JPS6116266B2 - - Google Patents
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- JPS6116266B2 JPS6116266B2 JP9710780A JP9710780A JPS6116266B2 JP S6116266 B2 JPS6116266 B2 JP S6116266B2 JP 9710780 A JP9710780 A JP 9710780A JP 9710780 A JP9710780 A JP 9710780A JP S6116266 B2 JPS6116266 B2 JP S6116266B2
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- JP
- Japan
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- compound
- reaction
- ether
- solution
- methyl
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- Epoxy Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な2−(1−メチル−2−プロペ
ニル)−3−ヒドロキシウンデカン酸誘導体に関
する。
ニル)−3−ヒドロキシウンデカン酸誘導体に関
する。
本発明の2−(1−メチル−2−プロペニル)−
3−ヒドロキシウンデカン酸誘導体は文献末載の
新規化合物であつて、下記一般式(1)で表わされ
る。
3−ヒドロキシウンデカン酸誘導体は文献末載の
新規化合物であつて、下記一般式(1)で表わされ
る。
〔式中Rは低級アルカノイル基を示す。また1
位のカルボキシ基と3位の水酸基とは縮合により
結合してラクトン環を形成してもよい。〕 本明細書において低級アルカノイル基としては
例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチ
リル、イソブチリル、ペンタノイル、tert−ブチ
ルカルボニル、ヘキサノイル基等を挙げることが
できる。
位のカルボキシ基と3位の水酸基とは縮合により
結合してラクトン環を形成してもよい。〕 本明細書において低級アルカノイル基としては
例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチ
リル、イソブチリル、ペンタノイル、tert−ブチ
ルカルボニル、ヘキサノイル基等を挙げることが
できる。
本発明の化合物は種々の方法により製造される
が、その好ましい一例を挙げれば例えば下記反応
行程式−1に示す方法に従い製造される。
が、その好ましい一例を挙げれば例えば下記反応
行程式−1に示す方法に従い製造される。
〔式中Rは前記に同じ。〕
化合物(2)と化合物(3)との反応には通常のアルド
ール縮合反応の反応条件を広く適用できる。該反
応は例えば塩基の存在下適当な溶媒中にて有利に
進行する。塩基としては通常のアルドール縮合で
使用される塩基を広く使用でき、例えばリチウム
ジイソプロピルアミド、リチウムN−イソプロピ
ルシクロヘキシルアミド、リチウムジエチルアミ
ド、n−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム
等を挙げることができる。斯かる塩基の使用量と
しては特に限定がなく広い範囲内で適宜選択する
ことができるが、通常化合物(2)に対て2倍モル量
〜過剰量程度、好ましくは2〜2.5倍モル量用い
るのがよい。また溶媒としては反応に悪影響を及
ぼさないものを広く使用でき、例えばジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジ
グライム等のエーテル類、n−ヘキサン、石油エ
ーテル、シクロヘキサン等の飽和炭化水素類、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類等を挙げることができる。化合物(2)と化合物(3)
との使用割合としては特に制限がなく広範囲から
適宜選択でき、通常前者に対して後者を等モル〜
過剰量程度、好ましくは等モル〜1.5倍モル量用
いるのがよい。該反応は通常−78℃〜室温程度、
好ましくは−78℃〜−40℃程度にて行なわれ、一
般に3〜10時間程度にて反応は終了する。
ール縮合反応の反応条件を広く適用できる。該反
応は例えば塩基の存在下適当な溶媒中にて有利に
進行する。塩基としては通常のアルドール縮合で
使用される塩基を広く使用でき、例えばリチウム
ジイソプロピルアミド、リチウムN−イソプロピ
ルシクロヘキシルアミド、リチウムジエチルアミ
ド、n−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウム
