JPS61143360A - 酢酸誘導体もしくはその塩類またはそれらの製造法 - Google Patents

酢酸誘導体もしくはその塩類またはそれらの製造法

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JPS61143360A
JPS61143360A JP60245092A JP24509285A JPS61143360A JP S61143360 A JPS61143360 A JP S61143360A JP 60245092 A JP60245092 A JP 60245092A JP 24509285 A JP24509285 A JP 24509285A JP S61143360 A JPS61143360 A JP S61143360A
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坂根 和夫
Jiro Goto
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、一般式 [式中、R1は水素原子、 アミノ基または保護された
アミ7基、札およびHaはそれぞれ水素原子、ハロケン
原子、低級アルコキシ基またはアリールチオ基 R14
はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基、Xは低
級アルキレン基または式−C−(式中、R6は水素原子
または適当な置換?  −R6 基を有していてもよい有機残基を意味する)で示される
基、ZはNまたはCHをそれぞれ意味する]で示される
酢酸誘導体もしくはその塩類またばそれらの製造法に関
するものである。
この発明の目的化合物(Ilおよび後記のセファロスポ
ラン酸誘導体(2)において、それぞれの分子の構造式
に式−C−で示される部分構造を有する場R6 合には、その部分構造に由来する幾何異性体であるシン
異性体、アンチ異性体およびそれらの異性体の混合体を
包含する。
ここでシン異性体とは式 (式中、RA、尻、R,j、 R’およびZは前記と同
じ意味) で示される基を有する異性体を意味し、アンチ異性体と
は式 (式中 RQ、 RA、R界R6およびZは前記と同じ
意味) で示される基を有する異性体を意味する。
この発明の目的化合物(I)の塩類の好ましい例として
は例えば、゛ナトリクム塩、カリタム塩等のアルカリ金
属塩、カルシタム塩、マグネシウム塩等のアルカリ土類
金属塩等の無機塩基との塩、トリメチルアンモニウム塩
、トリエチルアンモニウム塩等の有機塩基との塩、塩酸
等の酸塩等が挙げられる。
この発明の目的化合物(I)は新規化合物であり、例え
ば、次に示す公知化合物(A−1)、(B−1)、(C
−1a)および(D−1a)から下記に示す製法A −
Qにより製造することができる。
ここで、上記公知化合物(A−1)、(B−1)(C−
1a)および(D−1a)は例えば、次のような文献に
記載される。
化合物(A−1) NHサイティー、$69巻、第 2657頁) 化合物(D−1a) (Al  製法A: H2N−C−R’ +  CH2=C−CNNH (A−1)     (A−2) もしくはその塩類 (A−3) (B)  製法B: (A−1)         (B−1)もしくはその
塩類       もしくはその塩類(A−3) (C)製法C: (C−1)          (C−2)もしくはそ
の塩類        もしくはその塩類(D)製法D
: (D−1)             (D−2)もし
くはその塩類         もしくはその塩類(匂
 製法E: (F)  製法F: (F−1)             (F−2)もし
くはその塩類          もしくはその塩類C
G)  製法G: (G−1)               (G−2>
もしくはその塩類           もしくはその
塩類(H)  製法H: (H−1)           (H−2)(1) 
 製法工: 酸および/もしくは (H−2)    酸無水物   (I−1)(、T)
  製法J: (J−1)    ′)脱離反応   (、T−2)も
しくはその塩類 (K)  製法に: (K−1)             (K−2)もし
