの接着力をテフロン板に同じよう
にはり合わせた上記31Bテープの結果と比較して
百分率で示した。 （シリコーン移行性） 硬化されたシリコーン塗膜上に厚さ20μのポリ
エステルフイルムを20g／cm2の力で70℃、24時間
圧着したのち、これを引きはなし、そのポリエス
テルフイルム面の油性マジツクインキのはじき度
でシリコーンの移行性を判定した。 〇…ほとんどはじかない。 △…かなりのはじきが見られる。 ×…全体にはじきが見られる。 実施例 １ Ａ 94モル％のMe2SiO単位、３モル％のPh2SiO
単位および３モル％の 単位からなる、末端がビニルジメチルシロキ
サン基で封鎖された粘度約3000cpsのオルガノ
ポリシロキサン100部、 Ｂ
【式】単位からなる粘度約
30cpsのメルカプト基含有シロキサン10部
および
Ｃ 感光剤としてのベンゾイルイソブチルエーテ
ル５部 を混合して組成物を作り、これをポリエチレン
ラミネート紙にこれが薄いフイルム状となるよう
に1.5g／m2の塗布量で塗工したのち、これに高圧
水銀灯（160W／cm）からの紫外線を１秒間照射
したところ、この塗膜は硬化したので、これにつ
いてその物性をしらべたところ、これは剥離力
150g／５cm、残留接着率87％、シリコーン移行
性は〇であつた。 また、比較のため上記Ａ成分の
ル５部 を混合して組成物を作り、これをポリエチレン
ラミネート紙にこれが薄いフイルム状となるよう
に1.5g／m2の塗布量で塗工したのち、これに高圧
水銀灯（160W／cm）からの紫外線を１秒間照射
したところ、この塗膜は硬化したので、これにつ
いてその物性をしらべたところ、これは剥離力
150g／５cm、残留接着率87％、シリコーン移行
性は〇であつた。 また、比較のため上記Ａ成分の
【式】単位の代わりに、
従来公知の
【式】単位としたオルガノポリ
シロキサンをＡ成分とした以外はこれと同じよう
にして得た組成物（比較例１）について同様に処
理し、その物性をしらべたところ、これは剥離力
が140g／５cm、残留接着率70％を示し、そのシ
リコーン移行性は△〜×であつた。 実施例 ２ 92モル％のMe2SiO単位、３モル％のPh2SiO単
位および５モル％の
にして得た組成物（比較例１）について同様に処
理し、その物性をしらべたところ、これは剥離力
が140g／５cm、残留接着率70％を示し、そのシ
リコーン移行性は△〜×であつた。 実施例 ２ 92モル％のMe2SiO単位、３モル％のPh2SiO単
位および５モル％の
【式】単位とからなる、
末端がビニルジメチルシロキサン基で封鎖された
粘度約5000cpsのシロキサン100部に実施例１で
使用したＢ，Ｃ成分を配合して組成物を作り、こ
れをポリエチレンラミネート紙に実施例１と同様
に塗工し、紫外線照射で硬化させ、その硬化膜に
ついての物性テストを行なうと共に、この
粘度約5000cpsのシロキサン100部に実施例１で
使用したＢ，Ｃ成分を配合して組成物を作り、こ
れをポリエチレンラミネート紙に実施例１と同様
に塗工し、紫外線照射で硬化させ、その硬化膜に
ついての物性テストを行なうと共に、この
【式】単位を
【式】単位としたものについての比較用組
成物（比較例２）についても同様のテストを行な
つたところ、後記第１表に示すとおりの結果が得
られた。 実施例 ３ 95モル％のMe2SiO単位と５モル％の
つたところ、後記第１表に示すとおりの結果が得
られた。 実施例 ３ 95モル％のMe2SiO単位と５モル％の
【式】単位とからなる、末
端がビニルジメチルシロキシ基で封鎖された粘度
3000cpsのシロキサン100部に（Ａ成分）、実施例
１で使用したＢ成分およびＣ成分を同量添加して
組成物を作り、これをポリエチレンラミネート紙
に実施例１と同様に塗布し、同様に処理して紫外
線照射により硬化させた硬化膜についてその物性
をしらべると共に、このＡ成分中の
3000cpsのシロキサン100部に（Ａ成分）、実施例
１で使用したＢ成分およびＣ成分を同量添加して
組成物を作り、これをポリエチレンラミネート紙
に実施例１と同様に塗布し、同様に処理して紫外
線照射により硬化させた硬化膜についてその物性
をしらべると共に、このＡ成分中の
【式】単位を
【式】
単位としたものを同様に処理して得た組成物（比
較例３）について同様に操作して得た硬化膜の物
性をしらべたとこの、次記の第１表に示すとおり
の結果が得られた。
較例３）について同様に操作して得た硬化膜の物
性をしらべたとこの、次記の第１表に示すとおり
の結果が得られた。
【表】
実施例 ４
実施例１で使用したＡ成分をその末端が
【式】基で封鎖された粘
度が3000cpsのシロキサンとし、これに実施例１
で使用したＢ，Ｃ成分を同量添加して組成物を作
り、これをポリエチレンラミネート紙に1.5g／m2
の量で塗布し、これに高圧水銀灯（160W／cm）
を用いて紫外線１秒間照射したところ、これは完
全に硬化し、これについてのシリコーン移行性を
しらべたところ、これは油性マジツクインキをほ
とんどはじかないもので、シリコーンの移行のな
いものであつた。 実施例 ５ 実施例１で使倫したＡ成分をその末端がトリメ
チルシロキシ基で封鎖された粘度3000cpsのシロ
キサンとしたほかは、上記実施例４と同様に処理
して得た塗膜についてそのシリコーン移行性をし
らべたところ、これも油性マジツクインキを殆ん
どはじかないものであり、これにはシリコーンの
移行がなかつた。 実施例 ６ 94モル％のMe2SiO単位、３モル％のPh2SiO単
位および３モル％の
で使用したＢ，Ｃ成分を同量添加して組成物を作
り、これをポリエチレンラミネート紙に1.5g／m2
の量で塗布し、これに高圧水銀灯（160W／cm）
を用いて紫外線１秒間照射したところ、これは完
全に硬化し、これについてのシリコーン移行性を
しらべたところ、これは油性マジツクインキをほ
とんどはじかないもので、シリコーンの移行のな
いものであつた。 実施例 ５ 実施例１で使倫したＡ成分をその末端がトリメ
チルシロキシ基で封鎖された粘度3000cpsのシロ
