JPS61161278A - ３‐置換インドールの調製方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は価値ある医薬品であるある種の３−置換Ｎ−ピ
リジルインドールの新規でかつ有利な調製方法に関する
。本発明は父上記の薬学的に活性な化合物を得る為の有
用な中間体であり、更に又価値ある医薬特性を有する新
規なりトン、該ケトン全得る為の方法並びにそれ等の使
用にも関する。

〔発明の構成及び効果〕

本発明は、次式１： （式中、Ａｒは３−もしくは４−ピリジル又は低級アル
キルによって置換された３−もしくは４−ピリジルであ
り；Ｒ４は水素、ハロダン、トリフルオロメチル、低級
アルキル、ヒドロキシ、アシル化もしくはエーテル化ヒ
ドロキシ、低級アルキルチオであり；又は隣接炭素原子
上の２個のＲ１はアルキレンジオキシを表わし；ｐは１
又は２であり；Ｒ２は水素又は低級アルキルを表わし；
ＥはＣ１〜Ｃ１１アルキレン、フェニレン、０１〜Ｃ６
アルキレンーフエニレン、Ｃ１〜Ｃ６アルキレンー（チ
オモジくはオキシ）−低級アルキレン、Ｃ１〜Ｃ６アル
キレンー（チオもしくはオキシ）−フェニレン、Ｃ１〜
Ｃ６アルキレン一フエニレンー低級アルキレン、フェニ
レン−低級アルキレンを表わし；又はＥは直接結合ヲ表
わし；Ｂはカルボキシ、エステル化カルボキシもしくは
カル・々モイルを表わすって表わされる３−置換Ｎ−ピ
リジルインドール、又はその医薬として許容し得る塩の
調製方法全提供するものであり、この方法は、次式■： 以下余白 Ａｒ （式中、Ａｒ　Ｉ　Ｒ１＋　Ｒ２＋　Ｐ　＋　Ｅおよび
Ｂは式１で定義された意味を有する）で表わされる化合
物のケト基を選択的に脱酸素し、この間、必要ならば妨
害反応基を一時的に保獲し、更に、所望により引き続き
得られた式１の化合物を式１の他の化合物に変換し、更
に所望によシ、得られた遊離化合物を塩に変換し又は得
られた塩を遊離化合物又は他の塩に変換することを含ん
でなる。

以下に説明する式■及び式■の好ましい化合物を含む、
式ＩＫよって包含される化合物は、哺乳動物におけるト
ロンボキサンシンターゼ抑制剤として有用であり、更に
その様なものとしてヨーロッパ特許出願１２６，４０１
に開示されている。従ってそれ等は哺乳動物におけるト
ロンボキサンシンターゼ抑制反応する疾患、主に心臓血
管疾患例えば血栓症、アテローム、冠痙筆、大脳虚血性
発作、偏頭痛及び他の血管性頭痛、心筋梗塞、狭心症及
び高血圧症の治療に対し有用である。

式ｌの化合物の製法に対する、ヨーロッパ特許出願１２
６，４０１に記載された全ての方法は幾つかの欠点を有
している。即ちそれ等は商業入手可能な薬品から出発し
て多くの工程全台み更に／又は収率が低く更に／又は試
剤が高価である。先に定義した式１の化合物の製造の為
に言及される全てのプロセスのうち相対的に最高のもの
は以下の如きウィティッヒ型縮合金経由するものである
：■ Ａｒ 以下余白 ＣＱＱＥｔ Ａｒ このプロセスは実験室での小規模においては良好に進行
するが、工業的規模にスケールをアップした場合、多く
の困難が生起する：ウィティッヒ型反応工程が、工業的
スケールで取シ扱うのに非常に困難である。何故ならば
（、）金属有機試剤が湿気に非常に鋭敏であること及び
（ｂ）０℃よりも播かに低い温度に冷却すること全達成
しかつ制御し碌ければ々らない。更に、工業的プロセス
で冷却スることは著しく高価であり、特にこの場合にお
ける如く水冷却は充分でない。

驚くべきことに式１の化合物を工業的規模で生産させ得
る新規なプロセスは、商業的に入手可能な薬品から出発
して少数の工程を経由しかつ高収率で進行し、従って費
用が節約出来る。その全体反応は例えば次の如くである
： 以下余白 Ａｒ ウィティッヒタイプ反応図式において用いられる如き同
じ出発材料から出発し、新規ガプロセスは僅か二（三の
代り）工程を経由し、金属有機試剤に伴う問題を避ける
ことが出来更に著しく高側々冷却を不必要とする。

新規なプロセスの発明に対し、式ＩＶの新規ケト中間体
を考え出さねばならず、更に、それ等に対し有利な合成
方法全開発しなければならなかった。

進歩的プロセスが驚くべきことにカル列？キシ、エステ
ル化カルボキシ又はカルバモイルの存在下ケト基を高収
率で選択的に還元する問題を解決する。

本発明で用いられる一般的定義は本発明の範囲内で次の
意味を有する。

語句「Ｃ１〜Ｃ４１アルキレン」は直鎖もしくは分枝鎖
のＣ１〜Ｃ１１アルキレンを表わし、好ましくはエチレ
ン、ゾロピレン、ブチレン、Ｒメチレン、ヘキシレン又
はヘゾチレン、一種以上の低級アルキル基によって置換
されているか又は未置換のその様な基であるが但し炭素
数の合計は１１以下である。

語句フェニレンは１３、２−１１３、３−及び好ましく
は１３、４−７エニレンを表わす。

有機基、基又は化合物に関しそれぞれ先に及び以下に言
及される場合において語句「低級」は、７まで及び７を
含み、好ましくは４まで及び４を含み更に好都合には−
、二、又は三個の炭素原子を有するものとして定義され
る。

Ｃ−Ｃアルキレンフェニレン基、Ｃ４〜Ｃ６アルキレン
フエニレンー低級アルキレン基、Ｃ１〜Ｃ６アルキレン
ー（チオ又はオキシ）−フェニレン基は好ましくは１〜
４個の炭素原子を有し、更に好都合にはアルキレン部分
に一個又は二個の炭素原子を有する。アルキレン部分は
直鎖又は分枝鎖である。