くはその塩類 (′LI  製法L: (M)  製法M: またはその塩類           もしくはその塩
類(川 製法N: (N−1)                 (N−
2)もしくはその塩類            もしく
はその塩類(0)製法O: (P)  製法P: (P−1)                (P−2
)もしくけその塩類           もしくけそ
の塩類(Q)  製法Q: (Q−1)             (Q−2)もし
くはその塩類          もしくはその塩類〔
式中、Hi、 HA、HA、R6、R14および2はそ
れぞれ前記と同じ意味、Rk′は保護されたアミ7基、
R6′は適当な置換基を有していてもよい有機残基、R
8はハロゲン原子 R9は保護されたカルボキシ基 R
IOは低級アルキル基 R11は低級アルコキシ基また
はアリールチオ基、R]2け水素原子または低級アルキ
ル基、R13は保護されたカルボキシ基または式−X4
R14または式−〇  R14(式中、x4ムR6 は低級アルキレン基、R6およびR14i1′前記と同
じ意味)で示される基、R111は水素原子またはハロ
ゲン原子、xlは低級アルキレン基または式−C−(式
中、R6は前記と同じ意味)で示される具6 基、X2は低級アルキレン基または基−CO−または式
−C−(式中、R6は前記と同じ意味)で示さR6 れる基、x3は基−CO−または式−c−(式中、ン OR’ R6は前記と同じ意味)で示される基をそれぞれ意味す
る] この発明の目的化合物(Ilは、例えば、一般式 (式中、R越H4現、Xおよび2はそれぞれ前記と同じ
意味、R2l−1水素原子または低級アルコキシ基、4
R3は水素原子または低級アルキル基 R4は水素原子
、ハロゲン原子、カルバモイルオキシメチル基、低級ア
ルキル基、低級アルコキシ基、低級アルカ/イルオキシ
メチル基、低級アルカノイルチオメチル基または適当な
置換基を有していてもよい複素環チオメチル基 R5は
カルボキシ基まだはその誘導体をそれぞれ意味する] で示される細菌感染症予防・治療剤として有用なセファ
ロスポラン酸誘導体もしくはその塩類を合成するための
原料として有用である。
このセファロスポラン酸誘導体重)における塩としては
、例えば、ナトリクム塩、カリクム塩等のアルカリ金属
塩のアルカリ金属塩、カルシタム塩、マグネシクム塩等
のアルカリ土類金属塩、アンモニクム塩等の無機塩基と
の塩、トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリ
ジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、NI
N’−ベンジルエチレンジアミン塩、N−メチルグルカ
ミン塩、ジェタノールアミン塩、トリエタ/−ルアミン
塩、トリス(ヒドロキシメチルアミノ)メタン塩等の有
機アミンとの塩、義酸塩、酢酸塩、マレイン酸塩、酒石
酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ト
ルエンスルホン酸塩等の有機カルボン酸もしくはスルホ
ン酸との塩、塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、りん酸塩
等の無機酸との塩、アルギニン塩、アスパラギン酸塩、
グルタミン酸塩等の塩基性もしくは酸性アミノ酸等との
塩等が挙げられる。
このセファロスポラン酸誘導体側およびその塩類は下記
に示すプロセスにより製造することができる。
プロセス: R’ (式中、R,:、Rシ、R4、R2、R3、R4、R5
、XおよびZはそれぞれ前記と同じ意味) 次に上記一般式の定義について説明する。
なお、この明細書では、別に定めのない限シ“低級”な
る語は、炭素数1〜6を意味するものとする。
保護されたアミン基および保護されたアミノ置換(低級
)アルキルにおけるアミノ基の保護基としてはアシル基
、ベンジル、トリチル、ジフェニルメチル等のアル(低
級)アルキノへ 2−ニトロフェニルチオ等の置換フェ
ニルチオ、4−ニトロベンジリデン等の置換アラルキリ
デン、l−メトキシカルボニル−2−プロピリデン等の
置換アルキリデン、2−エトキシカルボニルシクロへキ
シリデン等の置換(低級)シクロアルキリデン等のアシ
ル基以外の、通常アミノ基の保護基として使用される基
