JPS6114964A - 液体噴射記録ヘツドの製造方法 - Google Patents
液体噴射記録ヘツドの製造方法Info
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- JPS6114964A JPS6114964A JP13516784A JP13516784A JPS6114964A JP S6114964 A JPS6114964 A JP S6114964A JP 13516784 A JP13516784 A JP 13516784A JP 13516784 A JP13516784 A JP 13516784A JP S6114964 A JPS6114964 A JP S6114964A
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Classifications
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
-
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- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1635—Manufacturing processes dividing the wafer into individual chips
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、液体噴射記録ヘッドの製造方法に関し、詳し
くは一枚の基板から多数個の液体噴射記録ヘッドを同時
に製造する方法に関する。
くは一枚の基板から多数個の液体噴射記録ヘッドを同時
に製造する方法に関する。
インクジ、エツト記録法などの液体噴射記録法は、記録
時における騒音の発生が無視し得る程度に極めて小さく
、かつ高速記録が可能であり、しかも所謂普通紙に定着
という特別な処理を必要とせずに記録の行々える点にお
いて、最近関心を集めている。
時における騒音の発生が無視し得る程度に極めて小さく
、かつ高速記録が可能であり、しかも所謂普通紙に定着
という特別な処理を必要とせずに記録の行々える点にお
いて、最近関心を集めている。
その中で、例えば特開昭54−51837号公報、ドイ
ツ公開(DOLS )第2843064号公報に記載さ
れている液体噴射記録法は、熱エネルギーを液体に作用
させて、液滴吐出の原動力を得るという点において、他
の液体噴射記録法とは、異なる特長を有している。
ツ公開(DOLS )第2843064号公報に記載さ
れている液体噴射記録法は、熱エネルギーを液体に作用
させて、液滴吐出の原動力を得るという点において、他
の液体噴射記録法とは、異なる特長を有している。
すなわち、上記の公報に開示された記録法では、熱エネ
ルギーの作用を受けた液体が急激な体積の増大を伴う状
態変化を起し、その状態変化に基づく作用力によって、
記録ヘッド部先端のオリフィスから液体を吐出させて、
飛翔的液滴を形成し、その液滴を被記録部材に付着させ
ることにより記録が行なわれる。
ルギーの作用を受けた液体が急激な体積の増大を伴う状
態変化を起し、その状態変化に基づく作用力によって、
記録ヘッド部先端のオリフィスから液体を吐出させて、
飛翔的液滴を形成し、その液滴を被記録部材に付着させ
ることにより記録が行なわれる。
しかして、このような液体噴射記録ヘッドの製造にあた
っては、従来よりコストの低減を図る観点から、一枚の
基板上に複数個の液体噴射記録ヘッド単体を同時に作成
しておき、後でこれらを切断する方法が採用されている
。
っては、従来よりコストの低減を図る観点から、一枚の
基板上に複数個の液体噴射記録ヘッド単体を同時に作成
しておき、後でこれらを切断する方法が採用されている
。
第1図〜第4図は従来のこのような記録ヘッド製造方法
の一例を示すもので、第1図において、1はガラス、セ
ラミック、シリコン若しくけプラスチック等の材料を用
いて形成されたヘッド基板であシ、2は熱発生部、3お
よび4け記録信号入力用の電極である。々お、本例では
説明を分υ易くするために、1つのヘッドに対して2個
の熱発生部2が設けられるものとし、更に、1枚の基板
1から9個の記録ヘッドの単体が作成される場合の例を
述べる。
の一例を示すもので、第1図において、1はガラス、セ
ラミック、シリコン若しくけプラスチック等の材料を用
いて形成されたヘッド基板であシ、2は熱発生部、3お
よび4け記録信号入力用の電極である。々お、本例では
説明を分υ易くするために、1つのヘッドに対して2個
の熱発生部2が設けられるものとし、更に、1枚の基板
1から9個の記録ヘッドの単体が作成される場合の例を
述べる。
まず、基板1上に上述したような熱発生部2や電極3お
よび4が形成された後、その上に5io2゜Ta205
またはガラス等による図示しない薄膜を記録液に対する
