JPS61168630U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS61168630U JPS61168630U JP3080785U JP3080785U JPS61168630U JP S61168630 U JPS61168630 U JP S61168630U JP 3080785 U JP3080785 U JP 3080785U JP 3080785 U JP3080785 U JP 3080785U JP S61168630 U JPS61168630 U JP S61168630U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- preliminary vacuum
- vacuum chamber
- processing chamber
- chamber
- leak
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 claims 1
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- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
Description
第1図は本一実施例である半導体製造装置を示
す構成図、第2図は第1図のA部の詳細図、第3
図は従来例を示す断面図である。 10……処理室、12,16……排気装置、1
3……ゲート弁、14……予備真空室、21……
スプレーノズル。
す構成図、第2図は第1図のA部の詳細図、第3
図は従来例を示す断面図である。 10……処理室、12,16……排気装置、1
3……ゲート弁、14……予備真空室、21……
スプレーノズル。
Claims (1)
- 試料を処理する処理室と、前記処理室を真空排
気する排気装置と、前記処理室につながる予備真
空室と、前記予備真空室と前記処理室とを仕切る
仕切手段と、前記予備真空室を真空排気する排気
装置と、前記予備真空室にガスを供給するリーク
手段とから成る半導体製造装置において、前記予
備真空室に前記リーク手段からのリークガスを分
散させる分散手段を設けたことを特徴とする半導
体製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3080785U JPS61168630U (ja) | 1985-03-06 | 1985-03-06 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3080785U JPS61168630U (ja) | 1985-03-06 | 1985-03-06 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61168630U true JPS61168630U (ja) | 1986-10-20 |
Family
ID=30530831
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3080785U Pending JPS61168630U (ja) | 1985-03-06 | 1985-03-06 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61168630U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02301140A (ja) * | 1989-05-15 | 1990-12-13 | Fuji Electric Co Ltd | 表面処理装置 |
-
1985
- 1985-03-06 JP JP3080785U patent/JPS61168630U/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02301140A (ja) * | 1989-05-15 | 1990-12-13 | Fuji Electric Co Ltd | 表面処理装置 |