Ｃ１〜Ｃ６アルキレンー（チオ又はオキシ）−低級アル
キレン基は直鎖又は分枝鎖であり、更に合計２〜１１個
の炭素原子、好ましくは２〜８個の炭素原子を含むこと
が出来る。

低級アルキル基は好ましくは１〜４個の炭素原子を含有
し更に例えばエチル、プロピル、ブチル又は好都合には
メチルを表わす。

低級アルキレン基は好ましくは１〜４個の炭素原子を有
し更Ｋ例えばメチレン、エチレン、１３、３−プロピレ
ン、１３、３−もしくは１，４−ブチレンを表わす。

低級アルキレンジオキシ基は好ましくはエチレンジオキ
シ及びメチレンジオキシを表わす。

低級アルコキシ基は好ましくは１〜４個の炭素原子を含
有し更に例えばエト午シ、ゾロポキシ又は好都合にはメ
トキシを表わす。低級アルキルチオ基は好都合にはメチ
ルチオ基を表わす。

低級アルコキシカルボニル基は好ましくはアルコキシ部
分に１〜４個の炭素原子を有し更に例えばメトキシカル
がニル、プロポキシカルがニル、イソプロポキシカルボ
ニル又は好都合にはエトキシカルボニルを表わす。

ハロゲンは好ましくはフッ素及び塩素であるが、臭素又
はヨウ素をも表わすことが出来る。

例えばアリール−低級アルコキシにおける如きアリール
基は、好１しくはフェニル、低級アルキル、ハロゲンも
しくは低級アルコキシにょυモノーもしくはノー置換さ
れたフェニル、又はビリノルを表わす。

アリール−低級アルコキシ基は好都合にはベンジルオキ
シを表わす。

アシル化ヒドロキシは好ましくは低級アルカノイルオキ
シ、例えばアセチルオキシ、ベンゾイルオキシ、低級ア
ルキル、ハロゲン又は低級アルコキシ、例えはそれぞれ
メチル、塩素又はメトキシによりフェニル環上で置換さ
れたベンゾイルオキシ、又はニコチノイルオキシを表わ
す。

エーテル化ヒドロキシは好ましくは、低級アルコキシ又
はアリール−低級アルコキシ、例えばメトキシ、ベンジ
ルオキシ、低級アルキル、ハロゲン又は低級アルコキシ
、例えばそれぞれメチル、クロロ又はメトキシによジフ
ェニル環上で置換されたペンツルオキシ、又はビリゾル
メトキシを表わす。

エステル化カルボキシは好ましくは医薬として許容され
得るエステルの形でエステル化されたカルボキシを表わ
し、例えば低級アルコキシカルボニル；（アミノ、モノ
−又はジー低級アルキルアミノ）　−置換低級アルコキ
シカルボニル；カルボキシー置換低級アルコキシ力ルデ
ニル、例エバα−カルボキシー置換低級アルコキシカル
ボニル；低級アルコキシカルボニル−置換低級アルコキ
シカルボニル、例エバα−低級アルコキシ力ルポニ＃−
ｉ換低ａアルコキシカルボニル：アリール−置換低級ア
ルコキシカルボニル、例えば所望にょ多置換されたベン
ジルオキシカル？ニル又ハビリジルーメトキシカルＦＩ
ｅニル；（ヒドロキシ、低級アルカノイルオキシ又は低
級アルコキシ）−置換低級アルコキシカルボニル、例、
ｔばビパロイルオキシメトキシ力ルデニル；（ヒドロキ
シ、低級アルカノイルオキシ又は低級アルコキシ）−置
換低級アルコキシメトキシカルがニル；ビシクロアルニ
ア　＋　シカ／Ｌ／　ｚ　＝ルーＩｔ　換低ａアルコキ
シカルぎニル、例、ｔばビシクロ（２，２，１）−へブ
チルオキシカｋＭ＝に−Ｒ換低Ｒアルコキシカルｒニル
、特ニビシクロ〔２，２，１）−ヘグチルオキシヵルゴ
ニルー置換メトキシ例えばボルニルオキシ力ルデニルメ
トキシ力ルデニル；３−７タリドキシカルｒニル；（（
１１アルキル、低級アルコキシ、ハロ）−＆を換３−フ
タリドキシカル号？ニル、低級アルコキシカルボニルオ
キシ−低級アルコキシカルボニル、例えば１−（メトキ
シ−もしくはエトキシカル７ｉＰニルオキシ）−エトキ
シカルボニル；アリールオキ’　−力”−”　ル、例工
ばフェノキシカル−？ニル又はカルボキシ又は低級アル
コキシカルボニルによりオルト位で好ましく置換された
フェノキシカルぎニルである。

医薬として許容され得る塩は好ましくは遊離カルボキシ
基を有する式１の化合物の金属もしくはアンモニウム塩
、更に好ましくはアルカリもしくはアルカリ土類金属塩
、例えばナトリウム、カリウム、マグネシウムもしくは
カルシウム塩；又は好都合にはアンモニア又は有機アミ
ン、例えばモ／−、シーモしくはトリー低級（アルキル
、シクロアルキル又はヒドロキシアルキル）−アミン、
低級アルキレンジアミン又は低級（ヒドロキシアルキル
もしクハアルアルキル〕−アルキルアンモニウムヒドロ
キシド、例えばメチルアミン、ジエチルアミン、トリエ
チルアミン、ジシクロペキンルアミン、トリエタノール
アミン、エチレンジアミン、トリス−（ヒドロキシメチ
ル）アミノメタン又ハヘンジルトリメチルアンモニウム
ヒドロキシドの如き有機アミンから誘導される、容易に
結晶化するアンモニウム塩である。

式１の化合物は、好ましくは医薬として許容され得る無
機もしくは有機酸の酸付加塩であり、そのような無機も
しくは有機酸は、例えば強鉱酸、例えばハロゲン化水素
、例えば塩化水素又は臭化水素酸；硫酸、燐酸、硝酸又
は過塩素酸；脂肪族もしくは芳香族カルデン酸又はスル
ホン酸、例えば酢酸、プロピオン酸、コハク酸、グルタ
ル酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸、ゲルコール酸、クエン
酸、アスコルビン酸、マレイン酸、７マール酸、ピハＩ
Ｊル酸、フェニル酢酸、安息香酸、４−アミノ安息香酸
、アントラニル酸、４−ヒト９０キシ安息香酸、サリチ
ル酸、４−アミンサリチル酸、・母モイック酸、ニコチ
ン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ヒドロキ
シエタンヌルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエ
ンヌルホン酸、ナフタレンスルホン酸、スルファニルａ
もしくｎシクロヘキシルスルファミン酸でアル。