保護膜層として形成し、更にこの膜層上に第2図に示す
ような記録液流路壁5および液室枠壁6を配設して、流
路7に沿って熱発生部2が配置されるようにする。
よび4が形成された後、その上に5io2゜Ta205
またはガラス等による図示しない薄膜を記録液に対する
保護膜層として形成し、更にこの膜層上に第2図に示す
ような記録液流路壁5および液室枠壁6を配設して、流
路7に沿って熱発生部2が配置されるようにする。
かくして、第2図に示す状態の基板1の壁5および6の
上に、第3図に示すようなオリフィスプレート8を接合
させるが、オリフィスプレート8にはあらかじめ第1図
および第2図に示した熱発生部2と対応する位置に記録
液吐出口となるオリフィス9が穿設しであるので、オリ
フィス9と熱発生部2との位置合せを行うようにして、
第4図のような状態に接合される。
上に、第3図に示すようなオリフィスプレート8を接合
させるが、オリフィスプレート8にはあらかじめ第1図
および第2図に示した熱発生部2と対応する位置に記録
液吐出口となるオリフィス9が穿設しであるので、オリ
フィス9と熱発生部2との位置合せを行うようにして、
第4図のような状態に接合される。
ただし、上述した工程を経た状態では、基板1には未だ
スクライブライン10は刻まれていない。
スクライブライン10は刻まれていない。
すなわち、従来の製造方法では、このようにヘッド集合
体として仕上げられた工程で、はじめて個々のヘッドに
分割するためのスクライブライン1゜が基板1の背面側
に刻設され、このスクライブライン10に沿って分割し
切出される。なお、このようなスクライブライン10を
刻設する代りに、半導体工業で汎用のダイシング法が用
いられることもあるが、これとても本質的にはスクライ
ブライン10を設ける手法と異質のものではない。
体として仕上げられた工程で、はじめて個々のヘッドに
分割するためのスクライブライン1゜が基板1の背面側
に刻設され、このスクライブライン10に沿って分割し
切出される。なお、このようなスクライブライン10を
刻設する代りに、半導体工業で汎用のダイシング法が用
いられることもあるが、これとても本質的にはスクライ
ブライン10を設ける手法と異質のものではない。
しかしながら、このような従来の液体噴射記録ヘッドの
製造方法にあっては、ダイシング法によるかき傷あるい
はスクライブラインを入れるときに発生する極微小な削
シかすがオリフィス9から流路7や記録液の液室Kまで
入シ込み、容易に除去もできない。そこで、このような
異物のためK、流路7における記録液の流れが阻害され
たり、記録液の正常な吐出が行”われなかったシして、
記録画像や印字の品位低下をもたらす。
製造方法にあっては、ダイシング法によるかき傷あるい
はスクライブラインを入れるときに発生する極微小な削
シかすがオリフィス9から流路7や記録液の液室Kまで
入シ込み、容易に除去もできない。そこで、このような
異物のためK、流路7における記録液の流れが阻害され
たり、記録液の正常な吐出が行”われなかったシして、
記録画像や印字の品位低下をもたらす。
また、このような異物が熱発生部2上に滞留すると、熱
エネルギが記録液に有効に伝達されず、ために正常な吐
出がなされなかったシ、ときには不吐出がおこる。
エネルギが記録液に有効に伝達されず、ために正常な吐
出がなされなかったシ、ときには不吐出がおこる。
本発明の目的は、上述したような問題点に鑑み、高品位
の画像や印字が得られる信頼性の高い液体噴射記録ヘッ
ドの製造方法を提案することにある。
の画像や印字が得られる信頼性の高い液体噴射記録ヘッ
ドの製造方法を提案することにある。
このような目的は、液体噴射がなされる同型の記録ヘッ
ドを基板上に同時に複数個形成してから、この基板を分
割して個々の記録ヘッドを製造するにあたり、あらかじ
め使用基板における分割位置に分割のための傷線を入れ
ておき、しかる後、この基板上に記録ヘッドとしての機
能が得られる諸部材を設ける手順とすることによって達
成される。
ドを基板上に同時に複数個形成してから、この基板を分
割して個々の記録ヘッドを製造するにあたり、あらかじ
め使用基板における分割位置に分割のための傷線を入れ
ておき、しかる後、この基板上に記録ヘッドとしての機
能が得られる諸部材を設ける手順とすることによって達
成される。
以下に1図面に基づいて本発明の実施例を詳細に説明す
る。
る。
第5図〜第7図は本発明の一実施例を示す。第5図にお
いて、基板1は未だ記録ヘッドの機能的部材が構成され
てない状態にある。この基板1は第1図の例と同様に、
プラスチックやガラスあるいはセラミックで形成された
ものでよい。本発明では、かかる基板1の背面IAにお
ける個々の記録ヘッドが分割される位置にあらかじめス
クライプライン100を格子状に刻設する。
いて、基板1は未だ記録ヘッドの機能的部材が構成され
てない状態にある。この基板1は第1図の例と同様に、
プラスチックやガラスあるいはセラミックで形成された
