JPS61174370A - 蒸着装置 - Google Patents
蒸着装置Info
- Publication number
- JPS61174370A JPS61174370A JP1709085A JP1709085A JPS61174370A JP S61174370 A JPS61174370 A JP S61174370A JP 1709085 A JP1709085 A JP 1709085A JP 1709085 A JP1709085 A JP 1709085A JP S61174370 A JPS61174370 A JP S61174370A
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- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- crucible
- metal
- heat shield
- deposition apparatus
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は蒸気化した蒸発物質を被蒸着部材に衝突させ
て薄膜等を形成する蒸着装置に関するものである。
て薄膜等を形成する蒸着装置に関するものである。
従来の蒸着装置を図面に基いて説明する。
第４図は従来の蒸着装置を示す断面図である。
図において、＋１１は真空にされた容器、（２：はこの
容器内に置かれ、小孔（２ａ）を何して蒸発物質（３１
が入れられたるらぼ、（４］けこのΣつぼ（２１の外側
に配設され、 名’＞１４ｔｚ＞２加熱して蒸発物質（
３１を蒸気化する加熱用フィラメント、（６１は蒸気化
した蒸発物質（３ａ）をンオイ化するために電子を発生
するイオン化用フィラメント、（６）は上記電子を加速
するグリッド、（７）は被蒸着部材（８）を小孔（２ａ
）と対向するように支持する支持台、（９）はイオン化
されｆｃｉ発物質物質ａ）を加速して被蒸着部材（８）
に衝突させる加速電極、ｆ１０１＃−ｆ加熱用フィラメ
ントで４１、イオン化層フイラメン） （５） ’ｉ取
シ囲むように同心状に配設された箱形で２層構造の熱シ
ールド、（”ｌ ＋州、α３１ 、 （１４＋は加熱用
フィラメント（４）、イオン化＃１フイラメン）（６ｉ
＋、グリッド（６）、加速電極（９）それぞれの電源、
Ｈに加熱用フィラメント（４１から発生した電子を加速
する電源である。
容器内に置かれ、小孔（２ａ）を何して蒸発物質（３１
が入れられたるらぼ、（４］けこのΣつぼ（２１の外側
に配設され、 名’＞１４ｔｚ＞２加熱して蒸発物質（
３１を蒸気化する加熱用フィラメント、（６１は蒸気化
した蒸発物質（３ａ）をンオイ化するために電子を発生
するイオン化用フィラメント、（６）は上記電子を加速
するグリッド、（７）は被蒸着部材（８）を小孔（２ａ
）と対向するように支持する支持台、（９）はイオン化
されｆｃｉ発物質物質ａ）を加速して被蒸着部材（８）
に衝突させる加速電極、ｆ１０１＃−ｆ加熱用フィラメ
ントで４１、イオン化層フイラメン） （５） ’ｉ取
シ囲むように同心状に配設された箱形で２層構造の熱シ
ールド、（”ｌ ＋州、α３１ 、 （１４＋は加熱用
フィラメント（４）、イオン化＃１フイラメン）（６ｉ
＋、グリッド（６）、加速電極（９）それぞれの電源、
Ｈに加熱用フィラメント（４１から発生した電子を加速
する電源である。
上記のように構成された従来の蒸着装置の動作を次に述
べる。
べる。
蒸発物質（３１をるらぼ（２１に入れ、容器【１１を高
、真空にする◎加熱用フィラメント（４１を電源（１す
で赤熱して電子を発生させ、上記電子を電源用で加速し
之”） ｐｉ ＋２＋に衝突させて加熱する・蒸発物質
（３１は溶融し蒸気化され、乞’） ｔ’！” ＋２１
内の圧力が高くなって、蒸気化された蒸発物質（３ａ）
は小孔（２ａ）よシ噴出する。噴出した蒸発物質（３１
））ｉ被蒸着部材（８）に向う途中で、イオン化用フィ
ラメント（５）から発生し、グリッド（６）によって加
速された電子に衝突されてイオン化される。イオン化さ