等を挙げることができる。斯かる塩基の使用量と
しては特に限定がなく広い範囲内で適宜選択する
ことができるが、通常化合物(2)に対て2倍モル量
〜過剰量程度、好ましくは2〜2.5倍モル量用い
るのがよい。また溶媒としては反応に悪影響を及
ぼさないものを広く使用でき、例えばジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジ
グライム等のエーテル類、n−ヘキサン、石油エ
ーテル、シクロヘキサン等の飽和炭化水素類、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類等を挙げることができる。化合物(2)と化合物(3)
との使用割合としては特に制限がなく広範囲から
適宜選択でき、通常前者に対して後者を等モル〜
過剰量程度、好ましくは等モル〜1.5倍モル量用
いるのがよい。該反応は通常−78℃〜室温程度、
好ましくは−78℃〜−40℃程度にて行なわれ、一
般に3〜10時間程度にて反応は終了する。
化合物(1a)のラクトン化には通常のラクトン
形成反応の反応条件を広く適用できる。該反応は
例えば縮合剤の存在下適当な溶媒中にて有利に進
行する。縮合剤としては通常のラクトン形成反応
で用いられる縮合剤を広く使用でき、例えば無水
酢酸、無水プロピオン酸等の低級脂肪酸の酸無水
物、オルト蟻酸エチル、オルト酢酸エチル等のオ
ルトエステル類、クロル蟻酸エチル、クロル酢酸
エチル等のハロゲン置換カルボン酸のエステル
類、塩化ベンゾイル等の酸ハロゲン化物、五酸化
リン等の脱水剤、塩化ベンゼンスルホニル等のア
リールスルホニルハロゲン化化合物、塩酸、硫酸
等の鉱酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸等のアリールスルホン酸類、塩化チオニ
ル等を挙げることができる。斯かる縮合剤の使用
量としては特に限定がなく広い範囲内で適宜選択
することができるが、通常化合物(1a)に対して
等モル量〜過剰量程度、好ましくは2〜3倍モル
量用いるのがよい。また溶媒としては反応に悪影
響を及ぼさないものを広く使用でき、例えばベン
ゼン、クロロホルム、ジクロルメタン、ジメチル
ホルムアミド、ピリジン等、好ましくはピリジン
を挙げることができる。該反応は通常−20℃〜50
℃程度、好ましくは0〜10℃にて進行し、一般に
5〜10時間程度にて反応は終了する。
形成反応の反応条件を広く適用できる。該反応は
例えば縮合剤の存在下適当な溶媒中にて有利に進
行する。縮合剤としては通常のラクトン形成反応
で用いられる縮合剤を広く使用でき、例えば無水
酢酸、無水プロピオン酸等の低級脂肪酸の酸無水
物、オルト蟻酸エチル、オルト酢酸エチル等のオ
ルトエステル類、クロル蟻酸エチル、クロル酢酸
エチル等のハロゲン置換カルボン酸のエステル
類、塩化ベンゾイル等の酸ハロゲン化物、五酸化
リン等の脱水剤、塩化ベンゼンスルホニル等のア
リールスルホニルハロゲン化化合物、塩酸、硫酸
等の鉱酸、p−トルエンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸等のアリールスルホン酸類、塩化チオニ
ル等を挙げることができる。斯かる縮合剤の使用
量としては特に限定がなく広い範囲内で適宜選択
することができるが、通常化合物(1a)に対して
等モル量〜過剰量程度、好ましくは2〜3倍モル
量用いるのがよい。また溶媒としては反応に悪影
響を及ぼさないものを広く使用でき、例えばベン
ゼン、クロロホルム、ジクロルメタン、ジメチル
ホルムアミド、ピリジン等、好ましくはピリジン
を挙げることができる。該反応は通常−20℃〜50
℃程度、好ましくは0〜10℃にて進行し、一般に
5〜10時間程度にて反応は終了する。
本発明において出発原料として用いられる化合
物(2)及び化合物(3)はいずれも公知の化合物であ
る。化合物(2)は好ましくは下記反応行程式−2に
示す方法に従い製造される。
物(2)及び化合物(3)はいずれも公知の化合物であ
る。化合物(2)は好ましくは下記反応行程式−2に
示す方法に従い製造される。
〔式中R1は低級アルキル基を、R2は低級アル
キル基、アリール基又はアラルキル基を、Xはハ
ロゲン原子を、X′はハロゲン原子、アルカンス
ルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基
又はアラルキルスルホニルオキシ基を、Mはアル
カリ金属原子又はアルカリ土類金属原子をそれぞ
れ示す。〕 反応行程式−2においてR1,R2,X,X′及び
Mで示される各基はより具体的には以下の通りで
ある。
キル基、アリール基又はアラルキル基を、Xはハ
ロゲン原子を、X′はハロゲン原子、アルカンス
ルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基
又はアラルキルスルホニルオキシ基を、Mはアル
カリ金属原子又はアルカリ土類金属原子をそれぞ
