JPS5912866U - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
- Publication number
- JPS5912866U JPS5912866U JP10920782U JP10920782U JPS5912866U JP S5912866 U JPS5912866 U JP S5912866U JP 10920782 U JP10920782 U JP 10920782U JP 10920782 U JP10920782 U JP 10920782U JP S5912866 U JPS5912866 U JP S5912866U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum deposition
- deposition equipment
- vacuum
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- deposited
- Prior art date
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- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は本考案の一実施例の真空蒸着装置の断面図、第
２図はその被蒸着物支持体の平面図、第３図は別の実施
例の被蒸着物支持体の断面図である。 １・・・真空ペルジャー、２・・・蒸発源、６・・・被
蒸着物支持体（回転ドーム）、９・・・被蒸着物（シリ
コ ・ン板）、１２・・・貫通孔。
２図はその被蒸着物支持体の平面図、第３図は別の実施
例の被蒸着物支持体の断面図である。 １・・・真空ペルジャー、２・・・蒸発源、６・・・被
蒸着物支持体（回転ドーム）、９・・・被蒸着物（シリ
コ ・ン板）、１２・・・貫通孔。
Claims (1)
- 真空槽内に回転可能に配置された曲率中心が蒸発源側に
ある曲面状の支持体の内面に被蒸着物が支持されるもの
において、支持体が全面に分布した貫通孔を有すること
を特徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10920782U JPS5912866U (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10920782U JPS5912866U (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5912866U true JPS5912866U (ja) | 1984-01-26 |
Family
ID=30254484
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10920782U Pending JPS5912866U (ja) | 1982-07-19 | 1982-07-19 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5912866U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6222621U (ja) * | 1985-07-25 | 1987-02-10 |
-
1982
- 1982-07-19 JP JP10920782U patent/JPS5912866U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6222621U (ja) * | 1985-07-25 | 1987-02-10 |
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