れた蒸発物質（３Ｃ）は加速電極（９）によって生じる
電界によって加速され被蒸着部材＋８１ Ｋ衝突して、
＠を形成する。
、真空にする◎加熱用フィラメント（４１を電源（１す
で赤熱して電子を発生させ、上記電子を電源用で加速し
之”） ｐｉ ＋２＋に衝突させて加熱する・蒸発物質
（３１は溶融し蒸気化され、乞’） ｔ’！” ＋２１
内の圧力が高くなって、蒸気化された蒸発物質（３ａ）
は小孔（２ａ）よシ噴出する。噴出した蒸発物質（３１
））ｉ被蒸着部材（８）に向う途中で、イオン化用フィ
ラメント（５）から発生し、グリッド（６）によって加
速された電子に衝突されてイオン化される。イオン化さ
れた蒸発物質（３Ｃ）は加速電極（９）によって生じる
電界によって加速され被蒸着部材＋８１ Ｋ衝突して、
＠を形成する。
従来の蒸着装置において、熱シールド（１０）はふ”）
を蓋＋２＋及び加熱用フイラメン） ＋４３からの輻
射熱の損失を小さくして名；）＃蓋＋２１を高温に保つ
ために用いられるものであシ、従って、るらぼ１２）の
囲シをほとんど覆う構造で、かつ輻射熱の損失を出来る
だけ小さくするために２重またはそれ以上の多重構造と
なって−た。その為に、蒸気化された蒸発物質（Ｊｌａ
功五被蒸着部材＋８ＨＣ向うものの他に、熱シールド叫
の内側にもぐり込むもの（３ｄ）があり、熱シールド（
■ωの内側の真空度が低くなシ、その為にｂ ラ＃Ｙ
＋２＋と加熱用フィラメント（４）間の絶縁が悪くなり
、そこで放電が発生して安定した蒸着が出来なくなると
いう問題があった。
を蓋＋２＋及び加熱用フイラメン） ＋４３からの輻
射熱の損失を小さくして名；）＃蓋＋２１を高温に保つ
ために用いられるものであシ、従って、るらぼ１２）の
囲シをほとんど覆う構造で、かつ輻射熱の損失を出来る
だけ小さくするために２重またはそれ以上の多重構造と
なって−た。その為に、蒸気化された蒸発物質（Ｊｌａ
功五被蒸着部材＋８ＨＣ向うものの他に、熱シールド叫
の内側にもぐり込むもの（３ｄ）があり、熱シールド（
■ωの内側の真空度が低くなシ、その為にｂ ラ＃Ｙ
＋２＋と加熱用フィラメント（４）間の絶縁が悪くなり
、そこで放電が発生して安定した蒸着が出来なくなると
いう問題があった。
この発明は上記のような問題点を解決□するためになさ
れたもので、６ Ｑ ？命と加熱フィラメント間の絶縁
低下を防止して、安定した蒸着が出来る蒸着装置を提供
することを目的としている。
れたもので、６ Ｑ ？命と加熱フィラメント間の絶縁
低下を防止して、安定した蒸着が出来る蒸着装置を提供
することを目的としている。
この発明に係る蒸着装置は、密閉された容器と、この容
器内に置かれ、開口部を有して蒸発物質が入れられた之
う＃曽と、このｉうを蓋の外側に配設され、上記るつぼ
を加熱して上記蒸発物質を蒸気化する加熱手段と、被蒸
着部材を上記開口部と対向するように支持する支持体と
、上記加熱手段Ｕり囲む±で複数層配設され、それぞれ
の層に、上記るつぼの周囲を浮遊する上記蒸発物質を最
外層の外側に排出する排出孔が設けられた熱シールドを
備えたものである。
器内に置かれ、開口部を有して蒸発物質が入れられた之
う＃曽と、このｉうを蓋の外側に配設され、上記るつぼ
を加熱して上記蒸発物質を蒸気化する加熱手段と、被蒸
着部材を上記開口部と対向するように支持する支持体と
、上記加熱手段Ｕり囲む±で複数層配設され、それぞれ
の層に、上記るつぼの周囲を浮遊する上記蒸発物質を最
外層の外側に排出する排出孔が設けられた熱シールドを
備えたものである。
この発明においては、複数層のシールドに排出孔が設け
られているので％ｊｂ ；）＃ｉ ｏ ｍ ｕを浮遊す
る蒸発物質を最外層の外側に排出して名う／Ｉセの周囲
の絶縁低下を防止し、名うｔ’ｘと加熱フィラメント間
の放電を防止することが出来る。
られているので％ｊｂ ；）＃ｉ ｏ ｍ ｕを浮遊す
る蒸発物質を最外層の外側に排出して名う／Ｉセの周囲
の絶縁低下を防止し、名うｔ’ｘと加熱フィラメント間
の放電を防止することが出来る。
以下、この発明の実施例を第１ないし第８図に基いて説