れ示す。〕 反応行程式−2においてR1,R2,X,X′及び
Mで示される各基はより具体的には以下の通りで
ある。
低級アルキル基……メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、tert−ブチル、ペン
チル、ヘキシル基等。
ル、イソプロピル、ブチル、tert−ブチル、ペン
チル、ヘキシル基等。
アリール基……フエニル、4−メチルフエニ
ル、2−メチルフエニル、4−ニトロフエニル、
4−メトキシフエニル、3−クロルフエニル、α
−ナフチル、β−ナフチル基等。
ル、2−メチルフエニル、4−ニトロフエニル、
4−メトキシフエニル、3−クロルフエニル、α
−ナフチル、β−ナフチル基等。
アラルキル基……ベンジル、2−フエニルエチ
ル、4−フエニルブチル、4−メチルベンジル、
2−メチルベンジル、4−ニトロベンジル、4−
メトキシベンジル、3−クロルベンジル、α−ナ
フチルメチル基等。
ル、4−フエニルブチル、4−メチルベンジル、
2−メチルベンジル、4−ニトロベンジル、4−
メトキシベンジル、3−クロルベンジル、α−ナ
フチルメチル基等。
ハロゲン原子……塩素、臭素、弗素、沃素等。
アルカンスルホニルオキシ基……メタンスルホ
ニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、イソプロ
パンスルホニルオキシ、プロパンスルホニルオキ
シ、ブタンスルホニルオキシ、tert−ブタンスル
ホニルオキシ、ペンタンスルホニルオキシ、ヘキ
サンスルホニルオキシ基等。
ニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、イソプロ
パンスルホニルオキシ、プロパンスルホニルオキ
シ、ブタンスルホニルオキシ、tert−ブタンスル
ホニルオキシ、ペンタンスルホニルオキシ、ヘキ
サンスルホニルオキシ基等。
アリールスルホニルオキシ基……フエニルスル
ホニルオキシ、4−メチルフエニルスルホニルオ
キシ、2−メチルフエニルスルホニルオキシ、4
−ニトロフエニルスルホニルオキシ、4−メトキ
シフエニルスルホニルオキシ、3−クロルフエニ
ルスルホニルオキシ、α−ナフチルスルホニルオ
キシ基等。
ホニルオキシ、4−メチルフエニルスルホニルオ
キシ、2−メチルフエニルスルホニルオキシ、4
−ニトロフエニルスルホニルオキシ、4−メトキ
シフエニルスルホニルオキシ、3−クロルフエニ
ルスルホニルオキシ、α−ナフチルスルホニルオ
キシ基等。
アラルキルスルホニルオキシ基……ベンジルス
ルホニルオキシ、2−フエニルエチルスルホニル
オキシ、4−フエニルブチルスルホニルオキシ、
4−メチルベンジルスルホニルオキシ、2−メチ
ルベンジルスルホニルオキシ、4−ニトロベンジ
ルスルホニルオキシ、4−メトキシベンジルスル
ホニルオキシ、3−クロルベンジルスルホニルオ
キシ、α−ナフチルメチルスルホニルオキシ基
等。
ルホニルオキシ、2−フエニルエチルスルホニル
オキシ、4−フエニルブチルスルホニルオキシ、
4−メチルベンジルスルホニルオキシ、2−メチ
ルベンジルスルホニルオキシ、4−ニトロベンジ
ルスルホニルオキシ、4−メトキシベンジルスル
ホニルオキシ、3−クロルベンジルスルホニルオ
キシ、α−ナフチルメチルスルホニルオキシ基
等。
アルカリ金属原子……ナトリウム、カリウム
等。
等。
アルカリ土類金属原子……カルシウム等。
化合物(4)とと化合物(5)との反応は例えば塩基性
化合物の存在下適当な溶媒中にて行なわれる。塩
基性化合物としては例えば水素化ナトリウム、カ
リウム、ナトリウム、ナトリウムアミド、カリウ
ムアミド、リチウムジイソプロピルアミド、リチ
ウムN−イソプロピルシクロヘキシルアミド、リ
チウムジエチルアミド等を挙げることができ、ま
た溶媒としては例えばジオキサン、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメ
チルリン酸トリアミド等を挙げることができる。
化合物(4)と化合物(5)との使用割合としては特に限
定されず、広範囲から適宜選択できるが、通常前
者に対して後者を少なくとも等モル量程度以上、
好ましくは等モル〜2倍モル量用いるのがよい。
該反応は通常−78〜70℃程度、好ましくは−78℃
〜室温付近にて行なわれ、一般に0.5〜12時時間
程度で反応は終了する。
化合物の存在下適当な溶媒中にて行なわれる。塩
基性化合物としては例えば水素化ナトリウム、カ
リウム、ナトリウム、ナトリウムアミド、カリウ
ムアミド、リチウムジイソプロピルアミド、リチ
ウムN−イソプロピルシクロヘキシルアミド、リ
チウムジエチルアミド等を挙げることができ、ま
た溶媒としては例えばジオキサン、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメ
チルリン酸トリアミド等を挙げることができる。
