JPS6117863B2 - - Google Patents
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- JPS6117863B2 JPS6117863B2 JP58081360A JP8136083A JPS6117863B2 JP S6117863 B2 JPS6117863 B2 JP S6117863B2 JP 58081360 A JP58081360 A JP 58081360A JP 8136083 A JP8136083 A JP 8136083A JP S6117863 B2 JPS6117863 B2 JP S6117863B2
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- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
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- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
- C08L83/08—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
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Description
本発明は放射線硬化性オルガノポリシロキサン
組成物、特には放射線照射によつてシリコーン移
行性のない充分に硬化された塗布面を与える放射
線硬化性オルガノポリシロキサン組成物に関する
ものである。 放射線照射により硬化するオルガノポリシロキ
サン組成物については、例えばけい素原子に結合
したビニル基を有するオルガノポリシロキサンと
けい素原子に結合した水素基を有するオルガノハ
イドロジエンシロキサンとを光照射によつて付加
反応させるもの、(特開昭47−32072号公報、特公
昭53−48198号公報参照)、またけい素原子に結合
したメルカプト基を有するオルガノポリシロキサ
ンとけい素原子に結合したビニル基を有するオル
ガノポリシロキサンとを光増感剤の共存下に光照
射によつて反応させるもの(特公昭54−6512号公
報、特公昭57−34318号公報、特開昭54−48854号
公報、特開昭54−50067号公報参照)が知られて
いる。しかし、これな公知のオルガノポリシロキ
サン組成物ではこの組成物の塗布面でのシリコー
ンの移行があるため、その表面硬化が不充分なも
のになり易く、したがつてこれらは剥離紙用への
利用などに必ずしも満足すべき性質を示すもので
はなかつた。すなわち、上記したような公知のオ
ルガノシロキサン組成物を剥離紙用として使用す
る場合これらは極めて薄い塗膜として対象物に塗
布されるのであるが、これを光照射で硬化させる
ときにはその表面硬化がわるいためにその剥離性
能に経時変化が生じたり、このシリコーンがこれ
と接触している粘着剤に移行するという不利があ
つた。そのため、この種のオルガノシロキサン組
成物については硬化性を上げてこれらの欠点を除
去するという目的において、オルガノシロキサン
中の官能基の量を増したり、光増感剤の配合量を
増加するという方法が提案されているが、これら
は却つて剥離性を損なうことになつたり、あるい
は臭気発生を伴なうものにあるという不利をもた
らすもので好ましいものではなく、実用化には到
つていない。 本発明はこのような不利を解決した放射線硬化
性オルガノポリシロキサン組成物に関するもので
あり、これはA)一般式 (こゝにR1は2価炭化水素基、R2は水素原子
またはメチル基、R3は非置換または置換1価炭
化水素基、Xは酸素原子、
組成物、特には放射線照射によつてシリコーン移
行性のない充分に硬化された塗布面を与える放射
線硬化性オルガノポリシロキサン組成物に関する
ものである。 放射線照射により硬化するオルガノポリシロキ
サン組成物については、例えばけい素原子に結合
したビニル基を有するオルガノポリシロキサンと
けい素原子に結合した水素基を有するオルガノハ
イドロジエンシロキサンとを光照射によつて付加
反応させるもの、(特開昭47−32072号公報、特公
昭53−48198号公報参照)、またけい素原子に結合
したメルカプト基を有するオルガノポリシロキサ
ンとけい素原子に結合したビニル基を有するオル
ガノポリシロキサンとを光増感剤の共存下に光照