明する。
明する。
第１図はこの発明の一実施例含水す断面図、第８図は第
１図において熱シールド翰を矢印Ａ方向から見た詳細拡
大側面図、第３図は第２図のｎ−ｎ線断面図である。
１図において熱シールド翰を矢印Ａ方向から見た詳細拡
大側面図、第３図は第２図のｎ−ｎ線断面図である。
図中、容器＋１１、乞うに（２１、小孔（ハχ蒸発物質
＋３１． （８ａ）、（３ｂ）、（ａｃ）、（８４）、
加熱用フィラメント（４）、イオン化用フィラメント（
５）、グリッド（６１、支持台（７）、被蒸着部材（８
）、加速電極（９）、電源（川、ＱＬ Ｈ２Ｏ２、Ｑ１
９は第１図くおける従来のものと同様である。
＋３１． （８ａ）、（３ｂ）、（ａｃ）、（８４）、
加熱用フィラメント（４）、イオン化用フィラメント（
５）、グリッド（６１、支持台（７）、被蒸着部材（８
）、加速電極（９）、電源（川、ＱＬ Ｈ２Ｏ２、Ｑ１
９は第１図くおける従来のものと同様である。
四は熱シールドで、箱形で８層構造になっている。（財
）は熱シールド−の各層に設けられ、る６ぼ（２）の■
囲を浮遊する蒸発物質（８ｄ）全最外層に排出する排出
孔であって、断面が円形で、熱シールドの側壁垂直方向
に見て重ならないように配置されている。
）は熱シールド−の各層に設けられ、る６ぼ（２）の■
囲を浮遊する蒸発物質（８ｄ）全最外層に排出する排出
孔であって、断面が円形で、熱シールドの側壁垂直方向
に見て重ならないように配置されている。
このように、熱シールド翰の中にもぐり込み名うｉ’ｒ
＋２＋の周囲に浮遊する蒸発物質（８ｄ）は各層に設
けられた上記排出孔体υを通って最外層の外側に排出さ
れる。その結果、熱シールド翰の中側は高具空に保たれ
、るらぼ（２］と加熱用フィラメント（４）間の絶縁が
良好に保之れて、それら間の放ＹＬが防止される。また
、ｊ６）’ｊ（１１及び加熱用フィラメント（４１から
の惰射線が熱シールド−〇最外層１ｒ：通り抜けないよ
うに、各層の排出孔（２Ｄが重ならないように位置され
ているので、排出孔１２１１’ｉ通じての輻射熱の損失
が小さく、従って熱シールド翰全体の輻射熱の損失も小
さい。
＋２＋の周囲に浮遊する蒸発物質（８ｄ）は各層に設
けられた上記排出孔体υを通って最外層の外側に排出さ
れる。その結果、熱シールド翰の中側は高具空に保たれ
、るらぼ（２］と加熱用フィラメント（４）間の絶縁が
良好に保之れて、それら間の放ＹＬが防止される。また
、ｊ６）’ｊ（１１及び加熱用フィラメント（４１から
の惰射線が熱シールド−〇最外層１ｒ：通り抜けないよ
うに、各層の排出孔（２Ｄが重ならないように位置され
ているので、排出孔１２１１’ｉ通じての輻射熱の損失
が小さく、従って熱シールド翰全体の輻射熱の損失も小
さい。
なお、上記実施例で＃：を熱シールド＋２１ｕｓ重構造
のもので説明したが８重以上であってもよい。
のもので説明したが８重以上であってもよい。
この発明は以上説明したように、熱シールドの各層に、
るう／／命の周囲を浮遊する蒸発物質を最外層の外側に
排出する排出孔を設けたため、為うは周囲の絶縁低下を
防止すると共に放電を防止するので安定した蒸着を行な
うことが出来るという効果がある。
るう／／命の周囲を浮遊する蒸発物質を最外層の外側に
排出する排出孔を設けたため、為うは周囲の絶縁低下を
防止すると共に放電を防止するので安定した蒸着を行な
うことが出来るという効果がある。
第１図はこの発明の一実施例による蒸着装置の断面図、
第８図は第１図において熱シールドｍｔ−矢印Ａ方向か
ら見た詳細拡大側面図、第３図は第２図の■−■線断面
図、第４図は従来の蒸着装置の断面図である。 Ｔ！ｌ”−−ふら＃セ、ＩＢＩ−−一蒸発物質、＋４１
−−一加熱用フイラメン）、＋１ｉｌ−−−イオン代用
フイラメン ・ト、（６１−−−グリッド、＋７
１−−一支持台、（８１−−一被蒸着部材、翰−−−熱
シールド、体トー 排出孔なお、各図中、同一符号に同
−又は相当部分を示す・
第８図は第１図において熱シールドｍｔ−矢印Ａ方向か
ら見た詳細拡大側面図、第３図は第２図の■−■線断面