本発明の好ましい態様は、式１（式中Ａｒが３−ピリジ
ルであ’Ｉ　：　Ｒ１が水素、ハロゲン、トリフルオロ
メチル、低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルキル
チオ、ヒドロキシ又は低級アルカノイルオキシであり；
ｐが１でありＳＲ２が水素又は低級アルキルを表わし；
Ｅが先に定義した意味であす；更にＢがカルボキシ、低
級アルコキシカルＨ？ニル又はカルバモイルを表わす）
の化合物、又はその医薬として許容され得る酸付加塩の
製造に関する。

本発明のプロセスは更に、式１（式中ＥがＣ２〜Ｃアル
キレン、フェニレン、Ｃ１〜Ｃ３アルギレンフェニレン
、Ｃ１〜Ｃ５アルキレン−チオフェニレン又ハＣ１〜Ｃ
３アルキレンーオキシーンエニレンを表わし；Ｂがカル
ボキシ又は低級アルコキシカルボニルでありＳＲ１が水
素、低級アルキル、ハロゲン、トリフルオロメチル、ヒ
ドロキシ、低級アルキルチオ又は低級アルコキシであり
；ｐが１であ、ｐ：Ａｒが３−ピリジルであ、ｊｌ）　
；　Ｒ２が水素又は低級アルキルである〕化合物又はそ
の医薬として許容され得る塩に関する。

本発明のプロセスは特に、式ｌ（式中Ｅは２〜７個の炭
素原子を有するアルキレンである）の化合物の製造に対
し有用である。

本発明の特に好ましい態様は、式■： 以下余白 （式中、Ｒ１′は水素、低級アルキル、ハロゲン、トリ
フルオロメチル、ヒドロキシ、低級アルキルチオもしく
は低級アルコキシを表わし；Ｒ２′は水素又は低級アル
キルを表わし：ｍは１〜１０の整数を表わし；Ｒ４はヒ
ドロキシ、低級アルコキシ又はアミンを表わす）で表わ
される化合物、又は医薬として許容され得る塩を調製す
るための本発明方法である。

更に詳しくは、本発明方法は式ＩＩ（式中Ｒ１′は水素
、メチル、クロロ、フルオロ、トリフルオロメチル、ヒ
ドロキシ、メチルチオ又はメトキシを表わし−Ｒ２′は
水素を表わし；ｍは３〜８の整数を表わし；Ｒ４はヒド
ロキシ、エトキシ、メトキシ又はアミンを表わす〕の化
合物、又はその医薬として許容され得る塩の製造に対し
有用である。

本発明方法は特に式ＩＩ（式中Ｒ１′及びＲ２′は水素
を表わし；ｍは３，４又は５であり；Ｒ４はヒドロキシ
、メトキシ又はエトキシを表わす）の化合物、又はその
医薬として許容され得る塩の調製に対し特に有用である
。

更に本発明の好ましい態様は、式■： （式中、Ｒ、ｌは水素、低級アルキル、へロダン、トリ
フルオロメチル、ヒドロキシ、低級アルキルチオもしく
は低級アルコキシを表わし：Ｒ２′は水素又は低級アル
キルを表わし；Ｒ４はヒドロキシ、低級アルコキシ又は
アミノを表わし；ｎは２〜４の整数を表わすが、もしも
Ｗが１，４−７ェニレンを示す場合１であってもよく；
ＷはＣ１〜Ｃ４の（チオもしくはオキシ〕アルキレン、
（チオもしくハオキシ）−１，４−フェニレン又は１，
４−フェニレンを表わす）で表わされる化合物、又はそ
の医薬として許容し得る塩の調製のための本発明方法で
ある。

特に、実施例に記載される式Ｉ（式■及び式■を含む）
の化合物又はその医薬として許容され得る塩の調製に対
し、本発明方法は好ましい。

式■及び式■の好ましい化合物の調製に対し、それぞれ
式Ｖ及び弐■： の好せしい中間体が用いられる：前記式中Ｒ１′、Ｒ’
、ｍ、ｎ、Ｗ及びＲ４はそれぞれ式■及び式■の化合物
に対し先に定義した意味と同じである。

インドール環に直接結合しているカルカフニル基がメチ
レンに脱酸素される本発明に係る脱酸素プロセスに対し
、式■（式■及び■を含む）の化合物を、該カルボニル
基をメチレンに脱酸素する為の選択的還元条件のもとで
処理し、好都合には存在する他の官能基、即ちカルボキ
シ、エステル化カルボキシもしくはカルボキサミド基を
殆んど又は全く還元せしめない。

この脱酸素を達成する為の好ましい試剤は、好まし７く
酸性条件下例えば脂肪族、芳香族、又は環状アミン、例
えばｔ−ブチルアミン、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ノエチルア
ニリン、ツインノロビルアミン、４−ツメチルアミノピ
リジン、ツメチルアミン、４−メチルモルホリン等との
アミン錯体の形態にあるポランである。

ポラン−アミン錯体による脱酸素は、好ましくは酸性極
性溶剤、好都合には低級アルカン酸、例えば酢酸中、更
に不活性溶剤と共に又は用いずに、又はトルエン、テト
ラヒドロフラン、又はジグリムの如き不活性溶剤中、塩
化アンモニウム、四塩化錫の如きルイス酸の存在下約Ｏ
℃〜１００℃の温度で、好都合には室温又は室温近くで
好ましく行われる。

本発明プロセスに係るカルシトニル基の脱酸素は、例え
ばコンブレヒンスイブ　オーガニック　ケミストリイ第
１巻（１，Ｆ、ストダルトによシ編集、１０７９〜１０
８１頁〕に記載される如く当業者に公知の他のカルボニ
ルの脱酸素方法を用いて行うことも出来る。適用出来る
方法には次のものが含まれる；接触的水素添加；例えば
酸性条件下亜鉛アマルガム又は錫を用いるクレメンゼン
還元；例えばナトリウムシアノゾロヒドリドとのトシル
ヒドラゾン誘導体の如きカルボニル基能基のヒドラゾン
誘導体の還元；例えばアゾビス−（インブチロニトリル
）の存在下ラネイニッケル又はトリブチル錫ヒドリドに
よるチオケタール誘導体、例えばエチレンソチオ誘導体
の選択的脱硫。