が挙げられる。ここでアシル基としてはカルボン酸、ス
ルホン酸またはカルバミン酸から誘導されるアシル基で
あシ、さらに詳細には置換もしくは非置換カルバモイル
基、脂肪族アシル、芳香環もしくは複素環を含むアシル
を含有する。
このように定義されたアシル基の具体例は次のとおりで
ある。
脂肪族アシルとしては例えば、ホルミル、アセチル、プ
ロピオニル、ブチリル、インブチリル、インバレリル、
オキサリル、サクシニル、ピパロイル等の低級アルカノ
イル基、シクロペンクンカルボニル、シクロヘキサンカ
ルボニル等の低級シクロアルカンカルボニル基、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボ
ニル、インプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル
、第3級ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニ
ル、第3級ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシ
カルボニル等の低級アルコキシカルボニル基、1−シク
ロプロピルエトキシ力ルポニル等の低級シクロアルキル
(低級)アルコキシカルボニル基、メトキシアセチル、
エトキシアセチル、メトキシプロピオニル等の低級アル
コキシアルカメイル基、およびメシル、エクンスルホニ
ル、プロパンスルホニル、ブタンスルホニル基の低級ア
ルカンスルホニル基等が挙げられる。
芳香環を含むアシルとしては例えば、フェニルアセチル
、フェニルプロピオニル等のアルC6級)アルカノイル
基、ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカル
ボニル等のアル(低級)アルコキシカルボニル基、ベン
ゼンスルホニル、トシル等のアレーンスルホニル基、ベ
ンゾイル、トルオイル、ナフトイル、フタロイル、イン
ゲンカルボニル等のアロイル基等が挙げられる。
複素環を含むアシルとしては例えば、チェニルアセチル
、フリルアセチル、ピロリルアセチル、チアジアゾリル
アセチル、テトラゾリルアセチル、ピペラジニルアセチ
ル等の複素環置換(低級)アルカノイル基、8−キノリ
ルオキシカルボニル等の複素環オキシカルボニル基、テ
ノイル、70イル、ニコチノイル、インブチリル、ピロ
ールカルボニル、ピロリジンカルボニル、テトラヒドロ
ビランカルボニル等の複素環カルボニル基、2−ピリジ
ルメトキシカルボニル等の複素環置換(低級)アルコキ
シカルボニル基等が挙げられる。
置換もしくは非置換カルバモイル基としては例エバ、カ
ルバモイル基、メチルカルバモイル、エチルカルバモイ
ル等の低級アルキルカルバモイル基、フェニルカルバモ
イル等のアリールカルバモイル基、ベンジルカルバモイ
ル イル ホルミルカルバモイル、アセチルカルバモイル等の低級
アルカノイルカルバモイル基、タロロアセチルカルバモ
イル、トリクロロアセチルカルバモイル等のモノもしく
はジもしくはトリハロ(低級)アルカノイルカルバモイ
ル基等が挙げられる。
上記のアシル基は任意の位置にユないし3個の適当な置
換基を有していてもよく、そのような置換基としては例
えば、クロル、ブロム、ヨード、フルオル等のハロゲン
原子、ヒドロキシ基、シア7基、ニトロ基、低級アルコ
キシ基、低級アルキル基、低級アルケニル基、タロロア
セチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル等のモ
ノもしくはジもしくはトリハロ(低級)アルカノイルの
ようなアシル基、フェニル、トリル等のアリール基等が
挙げられる。
ここでアミノ保護基の好ましい例としてはアシル基が挙
げられ、さらに好ましくは低級アルカ/イル基、モノも
しくはジもしくはトリノ・口(低級)アルカノイル基お
よび低級アルコキシカルボニル基が挙げられる。
低級アルキル基とは直鎖もしくは分岐鎖状の飽゛和脂肪
族炭化水素残基であり、その具体例としては例えば、メ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、第3級ブチル、ペンチル、ネオペンチル、第3
級ペンチル、ヘキシル等が挙げられ、さらに好ましくは
炭素数1〜4個のアルキル基が挙げられる。
適当な置換基を有していてもよい有機残基としては例え