キサンとしたほかは、上記実施例４と同様に処理
して得た塗膜についてそのシリコーン移行性をし
らべたところ、これも油性マジツクインキを殆ん
どはじかないものであり、これにはシリコーンの
移行がなかつた。 実施例 ６ 94モル％のMe2SiO単位、３モル％のPh2SiO単
位および３モル％の
【式】単位からなり、末端が
ビニルジメチルシロキシ基で封鎖された粘度
3000cpsのシロキサン100部（Ａ成分）に、実施
例１で使用したＢ成分10部、Ｃ成分５部を混合し
て組成物を作り、これをポリエチレンラミネート
紙上に15g／m2の量で塗工したのち、これに高圧
水銀灯（160W／cm）を用いて紫外線を１秒間照
射したところ、この塗布面は完全に硬化し、これ
についてのシリコーン移行性をしらべたが、これ
にはシリコーンの移行は全く認められず、これは
剥離力170g／５cm、残留接着力93％を示した
が、比較のために上記Ａ成分中の
3000cpsのシロキサン100部（Ａ成分）に、実施
例１で使用したＢ成分10部、Ｃ成分５部を混合し
て組成物を作り、これをポリエチレンラミネート
紙上に15g／m2の量で塗工したのち、これに高圧
水銀灯（160W／cm）を用いて紫外線を１秒間照
射したところ、この塗布面は完全に硬化し、これ
についてのシリコーン移行性をしらべたが、これ
にはシリコーンの移行は全く認められず、これは
剥離力170g／５cm、残留接着力93％を示した
が、比較のために上記Ａ成分中の
【式】単位を
【式】基と
したものを使用したほかはこれと同様に処理して
得た組成物（比較例３）から得られた塗布面の物
性は剥離力140g／５cm、残留接着力70％で、こ
れはシリコーン移行性も△〜×で示されるもので
あつた。 実施例 ７ 前記の実施例１のＡ成分としてのシロキサン
を、その末端が、
得た組成物（比較例３）から得られた塗布面の物
性は剥離力140g／５cm、残留接着力70％で、こ
れはシリコーン移行性も△〜×で示されるもので
あつた。 実施例 ７ 前記の実施例１のＡ成分としてのシロキサン
を、その末端が、
【式】基で封鎖された粘度
3000cpsのシロキサンとしたほかは同様にして得
た組成物について、その硬化された塗膜面の物性
をしらべたところ、これもシリコーンの移行性は
全く認められなかつた。 実施例 ８ Ａ 94モル％のMe2SiO単位、３モル％のPh2SiO
単位および３モル％の
た組成物について、その硬化された塗膜面の物性
をしらべたところ、これもシリコーンの移行性は
全く認められなかつた。 実施例 ８ Ａ 94モル％のMe2SiO単位、３モル％のPh2SiO
単位および３モル％の
【式】単位とからなり、
その末端がビニルジメチルシロキサン基で封鎖さ
れた1000cpsのシロキサン100重量部と Ｂ
れた1000cpsのシロキサン100重量部と Ｂ
【式】単位とからなる粘度が
30cpsのシロキサン５部
とを混合して組成物を作り、これをポリエチレ
ンラミネート紙上に1.0gcm2の量で塗工し、ついで
これに電子線加速器（エネルギー・サイエンス社
製）からの電子線を1.5Mradの線量で照射したと
ころ、この塗布膜は完全に硬化し、これはシリコ
ーン移行性のないものであつた。 実施例 ９ 99モル％のMe2SiO単位と１モル％の
ンラミネート紙上に1.0gcm2の量で塗工し、ついで
これに電子線加速器（エネルギー・サイエンス社
製）からの電子線を1.5Mradの線量で照射したと
ころ、この塗布膜は完全に硬化し、これはシリコ
ーン移行性のないものであつた。 実施例 ９ 99モル％のMe2SiO単位と１モル％の
【式】単位とからなり、そ
の末端がトリメチルシロキシ基で封鎖された粘度
が1000cpsのシロキサン100部に、前記実施例８
のＢ成分を５部添加して組成物を作り、これをク
ラフト紙上に1.0g／m2の量で塗工し、これに電子
線加工器（前出）からの電子線を1.5Mradの線量
で照射したところ、この塗布膜は完全に硬化し、
これもシリコKgン移行性は全く示さないものであ
つた。 実施例 10 99モル％のMe2SiC単位と１モル％の
が1000cpsのシロキサン100部に、前記実施例８
のＢ成分を５部添加して組成物を作り、これをク
ラフト紙上に1.0g／m2の量で塗工し、これに電子
線加工器（前出）からの電子線を1.5Mradの線量
で照射したところ、この塗布膜は完全に硬化し、
これもシリコKgン移行性は全く示さないものであ
つた。 実施例 10 99モル％のMe2SiC単位と１モル％の
【式】単位とからなり、末端
がビニルジメチル基で封鎖された粘度1000cpsの
シロキサン100部に実施例８で使用したＢ成分５
部を混合して組成物を作り、これを前例と同様に
してクラフト紙に塗工し、電子線を照射したとこ
ろ、シリコーン移行性のない硬化膜が得られた。
シロキサン100部に実施例８で使用したＢ成分５
部を混合して組成物を作り、これを前例と同様に
してクラフト紙に塗工し、電子線を照射したとこ
ろ、シリコーン移行性のない硬化膜が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ Ａ 一般式 （こゝにR1は２価炭化水素基、R2は水素
原子またはメチル基、R3は非置換または置
換の１価炭化水素基、Ｘは酸素原子、 −Ｃ−Ｏ−基、硫黄原子またはチオ化合物、
ｍ＝０〜２）で示されるシロキサン単位と、 一般式 【式】 （こゝにR3は前記に同じ、ｎ＝０〜３）で
示されるシロキサン単位とからなり、１分子中
に上記式で示されるシロキサン単位を少なく
とも２ケ有するオルガノポリシロキサンと、 Ｂ １分子中に少なくとも２ケのメルカプト基を
有する、このメルカプト基の量と上記Ａ成分中
の不飽和基との比が１：100〜100：１の範囲に
なる量のメルカプト基含有オルガノシリコーン
化合物 とからなることを特徴とする放射線硬化性オルガ
ノポリシロキサン組成物。 ２ 光感光に十分量の感光剤を添加してなる特許
請求の範囲第１項記載の放射線硬化性オルガノポ