カルボニル基の更に別の脱酸素はジポランにおける還元
である。

式■（式Ｖ及び式■を含む〕の新規な中間体は、酸性触
媒の存在下、好ましくはルイス酸の存在下、式■（又は
式■ａ）： （両式中、Ａｒ　、　Ｒ１，Ｒ２及びｐは式Ｉの化合物
に対し先に定義された意味と同じであり、更にＲ１′及
びＲ２′はそれぞれ式■及び弐■で定義された意味と同
じである）で聚わされる化合物を、式■ＨＯＯＣ−Ｅ−
Ｂ　　　　　　　　　（■）で表わされる化合物、（文
武■ａ又は式■ｂの化金物） ＨｏｏＣ−（ＣＨ２）、１−ＣＯＲ４ＨＯＯＣ−（ＣＨ
２）ｎ−１−Ｗ−ＣＯＲ４（■ａ）（■ｂ） （式中Ｅ及びＢ　（ｍ　、　ｎ　、　Ｒａ及びＷ）は先
に定義した意味を有する）で表わされる化合物、又は好
ましくはその反応性官能誘導体を用いてアシル化するこ
とにより調製される。

式■、■ａ又は■ｂのカルボン酸の反応性官能誘導体は
、例えばノ・ログン化アシル例えば酸クロリド、Ｂ又は
Ｃ０Ｒ４がカルボキシを表わす場合単純無水物、混合無
水物、例えば低級アルキルノ１０カルボネート例えばク
ロルギ酸エチル及び当業者に周知のものを含む。

式■又は■ａのインドールと式■、■ａ又は■ｂの遊離
カルボン酸との縮合は、例えばポリ燐酸又はポリ燐酸エ
ヌテルの存在下不活性溶剤中例えばクロロホルム又はエ
チレンジクロリドの存在中、好ましくは高温で行われる
。

式■又は■ａのインドールと式■、■ａ又は■ｂのカル
ボン酸の反応性官能誘導体、例えば酸クロリドとの縮合
は、ルイス酸、例えば四塩化銀、四塩化チタン、三フッ
化ホウ素エーテル化合物の存在下、塩化メチレンの如き
極性溶剤中室源又は高温で好都合には室温で行われる。

式■及び式■ａの出発物質は公知である（例えばＪ、　
Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、　（Ｃ）　１９７０．８５）である
か又は対応する所望により名、換されたインドールから
同様に調製される。

式■、■ａ又は■ｂの出発物質及びその官能性誘導体も
又公知であるか、当業者に周知の方法で調製される。

先に説明したプロセスは驚くべきことに式ＩＶの新規化
合物を高収率で製造する有利な方法を提供する。フリー
デルクラフト条件下３位のインドールの選択的アシル化
は今日まで、少数の特別な場合、即ち一定の置換基が分
子中に存在する場合（例えばＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　
Ｌｅｔｔ、　　における２−アミノにおけるアミノ、１
９７１３、３０４９）にのみ達成出来た。更に、Ｎ−ア
リールもしくはＮ−アルキル置換インドールは、これま
でこの方法によってはアシル化され得なかった。これに
反し、Ｎ−アリール−３−アシル−インドールは常に他
のルート、主にｐ−ベンゾキノンと適当なアミン又はイ
ミンとの反応により又は３−アシル化インドールのＮ−
アリール化により調製せねばならなかった。従って、上
記のプロセスが式ＩＶの中間体に有利な接近を与えるで
あろうことは期待出来なかった。

更に、弐ＩＶの中間体は、トロム？キサン合成抑制剤と
して有用である。

式ＩＶの新規な中間体を提供することにより、式１の価
値ある医薬化合物を経済的にかつ技術的に有利な方法で
調製する為の合成ルートが開かれる。

式ＩＶの化合物を調製し次いでそれを先に説明した如く
脱酸素することから成る式１の化合物の調製に対する二
工程プロセスは本発明の他の目的を形成する。

式１（式■及び式■を含む）の化合物及び弐■（式Ｖ及
び式■を含む〕の中間体は、酸付加塩、及び金属もしく
はアンモニウム塩（Ｂ（又はＣＯＲ）はカルボキシを表
わす）を形成する。許容出来る塩は好ましくは先に説明
した医薬として許容され得る塩である。

上記反応は、希釈剤、好ましくは試剤に不活性である希
釈剤および試剤の溶剤の存在又は非存在下、触媒の存在
又は非存在下、又は縮合剤又は他の試剤の存在又は非存
在下および／又は不活性ガス雰囲気の存在又は非存在下
、低温、室温又は高温で、好ましくは使用する溶剤の沸
点近くで、大気圧で又は高圧下で、標準方法によシ行な
われる。

本発明は更にプロセスの変法を含み、ここにおいてその
任意の工程で中間生成物は出発原料として用いられ更に
残シの工程を実施するか、又はプロセスをその任意の段
階で中断することも出来、或いは又ここにおいて出発材
料は反応条件下で形成されるか又はここにおいて反応成
分はそれ等の塩の形態で使用される。望む場合にはいつ
でも、上記プロセスは相当に妨害性のある反応性官能基
を当業者に周知の方法によりまず適当に保護した後行わ
れる。

本明細書で説明した方法で最終生成物に変換される出発
化合物及びその中間体において、存在する官能基、例え
ばカルボキシ及びヒドロキシは調製有機化学においてあ
シふれだ通常の保護基によシ所望によシ保護される。保
護されたカルボキシ及びヒドロキシ基は、分子構造を破
壊することなく又は他の望ましくない副反応が起こるこ
ともなく穏やかガ条件下で遊離カル号？キシ及びヒドロ
キシ基に変換出来るような基である。