ば、低級アルキル基、モノもしくはジもしくはトリハロ
(低級)アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニ
ル基、アリール基、アル(低級)アルキル基、ハロ(低
級)アルカノイル基を含み、これらの基の具体例を挙げ
ると次のとおりである。
低級アルキル基としては例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第3級ブチ
ル、ペンチル、ネオペンチル、第3級ペンチル、ヘキシ
ル等か挙げられ、モノもしくはジもしくハトリハロ(低
級)アルキル基としては例えば、クロロメチル、ジクロ
ロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、クロロエ
チル、ジクロロエチル、トリクロロエチル、フルオロエ
チル、トリフルオロエチル等が挙げられ、低級アルケニ
ル基としては例えば、ビニル、1−プロペニル、アリル
、1−メチルアリル、l−12−1j。
しくけ3−ブテニル、1−12−13−もしくは4−ペ
ンテニル、1−12−13−14−もしくは5−へキセ
ニル等が挙げられ、低級アルキニル基としては例えば、
エチニル、1−プロピニル、プロパルギル、l−メチル
プロパルギル、1−12−もしくは3−ブチニル、1−
12−13−もしくは4−ペンチニル、1−12−13
−14−もしくは5−へキシニル等が挙げられ、アリー
ル基としては例えば、フェニル、トリル、キシリル、ク
メニル、ナフチル等が挙げられ、アル(低級)アルキル
基としては例えば、ベンジル、フェネチル、クエニルブ
ロピル等のフェニル(i級)アルキル基等が挙げられ、
ハロ(低級)アルカノイル基としては例えば、タロロア
セチル、ジクロロアセチル等が挙げられる。
低級アルコキシ基は直鎖もしくは分岐鎖状のものを含み
、そのような基としては例えば、メトキシ、エトキシ、
プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、インプロキシ
、第3級ブトキシ、ペンチルオキシ、ネオペンチルオキ
シ、ヘキシルオキシ等が挙げられ、さらに好ましくは炭
素数1〜4個のアルコキシ基が挙げられる。
ハロゲン原子としては例えば、クロル、ブロム1、ヨー
ドもしくはフルオルが挙げられる。
低級アルカノイルオキシメチル基としては例えば、アセ
トキシメチル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオ
キシメチル、インブチリルオキシメチル、バレリルオキ
シメチル、インバレリルオキシメチル、ピバロイルオキ
シンチル イルオキシメチル等が挙げられる。
低級アルカノイルチオメチル基としては例えば、アセチ
ルチオメチル、プロピオニルチオメチル、ブチリルチオ
メチル、インブチリルチオメチル、バレリルチオメチル
、インバレリルチオメチル、ピパロイルチオメチル、ヘ
キサノイルチオメチル等が挙げられる。
適当な置換基を有していてもよい複素環チオメチル基に
おける複素環部分は窒素原子、硫黄原子および酸素原子
から選ばれた少なくとも1つの複素原子を含む、飽和も
しくは不飽和の、単環もしくは多環の複素環式基であり
、そのような複素環式基としては例えば、ピロリル基、
ピロリニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジ
ル基およびそのN−オキシド、ピリミジニル基、ピラジ
ニル基、ピリミジニル基、4H−1.2.4−トリアゾ
リル、IH−1.2.3−トリアゾリル、2 H − 
1. 2。
3−トリアゾリル等のトリアゾリル基、IH−テトラゾ
リル、2H−テトラゾリル等のテトラゾリル基等の1〜
4個の窒素原子を含有する3〜6員不飽和単環複素環式
基、ピロリジニル、イミダゾリジニル、ピペラジノ、ピ
ペラジニル等の1〜4個の窒素原子を含有する3〜6員
飽和単環複素環式基、インドリル基、イソインドリル基
、イントリジニル基、ペンズイミグゾリル基、キノリル
基、イソキノリル基、インドリル基、ベンゾトリアゾリ
ル基、テトラシロ[1.5−blビリグジニル等のテト
ラシロピリダジニル基等の1〜5個の窒素原子を含有す
る不飽和縮合複素環式基、オキサシリル基、インオキサ
シリル基、1,2.4−オキサジアゾリル、1, 3.