リシロキサン組成物。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58081360A JPS59206465A (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
| US06/800,087 US4707503A (en) | 1983-05-10 | 1985-11-21 | Radiation-curable organopolysiloxane compositions |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58081360A JPS59206465A (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59206465A JPS59206465A (ja) | 1984-11-22 |
| JPS6117863B2 true JPS6117863B2 (ja) | 1986-05-09 |
Family
ID=13744171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58081360A Granted JPS59206465A (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4707503A (ja) |
| JP (1) | JPS59206465A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008075773A1 (ja) | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 調光フィルム及び調光ガラス |
| WO2008075772A1 (ja) | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 調光フィルム及び調光ガラス |
| WO2008075774A1 (ja) | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 調光フィルム |
| WO2009110563A1 (ja) | 2008-03-05 | 2009-09-11 | 日立化成工業株式会社 | 調光フィルムの製造方法及び調光フィルム |
| WO2010021276A1 (ja) | 2008-08-19 | 2010-02-25 | 日立化成工業株式会社 | 調光フィルム |
| WO2010021275A1 (ja) | 2008-08-19 | 2010-02-25 | 日立化成工業株式会社 | 調光フィルム |
| WO2010092953A1 (ja) | 2009-02-13 | 2010-08-19 | 日立化成工業株式会社 | 調光フィルム |
| WO2010092954A1 (ja) | 2009-02-13 | 2010-08-19 | 日立化成工業株式会社 | 調光フィルム |
| WO2011093332A1 (ja) | 2010-01-26 | 2011-08-04 | 日立化成工業株式会社 | 調光フィルム |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3603738A1 (de) * | 1986-02-06 | 1987-08-13 | Wacker Chemie Gmbh | Durch strahlung zu elastomeren vernetzbare massen |
| US5412133A (en) * | 1987-07-31 | 1995-05-02 | General Electric Company | Radiation active silicon compounds having thioether linked functional groups |
| US4783490A (en) * | 1987-07-31 | 1988-11-08 | General Electric Company | Radiation active silicon compounds having amide limited mercaptan functional groups |
| JP2620303B2 (ja) * | 1988-05-12 | 1997-06-11 | 東芝シリコーン株式会社 | 光ファイバー被覆用紫外線硬化型シリコーン樹脂組成物 |
| DE4009889C1 (ja) * | 1990-03-28 | 1991-06-13 | Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen, De | |
| US5866666A (en) * | 1992-05-07 | 1999-02-02 | Wacker-Chemie Gmbh | Siloxane copolymers containing vinyloxy groups, their preparation and their use |
| US5861467A (en) * | 1993-05-18 | 1999-01-19 | Dow Corning Corporation | Radiation curable siloxane compositions containing vinyl ether functionality and methods for their preparation |
| JP3436435B2 (ja) * | 1995-02-22 | 2003-08-11 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | 紫外線硬化型シリコーン組成物の硬化方法 |
| US5824761A (en) * | 1995-05-18 | 1998-10-20 | Dow Corning Corporation | Radiation curable compositions containing vinyl ether functionality and methods for their preparation |