これ等の条件、これ等の導入及び除去に適合する周知の
保護基は、例えばＪ、Ｆ、Ｗ、ムクミーによる［Ｐｒｏ
ｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ
　ＣｈｅｍＩｓｔｒｙＪ（グレニュウム出版社、ロンド
ン、ニューヨーク１９７３）、Ｔ、Ｗ、グリーン［Ｐｒ
ｏｔｅｅｔｌｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓｉｎ　Ｏｒｇａｎｉｃ
　５ｙｎｔｈｅｓｉ８Ｊ　（ライレイ、ニューヨーク１
９８４）及び又ハウペンーヴ工り４　［Ｍｅ　ｔｈｏｄ
ｅｎｄｅｒ　Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ　Ｃｈｅｍｉｅ　
Ｊ　（１，５／　１巻、グルクティーメフェルラークス
ツッツガルツ　１３、９７４）に記載されている。

好都合には、これ等の出発材料は好ましいものとして先
に示したこれ等の化合物の形成にいたらしめる該反応に
おいて用いるべきである。

上記化合物又は中間体の混合物が得られる場合、それ等
はそれ自身公知の方法により、例えば分別蒸留、結晶化
又はクロマトグラフィー法により個個の異性体に分離出
来る。

ラセミ生成物及び中間体は、例えばそのシアストレオマ
ー塩の分離により、例えばｄ−もしくはノー（タートレ
ート、ジベンゾイルタートレート、マンプレート又はカ
ンファースルホネート）塩の分別結晶により光学対掌体
に分割出来る。

ラセミ生成物又はラセミ酸性中間体は又、例えば酸性の
塩形成基を有するその様な化合物のｄ−及ヒノー（α−
メチルペンツルアミン、シンコニジン、シンコニン、キ
ニン、キニジン、エフェドリン、デヒドロアビエチルア
ミン、ブルシン又はヌトリテニン）塩の分離によシ分割
出来る。

化合物は遊離の形で、又はその塩として何れかで得られ
る。遊離化合物及びその塩の形態にある化合物の間で密
接な関係かあることを考慮すれば、これに関連して化合
物が言及される」場合はいつでも、対応する塩も意図さ
れるものである。但しその様なことが環境条件下可能で
ありかつ適当な場合である。

得られる遊離化合物は対応する酸付加塩、好ましくは医
薬として許容され得る酸又はイオン交換調製品を用いて
対応する酸付加塩に変換出来る。

得られた酸付加塩は例えば１モル当量の塩基、例えば金
属水酸化物もしくは水酸化アンモニウム又は塩基性塩、
例えばアルカリ金属水酸化物もしくは炭酸塩、又はカチ
オン交換調製品を用いて対応する遊離化合物に変換出来
る。遊離カルｉｔン酸は又対応する金属もしくはアンモ
ニウム塩に変換出来る。これ等或いは他の塩は又得られ
た化合物の精製に対しても用いられ、塩は分離され更に
遊離化合物は塩から遊離される。

それ等の塩を含む化合物は又、それ等の水和物の形でも
得られるか、又は結晶化に対し用いられる他の溶剤を含
むことも出来る。

本発明方法によって得られる式ｌの化合物は、例えばヨ
ーロッパ特許出願１２６，４０１に記載される化合物に
対応し、それ等の同一性は例えば融点、薄層クロマトグ
ラフィーにおける移動、高圧液体クロマトグラフィーに
おける移動並びにスペクトル方法例えば赤外及び核磁気
共鳴スペクトルによる比較で決定される。

次に本発明の詳細な説明するが、これは本発明を何等制
限するものではない。温度は摂氏で表わされる。特に言
及しない限シ、全ての蒸発は減圧下、好ましくは約２０
〜１３０ミリバー　ルの圧力下で行われる。

〔実施例〕

例１ ａ）１０、ＯＦのＮ−（３−ピリジル）−インドール（
Ｊ、　Ｃｈｅｗ、　Ｓｏｅ、　Ｃ１９７０、８５）及び
塩化メチレン９０ｍ／に溶解した１３．８Ｆのグルタル
酸モノエチルエステルクロリドの混合物に、塩化メチレ
ン６０ゴに溶解した２０．１ノの四塩化錫２０．１ノ溶
液を３時間に亘って滴下する。反応混合物を室温で一夜
攪拌する。反応混合物を１０〜１５°に冷却し次いで１
５０ｍＪの１４係水酸化アンモニウム水溶液を添加する
。有機層を分離し、水で洗浄し次いで硫酸す）　ＩＪウ
ムで乾燥し３−（１−オキソ−４−エトキシカルぜニル
ブチル）−Ｎ−（３−ピリジル〕−インドールを融点９
５〜９７゜で得る。

同様に以下の化合物を得る。

ドール； 一ル； ンドール； ｈ）３−（１−オキソ−４−エトキシカルボニルブチル
）−５−クロロ−Ｎ−（３−ピリジル）−インドール 上記生成物に対応する置換Ｎ−（３−ピリジル）−イン
ドール出発原料は、Ｊ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓａｃ、　Ｃ１
９７０゜８５に従って対応するＮ−未置換インドールか
ら得られる。

例２ １５．０ノの３−（１−オキソ−４−エトキシカルボニ
ルブチル）−Ｎ−（３−ピリジル）−インドール及び１
００ｍＪの０゜５Ｎ水酸化す）　ＩＪウムの混合物を、
１６時間加熱還流する。溶液を塩酸でＰＨ約６に酸性化
し次いで塩化メチレンで抽出する。

塩化メチレン抽出液を硫酸ナトリウムで乾燥し次いて蒸
発乾固し融点１７７〜１７８°を有する３−（１−オキ
ソ−４−カルボキシブチル）　−Ｎ　−（３−ビリジル
）−インドールを得る。

３−（１−オキノー４−カルボキシブチル）−Ｎ−（３
−ピリジル）−インドールも又、四塩化錫の存在下無水
グルタル酸でＮ−（３−ピリジル）−インドールを処理
することにより得ることも出来る。

同様に例１のエステルｂ）〜ｋ）に対応する式Ｖ（式中
Ｒ４はヒドロキシを表わす）のオキソ−カルボン酸を得
る。

例３ ａ）７ＦｌｌＪの氷酢酸に溶解した５ノの３−（１−オ
キソ−４−エトキシカルがニルブチル）−Ｎ−（３−ピ
リジル）−インドールの溶液に５Ｆの？ランー第三グチ
ルアミン錯体を添加する。反応混合物を室温で一夜攪拌
する。反応混合物を濃縮し、水を残留物に添加し次いで
生成物を塩化メチレンで抽出する。有機層を分離し、ま
ず濃炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、次いで飽和塩化す）
　ＩＪウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し次い
で蒸発乾固し融点５６〜５８°の３−（４−エトキシカ
ル−ｒニルブチル）−Ｎ−（３−ビｌＪジル）−インド
ールを得る。

