JPS6116365U - 薄膜蒸着装置 - Google Patents

薄膜蒸着装置

Info

Publication number
JPS6116365U
JPS6116365U JP9890584U JP9890584U JPS6116365U JP S6116365 U JPS6116365 U JP S6116365U JP 9890584 U JP9890584 U JP 9890584U JP 9890584 U JP9890584 U JP 9890584U JP S6116365 U JPS6116365 U JP S6116365U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
film deposition
deposition equipment
vacuum vessel
resistant
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9890584U
Other languages
English (en)
Inventor
正博 花井
昭 主原
Original Assignee
三菱電機株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 三菱電機株式会社 filed Critical 三菱電機株式会社
Priority to JP9890584U priority Critical patent/JPS6116365U/ja
Publication of JPS6116365U publication Critical patent/JPS6116365U/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は従来の薄膜蒸着装置を示す構成図、第2図はこ
の考案の一実施例を示す構成図である。 図において、1は真空容器、20は剥離体である。 なお各図中同一符号は同一又は相当部分を示す。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 蒸発源から発生した蒸着物質を真空容器内で基板へ物理
    的に蒸着させるものにおいて、上記真空容器の内壁に耐
    熱性を有し、剥離可能な剥離体を設けたことを特徴とす
    る薄膜蒸着装置。
JP9890584U 1984-06-28 1984-06-28 薄膜蒸着装置 Pending JPS6116365U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9890584U JPS6116365U (ja) 1984-06-28 1984-06-28 薄膜蒸着装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9890584U JPS6116365U (ja) 1984-06-28 1984-06-28 薄膜蒸着装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6116365U true JPS6116365U (ja) 1986-01-30

Family

ID=30658423

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9890584U Pending JPS6116365U (ja) 1984-06-28 1984-06-28 薄膜蒸着装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6116365U (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4999972A (ja) * 1973-01-31 1974-09-20
JPS55154570A (en) * 1979-05-18 1980-12-02 Nec Corp Protecting method for vacuum deposition apparatus mechanism parts

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4999972A (ja) * 1973-01-31 1974-09-20
JPS55154570A (en) * 1979-05-18 1980-12-02 Nec Corp Protecting method for vacuum deposition apparatus mechanism parts

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6116365U (ja) 薄膜蒸着装置
JPS5842994U (ja) 静電シ−ルド容器用材料
JPS5946237U (ja) 複合フイルム
JPS5963297U (ja) 高圧容器
JPS6093757U (ja) スパツタリング装置
JPS59164237U (ja) 蒸着装置
JPS60185657U (ja) 薄膜形成装置
JPS5912867U (ja) 電子写真用感光体製造装置
JPS59103772U (ja) 薄膜気相成長装置
JPS5834956U (ja) 真空蒸着における排気装置
JPS5865363U (ja) 管球用ガラスバルブへの金属反射膜の蒸着装置
JPH0330258U (ja)
JPS5877041U (ja) 薄膜気相成長用気化装置
JPS59103771U (ja) 薄膜気相成長装置
JPS5912866U (ja) 真空蒸着装置
JPS58120645U (ja) 真空処理装置
JPS5868935U (ja) 片面に薬剤を施したテ−プ又はフイルム
JPS5916166U (ja) 磁気抵抗素子
JPS6094821U (ja) プラズマcvd装置
JPS6057125U (ja) 半導体気相成長装置
JPS5999980U (ja) 自己融着性エナメル線ボビンの収納容器
JPS60191044U (ja) ジアゾ複写材料
JPS5839038U (ja) 半導体素子の蒸着治具
JPS5973234U (ja) 調理容器
JPS5885344U (ja) 半導体基板用キヤリア