| JP4354066B2 (ja) * | 2000-01-28 | 2009-10-28 | リンテック株式会社 | 剥離シート及びその製造方法 |
| US7955703B2 (en) * | 2004-07-12 | 2011-06-07 | Lintec Corporation | Silicone rubber based pressure sensitive adhesive sheet |
| JP5587519B1 (ja) * | 2013-05-08 | 2014-09-10 | モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 | 画像表示装置用のダム材組成物、及びそれを用いた画像表示装置 |
| JP5587520B1 (ja) * | 2013-05-08 | 2014-09-10 | モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 | 画像表示装置用のダム材組成物、及びそれを用いた画像表示装置 |
| US9834679B2 (en) * | 2014-08-01 | 2017-12-05 | Momentive Performance Materials Inc. | Thermally stable, high refractive index curable silicone compositions |
| EP3249016A4 (en) * | 2015-01-22 | 2018-06-20 | Dow Corning Toray Co., Ltd. | Curable organopolysiloxane composition, cured product thereof, and cured film formation method |
| CN108699388B (zh) * | 2016-03-07 | 2020-09-25 | 美国陶氏有机硅公司 | 可光固化的有机硅组合物及其固化产物 |
| EP3597668A1 (en) | 2018-07-20 | 2020-01-22 | Clariant International Ltd | Photo-curable resin composition for 3d printing |
| EP3597669A1 (en) | 2018-07-20 | 2020-01-22 | Clariant International Ltd | Photo-curable resin composition for 3d printing |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53134085A (en) * | 1977-07-18 | 1978-11-22 | Dainippon Printing Co Ltd | Photopolymerizable composition |
| JPS55112236A (en) * | 1979-01-24 | 1980-08-29 | Rhone Poulenc Ind | Manufacture of organopolysiloxane composition and photopolymerizable composition |
| JPS5670026A (en) * | 1979-11-13 | 1981-06-11 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Photo-setting organopolysiloxane composition |
| JPS56143211A (en) * | 1979-08-29 | 1981-11-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Photocurable organopolysiloxane composition |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL302825A (ja) * | 1962-12-31 | 1900-01-01 | ||
| US3816282A (en) * | 1971-04-15 | 1974-06-11 | Gen Electric | Radiation induced polymerization of polysiloxanes |
| BE791682A (fr) * | 1971-11-22 | 1973-05-21 | Dow Corning | Cinnamates organosiliciques et copolymeres de |
| GB2057476B (en) * | 1979-08-29 | 1983-06-22 | Shinetsu Chemical Co | Photocurable organopolysiloxane compositions |
-
1983
- 1983-05-10 JP JP58081360A patent/JPS59206465A/ja active Granted
-
1985
- 1985-11-21 US US06/800,087 patent/US4707503A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53134085A (en) * | 1977-07-18 | 1978-11-22 | Dainippon Printing Co Ltd | Photopolymerizable composition |
| JPS55112236A (en) * | 1979-01-24 | 1980-08-29 | Rhone Poulenc Ind | Manufacture of organopolysiloxane composition and photopolymerizable composition |