ｂ）８５ｍ７の水性ＩＮ水酸化ナトＩＪウム溶液に懸濁
せしめた０、４６ｊｌ’の３−（４−エトキシカルぎニ
ルブチル）−Ｎ−（３−ピリジル）−インドールの懸濁
液を９５°で８時間加熱する。得られた溶液を塩酸で一
約５．５に中和する。生成沈殿物を濾過し、次いでアセ
トニトリルで砕き融点１２２〜１２４°の３−（４−カ
ルボキシブチル）−Ｎ−（３−ピ＋Ｊジル）−インドー
ル（ヨーロッパ特許出願１２６，４０１）を得る。

例４ ２５ｍ１のテトラヒドロフランに溶解した０、５Ｆの３
−（１−オキソ−４−エトキシカルボニルブチル）−Ｎ
−（３−ピリジル）−インドールの溶液に、０．６９の
がランー第三ブチルアミン錯体及び０．６　ＴＬｌの氷
酢酸を添加する。反応混合物を９０゜で加熱し次いで高
圧液体クロマトグラフィーで監視する。反応が完結した
ら、反応混合を減圧下で蒸発させ、水及び塩化メチレン
を添加し、ＰＨを炭酸ナトリウム溶液で７〜８に調節し
、有機相を分離し、水で洗浄し、乾燥し次いで蒸発乾固
し３−（４−エトキシカルボニルブチル）−Ｎ−（３−
ピリジル）−インドールヲ得る。

例５ 苔のようガ亜鉛（３，１ｙ）を、０．３１Ｆの塩化第二
水銀、０．１５ｍＡ’の濃塩酸及び４ｍＪの水の混合物
を５分間処理し、次いで溶液をデカントし、７．５４の
水及び１７．５　ｍｌの濃塩酸及び１０ｍ１のトルエン
を添加し、引き続き１ノの３−（１−オキソ−４−エト
キシカルがニルブチル）−Ｎ−（３−ピリジル）−イン
ドールを添加する。反応混合物を２４時間加熱還流する
。反応混合物をＩＮ水酸化ナトリウムでｐＨ５に調節し
次いで塩化メチレンで抽出する。塩化メチレン溶液を水
で洗浄し、硫酸す）　ＩＪウムで乾燥し次いで蒸発乾固
し３−（４−カルボキシブチル）−Ｎ−（３−ピリジル
）−インドールを得る。

以下余白 例６ ７、５　ｍｌの氷酢酸に溶解した０、５ｙの３−（１−
オキソ−４−カルぎキシブチル）−Ｎ−（３−ピリジル
）−インドールの溶液に、０．５１１の？ランー第三ブ
チルアミン錯体を添加する。反応混合物を室温で一夜攪
拌する。反応混合物を濃縮し、残留物を１０ｍ１のＩＮ
水酸化ナトリウムに溶解し、水を残留物に添加し、声を
塩酸で５．０に調節し次いで生成物を濾別し、乾燥し３
−（４−カルボキシブチル）−Ｎ−（３−ピリジルクー
インドールを得る。

例７ １５ｍ／の塩化メチレンに溶解した０、５Ｆの３−（１
−オキソ−４−エトキシカルボニルブチル）−Ｎ−（３
−ピリジル）−インドールの溶液に、まｆｏ、４０ノの
塩化アルミニウムを、引き続き０．１７５Ｐのジメチル
アミンがラン錯体を添加する。反応混合物を室温で２４
時間攪拌する。混合部を０°に冷却し次いで１０ｍ１！
の水を滴下する。１０分後、３５ゴのＩＮ水酸化す）　
ＩＪウム水溶液を添加しｐ）Ｉを８に調節する。塩化メ
チレン層を分離し、水相を更に塩化メチレンで抽出し、
塩化メチレン抽出物を一緒にし、水で洗浄し、乾燥し次
いで蒸発乾固し３−（４−エトキシカルボニルブチル）
−Ｎ−（３−ピリジル）−インドールを得る。希水酸化
ナトリウムで加水分解し、３−（４−カルボキシブチル
）−Ｎ−（３−ピリツル）−インドールを得る。

例８ 先の実施例に記載した方法と類似の脱酸素方法によｐ１
式ＩＩ（式中Ｒ４はヒドロキシ又はエトキシを表わす）
の次の化合物を得る ；化合物　　」子−一　　　ニー５　 −Ｉ　　　　　　ＨＨ２ ２ＨＨ３ ３５−ブロモ　　　　Ｈ４ ４ＨＣＨ３４ ５７−メチル　　　　Ｈ４ ６５−メトキシ　　　Ｈ４ ７５−クロロ　　　　Ｈ４ ８５−メチル　　　　Ｈ４ ９Ｈ）ｌ　　　　　　　５