射によつて反応させるもの(特公昭54−6512号公
報、特公昭57−34318号公報、特開昭54−48854号
公報、特開昭54−50067号公報参照)が知られて
いる。しかし、これな公知のオルガノポリシロキ
サン組成物ではこの組成物の塗布面でのシリコー
ンの移行があるため、その表面硬化が不充分なも
のになり易く、したがつてこれらは剥離紙用への
利用などに必ずしも満足すべき性質を示すもので
はなかつた。すなわち、上記したような公知のオ
ルガノシロキサン組成物を剥離紙用として使用す
る場合これらは極めて薄い塗膜として対象物に塗
布されるのであるが、これを光照射で硬化させる
ときにはその表面硬化がわるいためにその剥離性
能に経時変化が生じたり、このシリコーンがこれ
と接触している粘着剤に移行するという不利があ
つた。そのため、この種のオルガノシロキサン組
成物については硬化性を上げてこれらの欠点を除
去するという目的において、オルガノシロキサン
中の官能基の量を増したり、光増感剤の配合量を
増加するという方法が提案されているが、これら
は却つて剥離性を損なうことになつたり、あるい
は臭気発生を伴なうものにあるという不利をもた
らすもので好ましいものではなく、実用化には到
つていない。 本発明はこのような不利を解決した放射線硬化
性オルガノポリシロキサン組成物に関するもので
あり、これはA)一般式 (こゝにR1は2価炭化水素基、R2は水素原子
またはメチル基、R3は非置換または置換1価炭
化水素基、Xは酸素原子、
【式】硫黄原子またはチオ化合物、m
=0〜2)で示されるシロキサン単位と、一般
式
式
【式】(こゝにR3は前記に同じ、n=
0〜3)で示されるシロキサン単位とからなり、
1分子中に上記式で示されるシロキサン単位を
少なくとも2ケ有するオルガノポリシロキサン、
B1分子中に少なくとも2ケのメルカプト基を有
する、このメルカプト基の量と上記A成分中の不
飽和基との比が1:100〜100:1の範囲になる量
のメルカプト基含有オルガノシリコーン化合物と
からなることを特徴とするものである。 これを説明すると、本発明者らはけい素原子に
結合したビニル基を有するオルガノポリシロキサ
ンとけい素原子に結合したメルカプト基を有する
オルガノポリシロキサンとからなる放射線硬化性
オルガノポリシロキサン組成物の放射線硬化性の
改良について種々検討した結果、この硬化性につ
いてはビニル基含有オルガノシロキサン中におけ
るビニル基をけい素原子に直接結合させることな
く、これをけい素原子から遠く離して結合させて
けい素原子周辺への立体障害の影響を少なくする
と共に、このビニル基の2重結合の近くに電子供
与性のヘテロ原子または電子吸引性のヘテロ原子
を含む有機基を導入しておけば、このオルガノシ
ロキサンの反応性を高めることができることを見
出し、これにもとづいてさらに研究を進め、これ
によればこの組成物の塗布面での硬化性を満足す
べき硬度にまで高めることができ、シリコーンの
移行もなくすことができることを確認して本発明
を完成させた。 本発明の組成物を構成するA成分としてのビニ
ル基を含有するオルガノシロキサンは前記した一
般式,のシロキサン単位からなるものである
が、この で示されるシロキサン単位におけるR1はメチ
レン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン
基、フエニレン基などのような2価炭化水素基、
R2は水素原子またはメチル基、R3は炭素数1〜
30の1価炭化水素基で、これにはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、ドデ
シル基などのアルキル基、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基などのシクロアルキル基、フエニ
ル基、トリル基、ナフチル基、キシリル基などの
芳香族基、ビニル基、アリル基などのアルケニル
基、2−フエニルエチル基などのアラルキル基、
されにはこれらの基の水素原子の1部を塩素原
子、フツ素原子などで置換したクロロプロピル
基、クロロフエニル基、ジクロロプロピル基、
3,3,3−トリフルオロプロピルなどが例示さ
れる。またこのXは酸素原子、
1分子中に上記式で示されるシロキサン単位を
少なくとも2ケ有するオルガノポリシロキサン、
B1分子中に少なくとも2ケのメルカプト基を有
する、このメルカプト基の量と上記A成分中の不
飽和基との比が1:100〜100:1の範囲になる量