化合物(4)と化合物(5)との使用割合としては特に限
定されず、広範囲から適宜選択できるが、通常前
者に対して後者を少なくとも等モル量程度以上、
好ましくは等モル〜2倍モル量用いるのがよい。
該反応は通常−78〜70℃程度、好ましくは−78℃
〜室温付近にて行なわれ、一般に0.5〜12時時間
程度で反応は終了する。
化合物(6)の還元は一般に適当な溶媒中にて行な
われる。溶媒としては反応に悪影響を及ぼさない
ものを広く使用でき、例えばテトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタ
ン、ジグライム等を挙げることができる。また還
元剤としてはエステルをアルコールに還元する還
元剤を広く使用でき、例えば水素化アルミニウム
リチウム、水素化硼素ナトリウム等、好ましくは
水素化アルミニウムリチウムを挙げることができ
る。斯かる還元剤を化合物(6)に対して通常大過剰
量用いるのがよい。該反応は通常−60〜50℃程
度、好ましくは−30℃〜室温にて行なわれ、一般
に10分〜3時間程度で反応は終了する。
われる。溶媒としては反応に悪影響を及ぼさない
ものを広く使用でき、例えばテトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタ
ン、ジグライム等を挙げることができる。また還
元剤としてはエステルをアルコールに還元する還
元剤を広く使用でき、例えば水素化アルミニウム
リチウム、水素化硼素ナトリウム等、好ましくは
水素化アルミニウムリチウムを挙げることができ
る。斯かる還元剤を化合物(6)に対して通常大過剰
量用いるのがよい。該反応は通常−60〜50℃程
度、好ましくは−30℃〜室温にて行なわれ、一般
に10分〜3時間程度で反応は終了する。
化合物(7)と化合物(8)との反応は一般に脱酸剤の
存在下適当な不活性溶媒中にて行なわれる。脱酸
剤としては炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸
化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ナトリウム
アミド、水素化ナトリウム、トリエチルアミン、
トリプロピルアミン、ピリジン、キノリン等を例
示でき、また不活性溶媒としては塩化メチレン、
クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン等の芳香族炭化水素類、ジメチルス
ルホキシド、ジメチルホルムアミド、ピリジン等
を例示できる。化合物(7)と化合物(8)との使用割合
としては特に限定されず広い範囲内から適宜選択
することができるが、通常前者に対して後者を等
モル量程度以上、好ましくは等モル〜2倍モル量
用いるのがよい。該反応は通常−30〜50℃程度、
好ましくは0℃〜室温付近いて行なわれ、一般に
1〜12時間程度で反応は終了する。
存在下適当な不活性溶媒中にて行なわれる。脱酸
剤としては炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、水酸
化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ナトリウム
アミド、水素化ナトリウム、トリエチルアミン、
トリプロピルアミン、ピリジン、キノリン等を例
示でき、また不活性溶媒としては塩化メチレン、
クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン等の芳香族炭化水素類、ジメチルス
ルホキシド、ジメチルホルムアミド、ピリジン等
を例示できる。化合物(7)と化合物(8)との使用割合
としては特に限定されず広い範囲内から適宜選択
することができるが、通常前者に対して後者を等
モル量程度以上、好ましくは等モル〜2倍モル量
用いるのがよい。該反応は通常−30〜50℃程度、
好ましくは0℃〜室温付近いて行なわれ、一般に
1〜12時間程度で反応は終了する。
化合物(7)とハロゲン化剤との反応は適当な不活
性溶媒中にて行なわれる。用いられる不活性溶媒
としては例えばジオキサン、テトラヒドロフラン
等のエーテル類、クロロホルム、塩化メチレン等
のハロゲン化炭化水素類等を挙げることができ
る。またハロゲン化剤としては例えばN,N−ジ
エチル−1,2,2−トリクロルビニルアミド、
五塩化リン、五臭化リン、オキシ塩化リン等を挙
げることができる。ハロゲン化剤の使用量として
ては特に限定がなく広い範囲内で適宜選択するこ
とができるが、化合物(7)に対して通常少なくとも
2倍モル量程度、好ましくは過剰量用いられる。
該反応は通常室温〜100℃程度、好ましくは40〜
70℃にて行なわれ、一般に1〜6時間程度で反応
は終了する。
性溶媒中にて行なわれる。用いられる不活性溶媒
としては例えばジオキサン、テトラヒドロフラン
等のエーテル類、クロロホルム、塩化メチレン等
のハロゲン化炭化水素類等を挙げることができ