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、次式１： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ａｒは３−もしくは４−ピリジル又は低級アル
   キルによって置換された３−もしくは４−ピリジルであ
   り；Ｒ＿１は水素、ハロゲン、トリフルオロメチル、低
   級アルキル、ヒドロキシ、アシル化もしくはエーテル化
   ヒドロキシ、低級アルキルチオであり；又は隣接炭素原
   子上の２個のＲ＿１はアルキレンジオキシを表わし；ｐ
   は１又は２であり；Ｒ＿２は水素又は低級アルキルを表
   わし；ＥはＣ＿１〜Ｃ＿１＿１アルキレン、フェニレン
   、Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキレン−フェニレン、Ｃ＿１〜Ｃ
   ＿６アルキレン−（チオもしくはオキシ）−低級アルキ
   レン、Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキレン−（チオもしくはオキ
   シ）−フェニレン、Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキレン−フェニ
   レン−低級アルキレン、フェニレン−低級アルキレンを
   表わし；又はＥは直接結合を表わし；Ｂはカルボキシ、
   エステル化カルボキシもしくはカルバモイルを表わす） で表わされる３−置換Ｎ−ピリジルインドール、又はそ
   の医薬として許容し得る塩の調製方法であって、 次式IV： ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中、Ａｒ、Ｒ＿１、Ｒ＿２、ｐ、ＥおよびＢは式
   I で定義された意味を有する） で表わされる化合物のケト基を選択的に脱酸素し、この
   間所望により、妨害反応基を一時的に保護し、さらに所
   望により、引き続き得られた式 I の化合物を他の式 I
   の化合物に変換し、さらに所望により得られた遊離化
   合物を塩に変換しまたは得られた塩を遊離化合物又は他
   の塩に変換することを含んでなる、前記方法。 ２、式 I （式中、Ａｒが３−ピリジルであり；Ｒ＿１
   が水素、ハロゲン、トリフルオロメチル、低級アルキル
   、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、ヒドロキシもし
   くは低級アルカノイルオキシであり；ｐが１であり；Ｒ
   ＿２が水素又は低級アルキルを表わし；Ｅが前記式 I
   で定義された意味を有し；更にＢがカルボキシ、低級ア
   ルコキシカルボニル又はカルバモイルを表わす）で表わ
   される化合物又はその医薬として許容され得る塩の製法
   である特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３、式 I （式中、ＥがＣ＿２〜Ｃ＿９アルキレン、フ
   ェニレン、Ｃ＿１〜Ｃ＿３アルキレンフェニレン、Ｃ＿
   １〜Ｃ＿３アルキレン−チオ−フェニレンもしくはＣ＿
   １〜Ｃ＿３アルキレン−オキシ−フェニレンを表わし；
   Ｂがカルボキシ又は低級アルコキシカルボニルを表わし
   ；Ｒ＿１が水素、低級アルキル、ハロゲン、トリフルオ
   ロメチル、ヒドロキシ、低級アルキルチオ又は低級アル
   コキシを表わし；ｐが１であり；Ａｒが３−ピリジルで
   あり；Ｒ＿２が水素又は低級アルキルを表わす）で表わ
   される化合物又はその医薬として許容され得る塩の製法
   である、特許請求の範囲第１項記載の方法。 ４、Ｅが２〜７個の炭素原子を有するアルキレンを表わ
   す、特許請求の範囲第３項記載の方法。 ５、脱酸素を、酸性条件下アミン錯体の形態にあるボラ
   ンで行う、特許請求の範囲第１項記載の方法。 ６、脱酸素を、式IVのケトンのチオケタール誘導体の還
   元的脱硫により行う、特許請求の範囲第１項記載の方法
   。 ７、脱酸素をジボランで行う、特許請求の範囲第１項記
   載の方法。 ８、次式II； ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒ＿１′は水素、低級アルキル、ハロゲン、ト
   リフルオロメチル、ヒドロキシ、低級アルキルチオもし
   くは低級アルコキシを表わし；Ｒ＿２′は水素又は低級
   アルキルを表わし；ｍは１〜１０の整数を表わし；Ｒ＿
   ４はヒドロキシ、低級アルコキシ又はアミノを表わす） で表わされる化合物、又は医薬として許容され得る塩を
   調製するため、 次式Ｖ： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） （式中、Ｒ＿１′、Ｒ＿２′、ｍおよびＲ＿４は式IIで
   定義された意味と同じである） で表わされる化合物のケト基を酸性条件下アミン錯体の
   形のボランにより選択的に脱酸素することを含んでなる
   、特許請求の範囲第１項記載の方法。 ９、式II（式II中、Ｒ＿１′が水素、メチル、塩素、フ
   ッ素、トリフルオロメチル、ヒドロキシ、メチルチオ又
   はメトキシを表わし；Ｒ＿２′が水素を表わし；ｍが３
   〜８の整数を表わし；Ｒ＿４がヒドロキシエトキシ、メ
   トキシ又はアミノを表わす）で表わされる化合物又はそ
   の医薬として許容され得る塩の製法である、特許請求の
   範囲第８項記載の方法。 １０、式II（式II中、Ｒ＿１′及びＲ＿２′が水素を表
   わし；ｍが３、４又は５であり；Ｒ＿４がヒドロキシ、
   メトキシ又はエトキシを表わす）で表わされる化合物又
   はその医薬として許容され得る塩の製法である、特許請
   求の範囲第８項記載の方法。 １１、式II（式中、Ｒ＿１′及びＲ＿２′が水素を表わ
   し；ｍが３、４又は５を表わし；更にＲ＿４がヒドロキ
   シを表わす）で表わされる化合物を得る為、式Ｖ（式中
   、Ｒ＿１′及びＲ＿２′が水素を表わし；ｍが３、４又
   は５であり更にＲ＿４が低級アルコキシを表わす）の化
   合物のケト基を選択的に脱酸素し次いで引き続き得られ
   た式II（式中、Ｒ＿４は低級アルコキシを表わす）の化
   合物を加水分解する、特許請求の範囲第８項記載の方法
   。 １２、３−（４−エトキシカルボニルブチル）−Ｎ−（
   ３−ピリジル）−インドールを得る、特許請求の範囲第
   １項記載の方法。 １３、３−（４−カルボキシブチル）−Ｎ−（３−ピリ
   ジル）−インドールを得る、特許請求の範囲第１項記載
   の方法。 １４、３−（４−カルボキシブチル）−Ｎ−（３−ピリ
   ジル）−インドールを得る、特許請求の範囲第１１項記
   載の方法。 １５、次式III； ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒ＿１′は水素、低級アルキル、ハロゲン、ト
   リフルオロメチル、ヒドロキシ、低級アルキルチオもし
   くは低級アルコキシを表わし；　Ｒ＿２′は水素又は低
