JPS5842157U - 真空蒸着装置 - Google Patents

真空蒸着装置

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JPS5842157U
JPS5842157U JP13527381U JP13527381U JPS5842157U JP S5842157 U JPS5842157 U JP S5842157U JP 13527381 U JP13527381 U JP 13527381U JP 13527381 U JP13527381 U JP 13527381U JP S5842157 U JPS5842157 U JP S5842157U
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JP
Japan
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vacuum deposition
deposition equipment
substrate holder
mask
deposition chamber
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JP13527381U
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藤崎 博
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日本電気株式会社
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の実施例を示す構成図、第2図イは基板
ホルダーの平面図、第2図口は基板ホルダーの側面図、
第3図は半導体基板をマスクを介して取付けた基板ホル
ダーの断面図である。 1・・・・・・蒸着室、2・・・・・・ホルダ、3・・
・・・・加熱源、9・・・・・・マスク。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 蒸着室内の下部にソースの加熱源を設け、その上方に向
    き合せてドーム型の基板ホルダーを回転可能に配設し、
    該基板ホルダーに多数の孔を開口し、各孔内に所要のパ
    ターンを有するマスクを装備したことを特徴とする真空
    蒸着装置。
JP13527381U 1981-09-11 1981-09-11 真空蒸着装置 Granted JPS5842157U (ja)

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JP13527381U JPS5842157U (ja) 1981-09-11 1981-09-11 真空蒸着装置

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JPS5842157U true JPS5842157U (ja) 1983-03-19
JPS6120031Y2 JPS6120031Y2 (ja) 1986-06-17

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS609241U (ja) * 1983-06-28 1985-01-22 株式会社東芝 太陽光発電設備

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS609241U (ja) * 1983-06-28 1985-01-22 株式会社東芝 太陽光発電設備

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JPS6120031Y2 (ja) 1986-06-17

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