のメルカプト基含有オルガノシリコーン化合物と
からなることを特徴とするものである。 これを説明すると、本発明者らはけい素原子に
結合したビニル基を有するオルガノポリシロキサ
ンとけい素原子に結合したメルカプト基を有する
オルガノポリシロキサンとからなる放射線硬化性
オルガノポリシロキサン組成物の放射線硬化性の
改良について種々検討した結果、この硬化性につ
いてはビニル基含有オルガノシロキサン中におけ
るビニル基をけい素原子に直接結合させることな
く、これをけい素原子から遠く離して結合させて
けい素原子周辺への立体障害の影響を少なくする
と共に、このビニル基の2重結合の近くに電子供
与性のヘテロ原子または電子吸引性のヘテロ原子
を含む有機基を導入しておけば、このオルガノシ
ロキサンの反応性を高めることができることを見
出し、これにもとづいてさらに研究を進め、これ
によればこの組成物の塗布面での硬化性を満足す
べき硬度にまで高めることができ、シリコーンの
移行もなくすことができることを確認して本発明
を完成させた。 本発明の組成物を構成するA成分としてのビニ
ル基を含有するオルガノシロキサンは前記した一
般式,のシロキサン単位からなるものである
が、この で示されるシロキサン単位におけるR1はメチ
レン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン
基、フエニレン基などのような2価炭化水素基、
R2は水素原子またはメチル基、R3は炭素数1〜
30の1価炭化水素基で、これにはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、ドデ
シル基などのアルキル基、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基などのシクロアルキル基、フエニ
ル基、トリル基、ナフチル基、キシリル基などの
芳香族基、ビニル基、アリル基などのアルケニル
基、2−フエニルエチル基などのアラルキル基、
されにはこれらの基の水素原子の1部を塩素原
子、フツ素原子などで置換したクロロプロピル
基、クロロフエニル基、ジクロロプロピル基、
3,3,3−トリフルオロプロピルなどが例示さ
れる。またこのXは酸素原子、
【式】硫黄原子またはチオ化合物を示
すものであるが、このヘテロ原子としての硫黄は
−O−(CH2)−2S−、−CH2−O−CH2−S−のよ
うなエーテル結合、チオエーテル結合またはエス
テル結合であつてもよい。この式で示されるシ
ロキサン単位については次式、 (式中のViはビニル基、Meはメチル基を示
す、以下同じ)が例示され、また、この式
−O−(CH2)−2S−、−CH2−O−CH2−S−のよ
うなエーテル結合、チオエーテル結合またはエス
テル結合であつてもよい。この式で示されるシ
ロキサン単位については次式、 (式中のViはビニル基、Meはメチル基を示
す、以下同じ)が例示され、また、この式
【式】で示されるシロキサン単位にお
けるR3は前記したとおりのものであればよく、
これはそのn=0のときにはビニル基であつても
よいが、このnが1〜2のときはビニル基であつ
てはならず、これらについては次式で示されるも
のが好ましいものとされる。 Me2SiO,MeSiO3/2,PhMeSiO,
PhSiO3/2,Ph2SiO,
これはそのn=0のときにはビニル基であつても
よいが、このnが1〜2のときはビニル基であつ
てはならず、これらについては次式で示されるも
のが好ましいものとされる。 Me2SiO,MeSiO3/2,PhMeSiO,
PhSiO3/2,Ph2SiO,
【式】
(式中のPhはフエニル基を示す)。
なお、このA成分としてのオルガノポリシロキ
サンは式で示されるシロキサン単位を0.1〜100
%、式で示されるシロキサン単位を0〜99.9%
含むものとすればよく、これは25℃で測定した粘
度が1000〜60000000cSの範囲のものとすること
がよい。 他方、本発明の組成物を構成するB成分として
のメルカプト基含有オルガノシリコーン化合物は
その分子中に少なくとも2ケのメルカプト基を含
有するものであればオルガノシラン、オルガノシ
ロキサンのいずれであつてもよいし、その分子構
造およびメルカプト基の結合位置に特に制限はな
く、これはまた線状構造体、分枝状構造体のいず
れであつてもよい。また、このものの分子鎖末端
はトリメチルシリル基のようなトリオルガノシリ
ル基、ヒドロキシジオルガノシリル基、メルカプ
トプロピルメチル基のようなメルカプトジオルガ