ものでよい。本発明では、かかる基板1の背面IAにお
ける個々の記録ヘッドが分割される位置にあらかじめス
クライプライン100を格子状に刻設する。
なお、この場合、スクライブライン1oOを刻設するこ
とによって生じる粉体がその背面IA等に付着されたま
ま残留するのを防止するために、樹脂系のコーティング
による被膜を先に形成しておき、スクライブライン10
0をひいたあとで被膜を除去するようにすれば、品位向
上に一層効果的である。
とによって生じる粉体がその背面IA等に付着されたま
ま残留するのを防止するために、樹脂系のコーティング
による被膜を先に形成しておき、スクライブライン10
0をひいたあとで被膜を除去するようにすれば、品位向
上に一層効果的である。
次に、基板1の表面を更に清浄した後、第6図に示すよ
うに熱発生部2.記録信号入力用電極3および4を配設
し、5i02などによる図示しない保護被膜を形成して
、流路壁5および枠壁6を第2図の場合と同様な手順で
形成する。
うに熱発生部2.記録信号入力用電極3および4を配設
し、5i02などによる図示しない保護被膜を形成して
、流路壁5および枠壁6を第2図の場合と同様な手順で
形成する。
すなわち、第7図は第2図に対応した工程における構成
状態を示すが、本例ではこの基板1の背面側にスクライ
ブライン100が既に形成されている。
状態を示すが、本例ではこの基板1の背面側にスクライ
ブライン100が既に形成されている。
このあと、第3図に示したと同様なオリフィスプレート
8を流路壁5や枠壁6を形成した上に接合させるが、こ
の場合、個々の記録ヘッドに分割し易いよう、あらかじ
めオリフィスプレート8にも基板1に設けたスクライブ
ライン100と対応して、同様のスクライブラインまた
はミシン目を入れて置くのが好適である。
8を流路壁5や枠壁6を形成した上に接合させるが、こ
の場合、個々の記録ヘッドに分割し易いよう、あらかじ
めオリフィスプレート8にも基板1に設けたスクライブ
ライン100と対応して、同様のスクライブラインまた
はミシン目を入れて置くのが好適である。
なお、以上の説明では基板1の背面IA側にあらかじめ
スクライブライ/100を刻設した例を示したが、これ
に代えて基板1の熱発生部2等を形成する上面側にあら
かじめスクライブライン100を設けるようにしても同
様な効果が得られることはいうまでもない。
スクライブライ/100を刻設した例を示したが、これ
に代えて基板1の熱発生部2等を形成する上面側にあら
かじめスクライブライン100を設けるようにしても同
様な効果が得られることはいうまでもない。
更にまた、以上に述べた実施例では流路壁5を設けた記
録ヘッドの場合について述べたが、本発明の適用はこれ
に限られるものではなく、流路壁5を有しないものや、
流路壁5で完全に支切られて流路室のないものなどこの
種の液体噴射記録ヘッドの製造に広く適用できることは
勿論である。
録ヘッドの場合について述べたが、本発明の適用はこれ
に限られるものではなく、流路壁5を有しないものや、
流路壁5で完全に支切られて流路室のないものなどこの
種の液体噴射記録ヘッドの製造に広く適用できることは
勿論である。
以上説明してきたように、本発明によれば、基板上に液
体噴射記録ヘッドを複数個配設し、この基板から個々の
記録ヘッドに分割して切出す記録ヘッドの製造方法にお
いて記録ヘッドの機能的部材を形成するに先立ち、基板
における個々のヘッド分割位置にあらかじめ切出しを容
易にする傷線を刻設しておき、しかる後、この基板上に
記録ヘッドの機能的部材を設けてから個々の記録ヘッド
を上記の傷線に沿って分割するので、傷線を形設する際
に生じる加工屑が記録ヘッドの機能的部分に入シ込んで
、記録液の流れや吐出を妨げることが防止でき、印字品
位の高い記録ヘッドを製造することができ、しかも記録
ヘッドを量産に適した方法でかつ廉価に製造することが
できる。
体噴射記録ヘッドを複数個配設し、この基板から個々の
記録ヘッドに分割して切出す記録ヘッドの製造方法にお
いて記録ヘッドの機能的部材を形成するに先立ち、基板
における個々のヘッド分割位置にあらかじめ切出しを容
易にする傷線を刻設しておき、しかる後、この基板上に
記録ヘッドの機能的部材を設けてから個々の記録ヘッド
を上記の傷線に沿って分割するので、傷線を形設する際
に生じる加工屑が記録ヘッドの機能的部分に入シ込んで
、記録液の流れや吐出を妨げることが防止でき、印字品
位の高い記録ヘッドを製造することができ、しかも記録
ヘッドを量産に適した方法でかつ廉価に製造することが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は従来の液体噴射記録ヘッドの製造
方法における一枚の基板上に複数の記録ヘッドの機能的
部材を順次に形成する2つの工程段階を示す斜視図、 第3図はその記録ヘッド作成のために第2図に示した基