る。またハロゲン化剤としては例えばN,N−ジ
エチル−1,2,2−トリクロルビニルアミド、
五塩化リン、五臭化リン、オキシ塩化リン等を挙
げることができる。ハロゲン化剤の使用量として
ては特に限定がなく広い範囲内で適宜選択するこ
とができるが、化合物(7)に対して通常少なくとも
2倍モル量程度、好ましくは過剰量用いられる。
該反応は通常室温〜100℃程度、好ましくは40〜
70℃にて行なわれ、一般に1〜6時間程度で反応
は終了する。
化合物(9)と化合物(10)との反応は、両者を適当な
溶媒中にて加熱することにより行なわれる。用い
られる溶媒としては例えばベンゼン、トルエン、
クロロホルム、ジクロルメタン、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド等を挙げることが
できる。化合物(10)の使用量としては特に限定がな
く広範囲から適宜選択すればよいが、化合物(9)に
対して通常少なくとも等モル量程度、好ましくは
等モル〜2倍モル量用いるのがよい。該反応は通
常40〜100℃程度、好ましくは40〜70℃程度にて
行なわれ、一般に5〜20時間程度で反応は終了す
る。
溶媒中にて加熱することにより行なわれる。用い
られる溶媒としては例えばベンゼン、トルエン、
クロロホルム、ジクロルメタン、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド等を挙げることが
できる。化合物(10)の使用量としては特に限定がな
く広範囲から適宜選択すればよいが、化合物(9)に
対して通常少なくとも等モル量程度、好ましくは
等モル〜2倍モル量用いるのがよい。該反応は通
常40〜100℃程度、好ましくは40〜70℃程度にて
行なわれ、一般に5〜20時間程度で反応は終了す
る。
化合物(11)の加水分解は塩基又は酸の存在下適当
な溶媒中にて加熱することにより行なわれる。塩
基としては水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等
を例示でき、化合物(11)に対して通常少なくとも2
倍モル量程度、好ましくは2〜5倍モル量用いら
れる。また酸としては塩酸、硫酸等を例示でき、
化合物(11)に対して通常大過剰量用いられる。用い
られる溶媒としては例えば水、メタノール、エタ
ノール、エチレングリコール等を挙げることがで
きる。該加水分解反応は通常100〜150℃程度、好
ましくは100〜130℃にて行なわれ、一般に5〜15
時間程度で反応は終了する。
な溶媒中にて加熱することにより行なわれる。塩
基としては水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等
を例示でき、化合物(11)に対して通常少なくとも2
倍モル量程度、好ましくは2〜5倍モル量用いら
れる。また酸としては塩酸、硫酸等を例示でき、
化合物(11)に対して通常大過剰量用いられる。用い
られる溶媒としては例えば水、メタノール、エタ
ノール、エチレングリコール等を挙げることがで
きる。該加水分解反応は通常100〜150℃程度、好
ましくは100〜130℃にて行なわれ、一般に5〜15
時間程度で反応は終了する。
斯くして得られる各々の行程の目的化合物は、
通常の分離手段により容易に単離精製することが
できる。該分離手段としては、例えば溶媒抽出
法、稀釈法、再結晶法、カラムクロマトグラフイ
ー、プレパラテイブ薄層クロマトグラフイー等を
例示できる。
通常の分離手段により容易に単離精製することが
できる。該分離手段としては、例えば溶媒抽出
法、稀釈法、再結晶法、カラムクロマトグラフイ
ー、プレパラテイブ薄層クロマトグラフイー等を
例示できる。
尚本発明は光学異性体も当然に包含するもので
ある。
ある。
本発明の化合物は、下記反応行程式−3に示す
如くチヤノコカクモンハマキ類の性フエロモンで
ある化合物(12)を合成するための中間体として有用
であると共に、それ自身性フエロモン活性を有し
ておりチヤノコカクモンハマキ類の性フエロモン
としても有用である。
如くチヤノコカクモンハマキ類の性フエロモンで
ある化合物(12)を合成するための中間体として有用
であると共に、それ自身性フエロモン活性を有し
ておりチヤノコカクモンハマキ類の性フエロモン
としても有用である。
〔式中Rは前記に同じ。〕
従来化合物(12)の製造法としては例えば下記反応
行程式−4に示す方法が知られている
〔Tsutomu Negishi,Tahetoshi Ishiwatari,
Minoru,Uchida and Shoji Asano,Appl.Ent.
Zool.,14(4),478−483(1979)参照〕。
行程式−4に示す方法が知られている
〔Tsutomu Negishi,Tahetoshi Ishiwatari,
Minoru,Uchida and Shoji Asano,Appl.Ent.