ノシリル基などのいずれであつてもよいが、この
メルカプト基は例えばSH(CH2)aSi≡(aは1
〜3)、
サンは式で示されるシロキサン単位を0.1〜100
%、式で示されるシロキサン単位を0〜99.9%
含むものとすればよく、これは25℃で測定した粘
度が1000〜60000000cSの範囲のものとすること
がよい。 他方、本発明の組成物を構成するB成分として
のメルカプト基含有オルガノシリコーン化合物は
その分子中に少なくとも2ケのメルカプト基を含
有するものであればオルガノシラン、オルガノシ
ロキサンのいずれであつてもよいし、その分子構
造およびメルカプト基の結合位置に特に制限はな
く、これはまた線状構造体、分枝状構造体のいず
れであつてもよい。また、このものの分子鎖末端
はトリメチルシリル基のようなトリオルガノシリ
ル基、ヒドロキシジオルガノシリル基、メルカプ
トプロピルメチル基のようなメルカプトジオルガ
ノシリル基などのいずれであつてもよいが、この
メルカプト基は例えばSH(CH2)aSi≡(aは1
〜3)、
【式】のような形でけい素原
子に結合していることが好ましい。また、このオ
ルガノシリコーン化合物中のけい素原子に結合す
るメルカプト基以外の有機基としてはメチル基、
エチル基、プロピル基、フエニル基、トリフルオ
ロプロピル基などが例示されるが、これらの有機
基を含むけい基原子とメルカプト基と結合したけ
い素原子の配列順序などに特に制限はない。この
メルカプト基を有するオルガノシリコーン化合物
は本発明の組成物が無溶剤で塗布されることもあ
るので、これは25℃における粘度が10000cS以下
のものとすることがよいが、これは特に制限的な
ものではない。 本発明の組成物は上記したA成分とB成分との
配合よつて得られるが、これらの配合比はこのB
成分の配合量をA成分中のビニル基に対しB成分
中のメルカプト基が1:100〜100:1モルの範囲
となるようにすればよく、これは好ましくはA成
分中のビニル基とB成分中のメルカプト基がCH2
=CH/SH=2/1〜1/2の範囲となるように
すればよい。 本発明の組成物はこれを構成するビニル基含有
オルガノポリシロキサンが上記した式で示され
るシロキサン単位を含むものであることから、こ
れに紫外線、電子線などの放射線を照射するとこ
のビニル基とメルカプト基との反応によつて硬化
し、その塗膜面はシリコーンの移行もなく十分に
硬化するので、これは剥離剤などとして有用とさ
れるが、これにはその硬化反応を促進させるため
の増感剤を添加してもよい。この増感剤は公知の
ものでよく、これにはアセトフエノン、プロピオ
フエノン、p−エチルベンゾフエノン、p−トリ
メチルシロキシベンゾフエノン、p−トリメチル
シロキシベンゾフエノンのようなベンゾフエノン
類、キサントーン、フルオレノン、ベンズアルデ
ヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフエニ
ルアミン、カルバゾール、ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイ
ソブチルエーテル、アゾビスイソブチロニトリル
などのような芳香族ケトン、アゾ化合物などが例
示されるが、これらの添加量は前記した本発明の
組成物を光増感されるのに充分な量とすればよ
く、これは通常の組成物に対し0.01〜20重量%、
好ましくは0.1〜5重量%とすればよい。 なお、本発明の組成物は必要に応じて酸化防止
剤などの安定剤や着色剤、充填剤を添加してもよ
く、これはまた溶剤で稀釈して低粘度化してもよ
い。また、この組成物は木材、紙、プラスチツク
フイルム、金属箔などの基体にこれを適当な方法
で塗布したのち、放射線照射をすればそれが十分
な硬度をもつ硬化膜とされ、この硬化膜は離型
性、撥水性、絶縁性、耐候性をもつているので、
これは剥離剤を始めとする各種の用途に有用とさ
れる。 つぎに本発明の実施例をあげるが、例中におけ
るMeはメチル基、Phはフエニル基、Viはビニル
基を、また粘度は25℃における測定値を、部は重
量部を示したものであり、例中における剥離力、
残留接着率およびシリコーン移行性は下記の方法
による測定結果を示したものである。 (剥離力=g/5cm) 硬化されたシリコーン塗膜上に、接着剤オリバ
インBPS−5127(東洋インキ社製、商品名)を
30g/m2で塗工し、100℃で3分間乾燥して得た
ものを表面紙にはり合わせ、2Kgのローラーで1
往復圧着し、25℃で20時間放置後、180度で引離