板上に接合するオリフィスプレートを示す斜視図、 第4図は第3図のA−A’線断面図、 第5図は本発明液体噴射記録ヘッドの製造方法において
、まずその基板に分割のためのスクライブラインを形成
した状態を示す斜ネR,図、第6図および第7図は本発
明製造方法において、第5図示の状態の一枚の基板上に
複数の記録ヘッドの機能的構成部材を順次に形成する2
つの工程段階を示すそれぞれ斜視図である。 1・・・基板、 IA・・・背面、 2・・・熱発生部、 3.4・・・電極、 5・・・流路壁、 6・・・枠壁、 7・・流路、 8・・・オリフィスプレート、 9・・・オリフィス、 10 、100・・・スクライブライン。 第2図 第4図 第5図 第7図
方法における一枚の基板上に複数の記録ヘッドの機能的
部材を順次に形成する2つの工程段階を示す斜視図、 第3図はその記録ヘッド作成のために第2図に示した基
板上に接合するオリフィスプレートを示す斜視図、 第4図は第3図のA−A’線断面図、 第5図は本発明液体噴射記録ヘッドの製造方法において
、まずその基板に分割のためのスクライブラインを形成
した状態を示す斜ネR,図、第6図および第7図は本発
明製造方法において、第5図示の状態の一枚の基板上に
複数の記録ヘッドの機能的構成部材を順次に形成する2
つの工程段階を示すそれぞれ斜視図である。 1・・・基板、 IA・・・背面、 2・・・熱発生部、 3.4・・・電極、 5・・・流路壁、 6・・・枠壁、 7・・流路、 8・・・オリフィスプレート、 9・・・オリフィス、 10 、100・・・スクライブライン。 第2図 第4図 第5図 第7図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)基板上に同型の液体噴射記録ヘッドの機能的部材を
複数個配列して形成し、その基板から個々の前記液体噴
射記録ヘッドを分割し切出して液体噴射記録ヘッドを製
造するにあたり、前記機能的部材を形成するのに先立つ
て、前記基板における前記複数個の液体噴射記録ヘッド
の配列されるべき位置に、前記複数個の液体噴射記録ヘ
ッドの切出しを容易にする切刻溝をあらかじめ刻設して
おくことを特徴とする液体噴射記録ヘッドの製造方法。 2)特許請求の範囲第1項に記載の液体噴射記録ヘッド
の製造方法において、前記切刻溝をあらかじめ刻設する
前記基板にはあらかじめ防塵用の保護膜が形成されてい
ることを特徴とする液体噴射記録ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13516784A JPS6114964A (ja) | 1984-07-02 | 1984-07-02 | 液体噴射記録ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13516784A JPS6114964A (ja) | 1984-07-02 | 1984-07-02 | 液体噴射記録ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6114964A true JPS6114964A (ja) | 1986-01-23 |
Family
ID=15145395
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13516784A Pending JPS6114964A (ja) | 1984-07-02 | 1984-07-02 | 液体噴射記録ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6114964A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61135755A (ja) * | 1984-12-06 | 1986-06-23 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘツドの製造方法 |
JP2006341324A (ja) * | 2005-06-07 | 2006-12-21 | Seiko Epson Corp | 構造体の製造方法および構造体 |
-
1984
- 1984-07-02 JP JP13516784A patent/JPS6114964A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61135755A (ja) * | 1984-12-06 | 1986-06-23 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘツドの製造方法 |
JP2006341324A (ja) * | 2005-06-07 | 2006-12-21 | Seiko Epson Corp | 構造体の製造方法および構造体 |
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