   級アルキルを表わし；Ｒ＿４はヒドロキシ、低級アルコ
   キシ又はアミノを表わし；ｎは２〜４の整数を表わすが
   、もしもＷが１，４−フェニレンを示す場合１であって
   もよく；ＷはＣ＿＿１〜Ｃ＿＿４（チオもしくはオキシ
   ）アルキレン、（チオもしくはオキシ）−１，４−フェ
   ニレン又は１，４−フェニレンを表わす） で表わされる化合物、又はその医薬として許容し得る塩
   の調製のため、 次式IV ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） （式中、Ｒ＿１′、Ｒ＿２′、ｎ、ＷおよびＲ＿４は式
   IIIで定義された意味を有する） で表わされる化合物のケト基を酸性条件下、アミン錯体
   の形態にあるボランを用い選択的に脱酸素することを含
   んでなる、前記方法。 １６、次式IV： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ａｒは３−もしくは４−ピリジル又は低級アル
   キルによって置換された３−もしくは４−ピリジルであ
   り；Ｒ＿１は水素、ハロゲン、トリフルオロメチル、低
   級アルキル、ヒドロキシ、アシル化もしくはエーテル化
   ヒドロキシ、低級アルキルチオであり；又は隣接炭素原
   子上の２個のＲ＿１はアルキレンジオキシを表わし；ｐ
   は１又は２であり；Ｒ＿２は水素又は低級アルキルを表
   わし；ＥはＣ＿１〜Ｃ＿１＿１アルキレンフェニレン、
   Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキレン−フェニレン、Ｃ＿１〜Ｃ＿
   ６アルキレン−（チオもしくはオキシ）−低級アルキレ
   ン、Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキレン−（チオもしくはオキシ
   ）−フェニレン、Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキレン−フェニレ
   ン−低級アルキレン、フェニレン−低級アルキレンを表
   わし；又はＥは直接結合を表わし；Ｂはカルボキシ、エ
   ステル化カルボキシもしくはカルバモイルを表わす）で
   表わされる化合物、又はその医薬として許容し得る塩。 １７、ＥがＣ＿２〜Ｃ＿９アルキレン、フェニレン、Ｃ
   ＿１〜Ｃ＿３アルキレンフェニレン、Ｃ＿１〜Ｃ＿３ア
   ルキレン−チオ−フェニレンもしくはＣ＿１〜Ｃ＿３ア
   ルキレン−オキシ−フェニレンを表わし；Ｂがカルボキ
   シもしくは低級アルコキシカルボニルを表わし、；Ｒ＿
   １が水素、低級アルキル、ハロゲン、トリフルオロメチ
   ル、ヒドロキシ、低級アルキルチオ又は低級アルコキシ
   を表わし；ｐが１であり；Ａｒが３−ピリジルであり；
   Ｒ＿２が水素又は低級アルキルを表わす、特許請求の範
   囲第１６項記載の化合物及びその医薬として許容され得
   る塩。 １８、次式Ｖ： ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） （式中、Ｒ＿１′は水素、低級アルキル、ハロゲン、ト
   リフルオロメチル、ヒドロキシ、低級アルキルチオもし
   くは低級アルコキシを表わし；Ｒ＿２′は水素又は低級
   アルキルを表わし；ｍは１〜１０の整数を表わし；Ｒ＿
   ４はヒドロキシ、低級アルコキシ又はアミノを表わす） で表わされる特許請求の範囲第１６項記載の化合物、又
   はその医薬として許容し得る塩。 １９、Ｒ＿１′及びＲ＿２′が水素を表わし；ｍが３、
   ４又は５であり：更にＲ＿４がヒドロキシ、メトキシ又
   はエトキシを表わす特許請求の範囲第１８項記載の化合
   物及びその医薬として許容され得る塩。 ２０、次式VI； ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） （式中、Ｒ＿１′は水素、低級アルキル、ハロゲン、ト
   リフルオロメチル、ヒドロキシ、低級アルキルチオもし
   くは低級アルコキシを表わし；Ｒ＿２′は水素又は低級
   アルキルを表わし；Ｒ＿４はヒドロキシ、低級アルコキ
   シ又はアミノを表わし；ｎは２〜４の整数を表わすが、
   もしもＷが１，４−フェニレンを示す場合１であっても
   よく；ＷはＣ＿１〜Ｃ＿４の（チオもしくはオキシ）ア
   ルキレン、（チオもしくはオキシ）−１，４−フェニレ
   ン又は１，４−フェニレンを表わす） で表わされる特許請求の範囲第１６項記載の化合物、又
   はその医薬として許容し得る塩。 ２１、３−（１−オキソ−４−エトキシカルボニルブチ
   ル）−Ｎ−（３−ピリジル）−インドールである特許請
   求の範囲第１６項記載の化合物及びその医薬として許容
   され得る塩。 ２２、３−（１−オキソ−４−カルボニルブチル）−Ｎ
   −（３−ピリジル）−インドールである特許請求の範囲
   第１６項記載の化合物及びその医薬として許容され得る
   塩。 ２３、次式IV： ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中、Ａｒは３−もしくは４−ピリジル又は低級アル
   キルによって置換された３−もしくは４−ピリジルであ
   り；Ｒ＿１は水素、ハロゲン、トリフルオロメチル、低
   級アルキル、ヒドロキシ、アシル化もしくはエーテル化
   ヒドロキシ、低級アルキルチオであり；又は隣接炭素原
   子上の２個のＲ＿１はアルキレンジオキシを表わし；ｐ
   は１又は２であり；Ｒ＿２は水素又は低級アルキルを表
   わし；ＥはＣ＿１〜Ｃ＿１＿１アルキレンフェニレン、
   Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキレン−フェニレン、Ｃ＿１〜Ｃ＿
   ６アルキレン−（チオもしくはオキシ）−低級アルキレ
   ン、Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキレン−（チオもしくはオキシ
   ）−フェニレン、Ｃ＿１〜Ｃ＿６アルキレン−フェニレ
   ン−低級アルキレン、フェニレン−低級アルキレンを表
   わし；又はＥは直接結合を表わし；Ｂはカルボキシ、エ
   ステル化カルボキシもしくはカルバモイルを表わす） で表わされる化合物又はその塩の調製方法であって、 次式VII： ▲数式、化学式、表等があります▼（VII） （式中、Ａｒ、Ｒ＿１、Ｒ＿２およびｐは式IVで定義さ
   れた意味と同じである） で表わされる化合物を酸性条件下式VIII： ＨＯＯＣ−Ｅ−Ｂ（VIII） （式中、ＥおよびＢは式IVで定義された意味と同じであ
   る） で表わされる化合物、又はその反応性官能誘導体でアシ
   ル化し、この間必要ならば防害反応基を一時的に保護し
   、更に、所望により引き続き得られた式IVの化合物を式
   IVの他の化合物に変換し；更に所望により、得られた遊
   離化合物を塩に変換し又は塩を遊離化合物又は他の塩に
   変換することを含んでなる、前記方法。