したときの剥離力(g/5cm)で示した。 (残留接着率%) ニツトポリエステルテープ31B(日東電気工業
社製、商品名)をシロキサン硬化膜にはり合わせ
て2Kgのローラーで1往復圧着後、70℃で20g/
cm2の荷重をかけて20時間エージングした後、この
テープを剥離してステンレス板(#280)にはり
つけ、そのときの接着力をテフロン板に同じよう
にはり合わせた上記31Bテープの結果と比較して
百分率で示した。 (シリコーン移行性) 硬化されたシリコーン塗膜上に厚さ20μのポリ
エステルフイルムを20g/cm2の力で70℃、24時間
圧着したのち、これを引きはなし、そのポリエス
テルフイルム面の油性マジツクインキのはじき度
でシリコーンの移行性を判定した。 〇…ほとんどはじかない。 △…かなりのはじきが見られる。 ×…全体にはじきが見られる。 実施例 1 A 94モル%のMe2SiO単位、3モル%のPh2SiO
単位および3モル%の 単位からなる、末端がビニルジメチルシロキ
サン基で封鎖された粘度約3000cpsのオルガノ
ポリシロキサン100部、 B
ルガノシリコーン化合物中のけい素原子に結合す
るメルカプト基以外の有機基としてはメチル基、
エチル基、プロピル基、フエニル基、トリフルオ
ロプロピル基などが例示されるが、これらの有機
基を含むけい基原子とメルカプト基と結合したけ
い素原子の配列順序などに特に制限はない。この
メルカプト基を有するオルガノシリコーン化合物
は本発明の組成物が無溶剤で塗布されることもあ
るので、これは25℃における粘度が10000cS以下
のものとすることがよいが、これは特に制限的な
ものではない。 本発明の組成物は上記したA成分とB成分との
配合よつて得られるが、これらの配合比はこのB
成分の配合量をA成分中のビニル基に対しB成分
中のメルカプト基が1:100〜100:1モルの範囲
となるようにすればよく、これは好ましくはA成
分中のビニル基とB成分中のメルカプト基がCH2
=CH/SH=2/1〜1/2の範囲となるように
すればよい。 本発明の組成物はこれを構成するビニル基含有
オルガノポリシロキサンが上記した式で示され
るシロキサン単位を含むものであることから、こ
れに紫外線、電子線などの放射線を照射するとこ
のビニル基とメルカプト基との反応によつて硬化
し、その塗膜面はシリコーンの移行もなく十分に
硬化するので、これは剥離剤などとして有用とさ
れるが、これにはその硬化反応を促進させるため
の増感剤を添加してもよい。この増感剤は公知の
ものでよく、これにはアセトフエノン、プロピオ
フエノン、p−エチルベンゾフエノン、p−トリ
メチルシロキシベンゾフエノン、p−トリメチル
シロキシベンゾフエノンのようなベンゾフエノン
類、キサントーン、フルオレノン、ベンズアルデ
ヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフエニ
ルアミン、カルバゾール、ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイ
ソブチルエーテル、アゾビスイソブチロニトリル
などのような芳香族ケトン、アゾ化合物などが例
示されるが、これらの添加量は前記した本発明の
組成物を光増感されるのに充分な量とすればよ
く、これは通常の組成物に対し0.01〜20重量%、
好ましくは0.1〜5重量%とすればよい。 なお、本発明の組成物は必要に応じて酸化防止
剤などの安定剤や着色剤、充填剤を添加してもよ
く、これはまた溶剤で稀釈して低粘度化してもよ
い。また、この組成物は木材、紙、プラスチツク
フイルム、金属箔などの基体にこれを適当な方法
で塗布したのち、放射線照射をすればそれが十分
な硬度をもつ硬化膜とされ、この硬化膜は離型
性、撥水性、絶縁性、耐候性をもつているので、
これは剥離剤を始めとする各種の用途に有用とさ
れる。 つぎに本発明の実施例をあげるが、例中におけ
るMeはメチル基、Phはフエニル基、Viはビニル
基を、また粘度は25℃における測定値を、部は重
量部を示したものであり、例中における剥離力、
残留接着率およびシリコーン移行性は下記の方法
による測定結果を示したものである。 (剥離力=g/5cm) 硬化されたシリコーン塗膜上に、接着剤オリバ
インBPS−5127(東洋インキ社製、商品名)を
30g/m2で塗工し、100℃で3分間乾燥して得た
ものを表面紙にはり合わせ、2Kgのローラーで1
往復圧着し、25℃で20時間放置後、180度で引離