Zool.,14(4),478−483(1979)参照〕。
しかしながら上記従来の方法では、化合物
(B)が主生成物であり、化合物(A)〔化合物(12)
に相当する〕は副生成物として僅か10%程度の割
合で生成するに過ぎず、しかも化合物(A)と化
合物(B)とを分離、精製するのに煩雑な操作を
必要とする。これに対して本発明の化合物
(1b)を原料として用い上記反応行程式−3に示
す方法に従えば、簡便な操作で目的とする化合物
(12)を高純度且つ高収率にて製造し得る。得られる
化合物(12)はシス体とトランス体とを含有してお
り、これらは慣用の精製手段により簡単に分離で
きることは言うまでもない。
(B)が主生成物であり、化合物(A)〔化合物(12)
に相当する〕は副生成物として僅か10%程度の割
合で生成するに過ぎず、しかも化合物(A)と化
合物(B)とを分離、精製するのに煩雑な操作を
必要とする。これに対して本発明の化合物
(1b)を原料として用い上記反応行程式−3に示
す方法に従えば、簡便な操作で目的とする化合物
(12)を高純度且つ高収率にて製造し得る。得られる
化合物(12)はシス体とトランス体とを含有してお
り、これらは慣用の精製手段により簡単に分離で
きることは言うまでもない。
以下に参考例及び実施例を挙げる。
参考例 1
ジイソプロピルアミン14.4g、1.57N−n−ブ
チルリチウムのn−ヘキサン溶液74ml及び乾燥テ
トラヒドロフラン120mlからリチウムジイソプロ
ピルアミドのテトラヒドロフラン溶液を調整す
る。この溶液にアルゴン気流下−70℃で撹拌しな
がら乾燥リン酸ヘキサメチルトリアミド24ml及び
クロトン酸エチル13.6gを加え、30分間撹拌す
る。次いでヨウ化メチル21.6gを滴下し、徐々に
室温まで温度を上げながら3時間撹拌する。反応
液を飽和塩化アンモニウム水溶液に投入し、エー
テルで抽出する。エーテル溶液は硫酸マグネシウ
ムで乾燥後減圧濃縮する。残渣を減圧蒸留して無
色液体のエチル 2−メチル−3−ブテノエート
10.1gを得る。
チルリチウムのn−ヘキサン溶液74ml及び乾燥テ
トラヒドロフラン120mlからリチウムジイソプロ
ピルアミドのテトラヒドロフラン溶液を調整す
る。この溶液にアルゴン気流下−70℃で撹拌しな
がら乾燥リン酸ヘキサメチルトリアミド24ml及び
クロトン酸エチル13.6gを加え、30分間撹拌す
る。次いでヨウ化メチル21.6gを滴下し、徐々に
室温まで温度を上げながら3時間撹拌する。反応
液を飽和塩化アンモニウム水溶液に投入し、エー
テルで抽出する。エーテル溶液は硫酸マグネシウ
ムで乾燥後減圧濃縮する。残渣を減圧蒸留して無
色液体のエチル 2−メチル−3−ブテノエート
10.1gを得る。
沸点 40〜45℃(25mmHg)
参考例 2
水素化リチウムアルミニウム3gを乾燥エーテ
ル100mlに懸濁する。この懸濁液に氷冷撹拌下下
エチル 2−メチル−3−ブテノエート10gの乾
燥エーテル20ml溶液を滴下する。氷冷下にて1時
間、さらに室温で1時間撹拌する。水3ml及び20
%水酸化ナトリウム水溶液20mlを注意深く滴下
し、過剰の水素化リチウムアルミニウムを分解す
る。析出物を去し、エーテルで洗浄する。エー
テル溶液を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。常圧で分留管をつけてエーテルを
留去する。分留管付きクライゼンフラスコで蒸留
して無色液体の2−メチル−3−ブテン−1−オ
ール5.1gを得る。
ル100mlに懸濁する。この懸濁液に氷冷撹拌下下
エチル 2−メチル−3−ブテノエート10gの乾
燥エーテル20ml溶液を滴下する。氷冷下にて1時
間、さらに室温で1時間撹拌する。水3ml及び20
%水酸化ナトリウム水溶液20mlを注意深く滴下
し、過剰の水素化リチウムアルミニウムを分解す
る。析出物を去し、エーテルで洗浄する。エー
テル溶液を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥する。常圧で分留管をつけてエーテルを
留去する。分留管付きクライゼンフラスコで蒸留
して無色液体の2−メチル−3−ブテン−1−オ
ール5.1gを得る。
沸点 120〜127℃
参考例 3
2−メチル−3−ブテン−1−オール18gを乾
燥ピリジン100mlに溶解する。この溶液に氷冷撹
拌下p−トルエンスルホニルクロリド47.9gを加
え、0〜5℃にて2時間撹拌する。反応液を氷水
に投入しエーテルで抽出する。エーテル溶液を硫
酸銅水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。エーテルを留去し、1−トシ
ルオキシ−2−メチル−3−ブテン40.8gを得
る。シアン化カリウム16.6gを乾燥ジメチルスル
ホキシド100mlに溶解し、40℃撹拌下上記で得ら
れる1−トシルオキシ−2−メチル−3−ブテン
40.8gを滴下する。60℃にて16時間撹拌する。反
応液を氷水に投入し、エーテルにて抽出する。エ
ーテル溶液を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。分留管ををつけてエーテルを留