| JPS56143211A (en) * | 1979-08-29 | 1981-11-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Photocurable organopolysiloxane composition |
| JPS5670026A (en) * | 1979-11-13 | 1981-06-11 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Photo-setting organopolysiloxane composition |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008075773A1 (ja) | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 調光フィルム及び調光ガラス |
| WO2008075772A1 (ja) | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 調光フィルム及び調光ガラス |
| WO2008075774A1 (ja) | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 調光フィルム |
| WO2009110563A1 (ja) | 2008-03-05 | 2009-09-11 | 日立化成工業株式会社 | 調光フィルムの製造方法及び調光フィルム |
| WO2010021276A1 (ja) | 2008-08-19 | 2010-02-25 | 日立化成工業株式会社 | 調光フィルム |
| WO2010021275A1 (ja) | 2008-08-19 | 2010-02-25 | 日立化成工業株式会社 | 調光フィルム |
| WO2010092953A1 (ja) | 2009-02-13 | 2010-08-19 | 日立化成工業株式会社 | 調光フィルム |
| WO2010092954A1 (ja) | 2009-02-13 | 2010-08-19 | 日立化成工業株式会社 | 調光フィルム |
| WO2011093332A1 (ja) | 2010-01-26 | 2011-08-04 | 日立化成工業株式会社 | 調光フィルム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59206465A (ja) | 1984-11-22 |
| US4707503A (en) | 1987-11-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6117863B2 (ja) | ||
| CA1272836A (en) | Resinous copolymeric siloxanes containing alkenyldimethylsiloxanes | |
| US4603086A (en) | Radiation curable organic silicon compounds and releasing cured films comprising cured products of said compounds | |
| JP2653693B2 (ja) | シリコーン剥離層含有複合構造体 | |
| JPH0327587B2 (ja) | ||
| EP0464706A1 (en) | Ultraviolet-curable silicone composition | |
| JPH0248178B2 (ja) | ||
| JPS6153383B2 (ja) | ||
| JPH037615B2 (ja) | ||
| US4359369A (en) | Photocurable organopolysiloxane compositions | |
| JPH03115366A (ja) | 実質的に無臭の紫外線硬化性オルガノポリシロキサン剥離コーティング組成物及びコーティング方法 | |
| JPH0417991B2 (ja) | ||
| JPS6328931B2 (ja) | ||
| JP3022101B2 (ja) | 剥離性オルガノポリシロキサン組成物及び剥離紙 | |
| JP2915778B2 (ja) | 離型紙用シリコーン組成物 | |
| US6239246B1 (en) | Acrylic functional organopolysiloxanes and radiation-curable compositions | |
| JPH06322272A (ja) | 紫外線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 | |
| JPS5964669A (ja) | 剥離性硬化被膜 | |
| JP3040287B2 (ja) | オルガノポリシロキサン組成物 | |
| EP0625533A1 (en) | Radiation curable siloxane compositions containing vinyl ether functionality and methods for their preparation | |
| JPH078908A (ja) | 有機珪素化合物の硬化物からなる剥離性硬化皮膜の製造法 | |
| KR950000996B1 (ko) | 오르가노폴리실록산 경화물의 제조방법 | |
| JP3177410B2 (ja) | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 | |
| JPH08157725A (ja) | 剥離性紫外線硬化シリコーン組成物及び剥離紙 | |
| JPH0459207A (ja) | 離型フィルム |