したときの剥離力(g/5cm)で示した。 (残留接着率%) ニツトポリエステルテープ31B(日東電気工業
社製、商品名)をシロキサン硬化膜にはり合わせ
て2Kgのローラーで1往復圧着後、70℃で20g/
cm2の荷重をかけて20時間エージングした後、この
テープを剥離してステンレス板(#280)にはり
つけ、そのときの接着力をテフロン板に同じよう
にはり合わせた上記31Bテープの結果と比較して
百分率で示した。 (シリコーン移行性) 硬化されたシリコーン塗膜上に厚さ20μのポリ
エステルフイルムを20g/cm2の力で70℃、24時間
圧着したのち、これを引きはなし、そのポリエス
テルフイルム面の油性マジツクインキのはじき度
でシリコーンの移行性を判定した。 〇…ほとんどはじかない。 △…かなりのはじきが見られる。 ×…全体にはじきが見られる。 実施例 1 A 94モル%のMe2SiO単位、3モル%のPh2SiO
単位および3モル%の 単位からなる、末端がビニルジメチルシロキ
サン基で封鎖された粘度約3000cpsのオルガノ
ポリシロキサン100部、 B
【式】単位からなる粘度約
30cpsのメルカプト基含有シロキサン10部
および
C 感光剤としてのベンゾイルイソブチルエーテ
ル5部 を混合して組成物を作り、これをポリエチレン
ラミネート紙にこれが薄いフイルム状となるよう
に1.5g/m2の塗布量で塗工したのち、これに高圧
水銀灯(160W/cm)からの紫外線を1秒間照射
したところ、この塗膜は硬化したので、これにつ
いてその物性をしらべたところ、これは剥離力
150g/5cm、残留接着率87%、シリコーン移行
性は〇であつた。 また、比較のため上記A成分の
ル5部 を混合して組成物を作り、これをポリエチレン
ラミネート紙にこれが薄いフイルム状となるよう
に1.5g/m2の塗布量で塗工したのち、これに高圧
水銀灯(160W/cm)からの紫外線を1秒間照射
したところ、この塗膜は硬化したので、これにつ
いてその物性をしらべたところ、これは剥離力
150g/5cm、残留接着率87%、シリコーン移行
性は〇であつた。 また、比較のため上記A成分の
【式】単位の代わりに、
従来公知の
【式】単位としたオルガノポリ
シロキサンをA成分とした以外はこれと同じよう
にして得た組成物(比較例1)について同様に処
理し、その物性をしらべたところ、これは剥離力
が140g/5cm、残留接着率70%を示し、そのシ
リコーン移行性は△〜×であつた。 実施例 2 92モル%のMe2SiO単位、3モル%のPh2SiO単
位および5モル%の
にして得た組成物(比較例1)について同様に処
理し、その物性をしらべたところ、これは剥離力
が140g/5cm、残留接着率70%を示し、そのシ
リコーン移行性は△〜×であつた。 実施例 2 92モル%のMe2SiO単位、3モル%のPh2SiO単
位および5モル%の
【式】単位とからなる、
末端がビニルジメチルシロキサン基で封鎖された
粘度約5000cpsのシロキサン100部に実施例1で
使用したB,C成分を配合して組成物を作り、こ
れをポリエチレンラミネート紙に実施例1と同様
に塗工し、紫外線照射で硬化させ、その硬化膜に
ついての物性テストを行なうと共に、この
粘度約5000cpsのシロキサン100部に実施例1で
使用したB,C成分を配合して組成物を作り、こ
れをポリエチレンラミネート紙に実施例1と同様
に塗工し、紫外線照射で硬化させ、その硬化膜に
ついての物性テストを行なうと共に、この
【式】単位を
【式】単位としたものについての比較用組
成物(比較例2)についても同様のテストを行な
つたところ、後記第1表に示すとおりの結果が得
られた。 実施例 3 95モル%のMe2SiO単位と5モル%の
つたところ、後記第1表に示すとおりの結果が得
られた。 実施例 3 95モル%のMe2SiO単位と5モル%の
【式】単位とからなる、末
端がビニルジメチルシロキシ基で封鎖された粘度
3000cpsのシロキサン100部に(A成分)、実施例
1で使用したB成分およびC成分を同量添加して
組成物を作り、これをポリエチレンラミネート紙
に実施例1と同様に塗布し、同様に処理して紫外
線照射により硬化させた硬化膜についてその物性
をしらべると共に、このA成分中の
3000cpsのシロキサン100部に(A成分)、実施例
1で使用したB成分およびC成分を同量添加して
組成物を作り、これをポリエチレンラミネート紙
に実施例1と同様に塗布し、同様に処理して紫外
線照射により硬化させた硬化膜についてその物性