去する。残渣を減圧蒸留して無色液体の3−メチ
ル−4−ペンテンニトリル8.8gを得る。
燥ピリジン100mlに溶解する。この溶液に氷冷撹
拌下p−トルエンスルホニルクロリド47.9gを加
え、0〜5℃にて2時間撹拌する。反応液を氷水
に投入しエーテルで抽出する。エーテル溶液を硫
酸銅水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。エーテルを留去し、1−トシ
ルオキシ−2−メチル−3−ブテン40.8gを得
る。シアン化カリウム16.6gを乾燥ジメチルスル
ホキシド100mlに溶解し、40℃撹拌下上記で得ら
れる1−トシルオキシ−2−メチル−3−ブテン
40.8gを滴下する。60℃にて16時間撹拌する。反
応液を氷水に投入し、エーテルにて抽出する。エ
ーテル溶液を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。分留管ををつけてエーテルを留
去する。残渣を減圧蒸留して無色液体の3−メチ
ル−4−ペンテンニトリル8.8gを得る。
沸点 42〜43℃(15mmHg)
参考例 4
水酸化カリウム15.6gを水20mlに溶解し、次い
で3−メチル−4−ペンテンニトリル8.8g及び
エチレングリコール60mlを加えて120〜130℃にて
9時間加熱する。冷却後反応液を水で希釈し、エ
ーテル抽出して中性物質を除去する。水層を濃塩
酸で酸性とし、エーテル抽出を行なう。エーテル
溶液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥する。エーテルを留去後残渣を減圧蒸留して
無色液体の3−メチル−4−ペンテン酸8.6gを
得る。
で3−メチル−4−ペンテンニトリル8.8g及び
エチレングリコール60mlを加えて120〜130℃にて
9時間加熱する。冷却後反応液を水で希釈し、エ
ーテル抽出して中性物質を除去する。水層を濃塩
酸で酸性とし、エーテル抽出を行なう。エーテル
溶液を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥する。エーテルを留去後残渣を減圧蒸留して
無色液体の3−メチル−4−ペンテン酸8.6gを
得る。
沸点 80〜85℃(15mmHg)
n14 D1.4315
参考例 5
3−(1−メチル−2−プロペニル)−4−(8
−アセトキシオクチル)オキセタン−2−オン
0.15gを140〜150℃にて2時間加熱する。冷却後
カラムクロマトグラフイー〔メルク社、キーゼル
ゲル60〕で精製する。n−ヘキサン−エーテル
(50:1)で溶出して無色液体の11−メチル−
9,12−トリデカジエニルアセテート0.1gを得
る。
−アセトキシオクチル)オキセタン−2−オン
0.15gを140〜150℃にて2時間加熱する。冷却後
カラムクロマトグラフイー〔メルク社、キーゼル
ゲル60〕で精製する。n−ヘキサン−エーテル
(50:1)で溶出して無色液体の11−メチル−
9,12−トリデカジエニルアセテート0.1gを得
る。
沸点 140〜150℃(0.25mmHg)
n14 D1.4550
実施例 1
ジイソプロピルアミン1.3g、1.45N−n−ブチ
ルリチウムのn−ヘキサン溶液8.6ml及び乾燥テ
トラヒドロフラン13mlからリチウムジイソプロピ
ルアミドのテトラヒドロフラン溶液を調整する。
この溶液にヘキサメチルリン酸トリアミド1mlを
加えた後、0℃にて撹拌しながら3−メチル−4
−ペンテン酸0.6gの乾燥テトラヒドロフラン5
ml溶液を滴下する。室温にて2時間撹拌し、ジア
ニオンを生成せしめる。また他のフラスコに9−
アセトキシ−ノナナール1gの乾燥テトラヒドロ
フラン5ml溶液を入れ、−70℃に冷却する。アル
ゴン気流下同温度で撹拌しながら上記で生成する
ジアニオンのテトラヒドロフラン溶液を滴下し、
−70℃にて3時間撹拌する。次いで同温度で撹拌
下10%塩酸40mlを滴下する。室温まで戻しエーテ
ルで抽出する。エーテル溶液を飽和食塩水で洗浄
後硫酸マグネシウムで乾燥する。エーテルを留去
し、カラムクロマトグラフイーで精製する。クロ
ロホルム−メタノール(50:1)で溶出して2−
(1−メチル−2−プロペニル)−11−アセトキシ
−3−ヒドロキシ−ウンデカン酸1.4gを得る。
この化合物はNMRスペクトルにより同定する。
ルリチウムのn−ヘキサン溶液8.6ml及び乾燥テ
トラヒドロフラン13mlからリチウムジイソプロピ
ルアミドのテトラヒドロフラン溶液を調整する。
この溶液にヘキサメチルリン酸トリアミド1mlを
加えた後、0℃にて撹拌しながら3−メチル−4
−ペンテン酸0.6gの乾燥テトラヒドロフラン5
ml溶液を滴下する。室温にて2時間撹拌し、ジア
ニオンを生成せしめる。また他のフラスコに9−
アセトキシ−ノナナール1gの乾燥テトラヒドロ
フラン5ml溶液を入れ、−70℃に冷却する。アル
ゴン気流下同温度で撹拌しながら上記で生成する
ジアニオンのテトラヒドロフラン溶液を滴下し、
−70℃にて3時間撹拌する。次いで同温度で撹拌