図、第４図は従来の蒸着装置の断面図である。 Ｔ！ｌ”−−ふら＃セ、ＩＢＩ−−一蒸発物質、＋４１
−−一加熱用フイラメン）、＋１ｉｌ−−−イオン代用
フイラメン ・ト、（６１−−−グリッド、＋７
１−−一支持台、（８１−−一被蒸着部材、翰−−−熱
シールド、体トー 排出孔なお、各図中、同一符号に同
−又は相当部分を示す・
Claims (5)
- （１）密閉された容器と、この容器内に置かれ、開口部
を有して蒸発物質が入れられたるつぼと、このるつぼの
外側に配設され、上記るつぼを加熱して上記蒸発物質を
蒸気化する加熱手段と、被蒸着部材を上記開口部と対向
するように支持する支持体と、上記加熱手段を取り囲む
ように複数層配設され、それぞれの層に上記るつぼの周
囲を浮遊する上記蒸発物質を最外層の外側に排出する排
出孔が設けられた熱シールドを備えたことを特徴とする
蒸着装置。 - （２）熱シールドはるつぼと同心状に配設されているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の蒸着装置。 - （３）熱シールド各層は箱形に形成されていることを特
徴とする特許請求の範囲第２項記載の蒸着装置。 - （４）排出孔は箱の側壁に設けられていることを特徴と
する特許請求の範囲第３項記載の蒸着装置。 - （５）排出孔は断面が円形で、相隣り合う層間において
、側壁に垂直方向に見て重ならないように設けられてい
ることを特徴とする特許請求の範囲第４項記載の蒸着装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1709085A JPS61174370A (ja) | 1985-01-29 | 1985-01-29 | 蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1709085A JPS61174370A (ja) | 1985-01-29 | 1985-01-29 | 蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61174370A true JPS61174370A (ja) | 1986-08-06 |
Family
ID=11934285
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1709085A Pending JPS61174370A (ja) | 1985-01-29 | 1985-01-29 | 蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61174370A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5180477A (en) * | 1990-06-25 | 1993-01-19 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Thin film deposition apparatus |
| CN103789733A (zh) * | 2014-02-27 | 2014-05-14 | 苏州大学 | 可任意角度安装使用的真空蒸发源 |
-
1985
- 1985-01-29 JP JP1709085A patent/JPS61174370A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5180477A (en) * | 1990-06-25 | 1993-01-19 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Thin film deposition apparatus |
| CN103789733A (zh) * | 2014-02-27 | 2014-05-14 | 苏州大学 | 可任意角度安装使用的真空蒸发源 |
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