をしらべると共に、このA成分中の
【式】単位を
【式】
単位としたものを同様に処理して得た組成物(比
較例3)について同様に操作して得た硬化膜の物
性をしらべたとこの、次記の第1表に示すとおり
の結果が得られた。
較例3)について同様に操作して得た硬化膜の物
性をしらべたとこの、次記の第1表に示すとおり
の結果が得られた。
【表】
実施例 4
実施例1で使用したA成分をその末端が
【式】基で封鎖された粘
度が3000cpsのシロキサンとし、これに実施例1
で使用したB,C成分を同量添加して組成物を作
り、これをポリエチレンラミネート紙に1.5g/m2
の量で塗布し、これに高圧水銀灯(160W/cm)
を用いて紫外線1秒間照射したところ、これは完
全に硬化し、これについてのシリコーン移行性を
しらべたところ、これは油性マジツクインキをほ
とんどはじかないもので、シリコーンの移行のな
いものであつた。 実施例 5 実施例1で使倫したA成分をその末端がトリメ
チルシロキシ基で封鎖された粘度3000cpsのシロ
キサンとしたほかは、上記実施例4と同様に処理
して得た塗膜についてそのシリコーン移行性をし
らべたところ、これも油性マジツクインキを殆ん
どはじかないものであり、これにはシリコーンの
移行がなかつた。 実施例 6 94モル%のMe2SiO単位、3モル%のPh2SiO単
位および3モル%の
で使用したB,C成分を同量添加して組成物を作
り、これをポリエチレンラミネート紙に1.5g/m2
の量で塗布し、これに高圧水銀灯(160W/cm)
を用いて紫外線1秒間照射したところ、これは完
全に硬化し、これについてのシリコーン移行性を
しらべたところ、これは油性マジツクインキをほ
とんどはじかないもので、シリコーンの移行のな
いものであつた。 実施例 5 実施例1で使倫したA成分をその末端がトリメ
チルシロキシ基で封鎖された粘度3000cpsのシロ
キサンとしたほかは、上記実施例4と同様に処理
して得た塗膜についてそのシリコーン移行性をし
らべたところ、これも油性マジツクインキを殆ん
どはじかないものであり、これにはシリコーンの
移行がなかつた。 実施例 6 94モル%のMe2SiO単位、3モル%のPh2SiO単
位および3モル%の
【式】単位からなり、末端が
ビニルジメチルシロキシ基で封鎖された粘度
3000cpsのシロキサン100部(A成分)に、実施
例1で使用したB成分10部、C成分5部を混合し
て組成物を作り、これをポリエチレンラミネート
紙上に15g/m2の量で塗工したのち、これに高圧
水銀灯(160W/cm)を用いて紫外線を1秒間照
射したところ、この塗布面は完全に硬化し、これ
についてのシリコーン移行性をしらべたが、これ
にはシリコーンの移行は全く認められず、これは
剥離力170g/5cm、残留接着力93%を示した
が、比較のために上記A成分中の
3000cpsのシロキサン100部(A成分)に、実施
例1で使用したB成分10部、C成分5部を混合し
て組成物を作り、これをポリエチレンラミネート
紙上に15g/m2の量で塗工したのち、これに高圧
水銀灯(160W/cm)を用いて紫外線を1秒間照
射したところ、この塗布面は完全に硬化し、これ
についてのシリコーン移行性をしらべたが、これ
にはシリコーンの移行は全く認められず、これは
剥離力170g/5cm、残留接着力93%を示した
が、比較のために上記A成分中の
【式】単位を
【式】基と
したものを使用したほかはこれと同様に処理して
得た組成物(比較例3)から得られた塗布面の物
性は剥離力140g/5cm、残留接着力70%で、こ
れはシリコーン移行性も△〜×で示されるもので
あつた。 実施例 7 前記の実施例1のA成分としてのシロキサン
を、その末端が、
得た組成物(比較例3)から得られた塗布面の物
性は剥離力140g/5cm、残留接着力70%で、こ
れはシリコーン移行性も△〜×で示されるもので
あつた。 実施例 7 前記の実施例1のA成分としてのシロキサン
を、その末端が、
【式】基で封鎖された粘度
3000cpsのシロキサンとしたほかは同様にして得
た組成物について、その硬化された塗膜面の物性
をしらべたところ、これもシリコーンの移行性は
全く認められなかつた。 実施例 8 A 94モル%のMe2SiO単位、3モル%のPh2SiO
単位および3モル%の
た組成物について、その硬化された塗膜面の物性
をしらべたところ、これもシリコーンの移行性は
全く認められなかつた。 実施例 8 A 94モル%のMe2SiO単位、3モル%のPh2SiO
