JPS6116365U - 薄膜蒸着装置 - Google Patents
薄膜蒸着装置Info
- Publication number
- JPS6116365U JPS6116365U JP9890584U JP9890584U JPS6116365U JP S6116365 U JPS6116365 U JP S6116365U JP 9890584 U JP9890584 U JP 9890584U JP 9890584 U JP9890584 U JP 9890584U JP S6116365 U JPS6116365 U JP S6116365U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- film deposition
- deposition equipment
- vacuum vessel
- resistant
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は従来の薄膜蒸着装置を示す構成図、第2図はこ
の考案の一実施例を示す構成図である。 図において、1は真空容器、20は剥離体である。 なお各図中同一符号は同一又は相当部分を示す。
の考案の一実施例を示す構成図である。 図において、1は真空容器、20は剥離体である。 なお各図中同一符号は同一又は相当部分を示す。
Claims (1)
- 蒸発源から発生した蒸着物質を真空容器内で基板へ物理
的に蒸着させるものにおいて、上記真空容器の内壁に耐
熱性を有し、剥離可能な剥離体を設けたことを特徴とす
る薄膜蒸着装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9890584U JPS6116365U (ja) | 1984-06-28 | 1984-06-28 | 薄膜蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9890584U JPS6116365U (ja) | 1984-06-28 | 1984-06-28 | 薄膜蒸着装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6116365U true JPS6116365U (ja) | 1986-01-30 |
Family
ID=30658423
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9890584U Pending JPS6116365U (ja) | 1984-06-28 | 1984-06-28 | 薄膜蒸着装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6116365U (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4999972A (ja) * | 1973-01-31 | 1974-09-20 | ||
JPS55154570A (en) * | 1979-05-18 | 1980-12-02 | Nec Corp | Protecting method for vacuum deposition apparatus mechanism parts |
-
1984
- 1984-06-28 JP JP9890584U patent/JPS6116365U/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4999972A (ja) * | 1973-01-31 | 1974-09-20 | ||
JPS55154570A (en) * | 1979-05-18 | 1980-12-02 | Nec Corp | Protecting method for vacuum deposition apparatus mechanism parts |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6116365U (ja) | 薄膜蒸着装置 | |
JPS5842994U (ja) | 静電シ−ルド容器用材料 | |
JPS5946237U (ja) | 複合フイルム | |
JPS5963297U (ja) | 高圧容器 | |
JPS6093757U (ja) | スパツタリング装置 | |
JPS59164237U (ja) | 蒸着装置 | |
JPS60185657U (ja) | 薄膜形成装置 | |
JPS5912867U (ja) | 電子写真用感光体製造装置 | |
JPS59103772U (ja) | 薄膜気相成長装置 | |
JPS5834956U (ja) | 真空蒸着における排気装置 | |
JPS5865363U (ja) | 管球用ガラスバルブへの金属反射膜の蒸着装置 | |
JPH0330258U (ja) | ||
JPS5877041U (ja) | 薄膜気相成長用気化装置 | |
JPS59103771U (ja) | 薄膜気相成長装置 | |
JPS5912866U (ja) | 真空蒸着装置 | |
JPS58120645U (ja) | 真空処理装置 | |
JPS5868935U (ja) | 片面に薬剤を施したテ−プ又はフイルム | |
JPS5916166U (ja) | 磁気抵抗素子 | |
JPS6094821U (ja) | プラズマcvd装置 | |
JPS6057125U (ja) | 半導体気相成長装置 | |
JPS5999980U (ja) | 自己融着性エナメル線ボビンの収納容器 | |
JPS60191044U (ja) | ジアゾ複写材料 | |
JPS5839038U (ja) | 半導体素子の蒸着治具 | |
JPS5973234U (ja) | 調理容器 | |
JPS5885344U (ja) | 半導体基板用キヤリア |