下10%塩酸40mlを滴下する。室温まで戻しエーテ
ルで抽出する。エーテル溶液を飽和食塩水で洗浄
後硫酸マグネシウムで乾燥する。エーテルを留去
し、カラムクロマトグラフイーで精製する。クロ
ロホルム−メタノール(50:1)で溶出して2−
(1−メチル−2−プロペニル)−11−アセトキシ
−3−ヒドロキシ−ウンデカン酸1.4gを得る。
この化合物はNMRスペクトルにより同定する。
NMRスペクトル δppn(90MHz、CCl4)
1.27(14H、br,s)
1.00〜1.20(3H,m)
1.97(3H,s)
2.10〜3.90(3H,m)
3.98(2H,t,J=6Hz)
4.90〜6.20(3H,m)
実施例 2
2−(1−メチル−2−プロペニル)−11−アセ
トキシ−3−ヒドロキシウンデカン酸0.3gを乾
燥ピリジン6mlに溶解する。氷冷撹拌下ベンゼン
スルホニルクロライド0.35gを加え、30分間撹拌
する。冷蔵庫で一晩放置後反応液を氷水に投入
し、エーテルで抽出する。エーテル溶液を硫酸銅
水溶液、飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥する。エーテルを留去して
3−(1−メチル−2−プロペニル)−4−(8−
アセトキシオクチル)オキセタン−2−オン0.2
gを得る。この化合物はNMRスペクトルにより
同定する。
トキシ−3−ヒドロキシウンデカン酸0.3gを乾
燥ピリジン6mlに溶解する。氷冷撹拌下ベンゼン
スルホニルクロライド0.35gを加え、30分間撹拌
する。冷蔵庫で一晩放置後反応液を氷水に投入
し、エーテルで抽出する。エーテル溶液を硫酸銅
水溶液、飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、硫
酸マグネシウムで乾燥する。エーテルを留去して
3−(1−メチル−2−プロペニル)−4−(8−
アセトキシオクチル)オキセタン−2−オン0.2
gを得る。この化合物はNMRスペクトルにより
同定する。
NMRスペクトル δppn(90MHz、CCl4)
1.00〜1.20(3H,m)
1.32(14H,br.s)
1.95(3H,s)
2.40〜3.40(2H,m)
3.96(2H,t,J=6Hz)
4.00〜4.20(1H,m)
4.90〜6.00(3H,m)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 〔式中Rは低級アルカノイル基を示す。また1
位のカルボキシ基と3位の水酸基とは縮合により
結合してラクトン環を形成してもよい。〕 で表わされる2−(1−メチル−2−プロペニ
ル)−3−ヒドロキシウンデカン酸誘導体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9710780A JPS5721348A (en) | 1980-07-15 | 1980-07-15 | 2- 1-methyl-2-propenyl -3-hydroxyundecanoic derivative |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9710780A JPS5721348A (en) | 1980-07-15 | 1980-07-15 | 2- 1-methyl-2-propenyl -3-hydroxyundecanoic derivative |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5721348A JPS5721348A (en) | 1982-02-04 |
JPS6116266B2 true JPS6116266B2 (ja) | 1986-04-28 |
Family
ID=14183367
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9710780A Granted JPS5721348A (en) | 1980-07-15 | 1980-07-15 | 2- 1-methyl-2-propenyl -3-hydroxyundecanoic derivative |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5721348A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4017107B2 (ja) * | 2002-11-12 | 2007-12-05 | 独立行政法人農業・食品産業技術総合研究機構 | 新規エステル化合物及びその用途 |
-
1980
- 1980-07-15 JP JP9710780A patent/JPS5721348A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5721348A (en) | 1982-02-04 |
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