単位および3モル%の
【式】単位とからなり、
その末端がビニルジメチルシロキサン基で封鎖さ
れた1000cpsのシロキサン100重量部と B
れた1000cpsのシロキサン100重量部と B
【式】単位とからなる粘度が
30cpsのシロキサン5部
とを混合して組成物を作り、これをポリエチレ
ンラミネート紙上に1.0gcm2の量で塗工し、ついで
これに電子線加速器(エネルギー・サイエンス社
製)からの電子線を1.5Mradの線量で照射したと
ころ、この塗布膜は完全に硬化し、これはシリコ
ーン移行性のないものであつた。 実施例 9 99モル%のMe2SiO単位と1モル%の
ンラミネート紙上に1.0gcm2の量で塗工し、ついで
これに電子線加速器(エネルギー・サイエンス社
製)からの電子線を1.5Mradの線量で照射したと
ころ、この塗布膜は完全に硬化し、これはシリコ
ーン移行性のないものであつた。 実施例 9 99モル%のMe2SiO単位と1モル%の
【式】単位とからなり、そ
の末端がトリメチルシロキシ基で封鎖された粘度
が1000cpsのシロキサン100部に、前記実施例8
のB成分を5部添加して組成物を作り、これをク
ラフト紙上に1.0g/m2の量で塗工し、これに電子
線加工器(前出)からの電子線を1.5Mradの線量
で照射したところ、この塗布膜は完全に硬化し、
これもシリコKgン移行性は全く示さないものであ
つた。 実施例 10 99モル%のMe2SiC単位と1モル%の
が1000cpsのシロキサン100部に、前記実施例8
のB成分を5部添加して組成物を作り、これをク
ラフト紙上に1.0g/m2の量で塗工し、これに電子
線加工器(前出)からの電子線を1.5Mradの線量
で照射したところ、この塗布膜は完全に硬化し、
これもシリコKgン移行性は全く示さないものであ
つた。 実施例 10 99モル%のMe2SiC単位と1モル%の
【式】単位とからなり、末端
がビニルジメチル基で封鎖された粘度1000cpsの
シロキサン100部に実施例8で使用したB成分5
部を混合して組成物を作り、これを前例と同様に
してクラフト紙に塗工し、電子線を照射したとこ
ろ、シリコーン移行性のない硬化膜が得られた。
シロキサン100部に実施例8で使用したB成分5
部を混合して組成物を作り、これを前例と同様に
してクラフト紙に塗工し、電子線を照射したとこ
ろ、シリコーン移行性のない硬化膜が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 A 一般式 (こゝにR1は2価炭化水素基、R2は水素
原子またはメチル基、R3は非置換または置
換の1価炭化水素基、Xは酸素原子、 −C−O−基、硫黄原子またはチオ化合物、
m=0〜2)で示されるシロキサン単位と、 一般式 【式】 (こゝにR3は前記に同じ、n=0〜3)で
示されるシロキサン単位とからなり、1分子中
に上記式で示されるシロキサン単位を少なく
とも2ケ有するオルガノポリシロキサンと、 B 1分子中に少なくとも2ケのメルカプト基を
有する、このメルカプト基の量と上記A成分中
の不飽和基との比が1:100〜100:1の範囲に
なる量のメルカプト基含有オルガノシリコーン
化合物 とからなることを特徴とする放射線硬化性オルガ
ノポリシロキサン組成物。 2 光感光に十分量の感光剤を添加してなる特許
請求の範囲第1項記載の放射線硬化性オルガノポ
リシロキサン組成物。
Priority Applications (2)
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---|---|---|---|
JP58081360A JPS59206465A (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
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---|---|---|---|
JP58081360A JPS59206465A (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
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JPS6117863B2 true JPS6117863B2 (ja) | 1986-05-09 |
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