 4−オキサジアゾリル、1, 2. 5−オキサジア
ゾリル等のオキサジアゾリル基等の1〜2個の酸素原子
および1〜3個の窒素原子を含有する3〜6員不飽和単
環複素環式基、モルホリニル等の1〜2個の酸素原子お
よび1〜3個の窒素原子を含有する3〜6員飽和単環複
素環式基、ベンズオキサシリル、ベンズオキサジアゾリ
ル等の1〜2個の酸素原子および1〜3個の窒素原子を
含有する不飽和縮合複素環式基、チアゾリル基、1、2
.4−チアジアゾリル、1.3.4−チアジアゾリル、
1,2.5−チアジアゾリル等のサアジアゾリル基等の
1〜2個の硫黄原子および1〜3個の窒素原子を含有す
る3〜6員不飽和単環複素環式基、チアゾリジニル等の
1〜2個の硫黄原子および1〜3個の窒素原子を含有す
る3〜6員飽和単環複素環式基、ベンゾチアゾリル、ベ
ンゾチアジアゾリル等の1〜2個の硫黄原子および1〜
3個の窒素原子を含有する不飽和縮合複素環式基等が例
示され、このような複素環式基は任意の位置に1ないし
4個の置換基を有していてもよく1.そのような置換基
としては例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、シクロペンチル
、ヘキシル、シクロヘキシル等の低級アルキル基もしく
け低級シクロアルキル基、ビニル、アリル、1−12−
もしくは3−プロペニル、1−12−13−もしくは4
−ブテニル、1−12−13−14−もしくは5−ベン
ツプロピル、4−アミノブチル、5−アミノペンチル、
6−ア三ノヘキシル等のアミノ(低級)アルキル基、第
3級ブトキシカルボニルアミノメチル、2−(第3級ブ
トキシカルボニルアミノ)エチル等の低級アルコキシカ
ルボニルアミノ(低級)アルキルのような保護されたア
ミノ(低級)アルキル基、カルボキシメチル、2−カル
ボキシエチル、2−カルボキシプロピル、3−カルボキ
シプロピル、4−カルボキシブチル、5−カルボキシペ
ンチル、6−カルボキシヘキシル等のカルボキシ(低級
)アルキル基、スルホメチル、2−スルホエチル、2−
スルホプロピル、3−スルホプロピル、4−スルホブチ
ル、5−スルホペンチ/L/。
6−スルホヘキシル等のスルホ(低級)アルキル基、フ
ェニル、2−13−もしくは4−夕?ロフェニル、2−
13−4L<は4−ブロモフェニル等の1〜3個のハロ
ゲン原子置換もしくは非置換フェニル基、N−メチルア
ミノメチル、N、N−ジメチルアミノメチル、2−(N
−メチルアミノ)エチル、2−(N、N−ジメチルアミ
ノ)エチル、2−(N−メチル−N−エチルアミノ)エ
チル、3−(N−メチルアミノ)プロピル、3−(N、
N−ジメチルアミノ)プロピル、3 (N、N−ジエチ
ルアミノ)プロピル、4−(N−メチル−N −エチル
アミノ)ブチル、5−(N−メチルアミノ)ペンチル、
5−(N、N−ジメチルアミノ)ペンチル、6−(N、
N−ジエチルアミノ)ヘキシル、6−(N、N−ジメチ
ルアミノ)ヘキシル等の低級アルキルアミノ(低級)ア
ルキル基等が挙げられる。
このように定義される複素環式基の好ましい例としては
、低級アルキル、アミノ(低級)アル・キルおよび低級
アルコキシカルボニルアミノ(低級)アルキルから選ば
れた基で置換されたチアジアゾリル基、1〜3個のハロ
ゲン原子置換もしくは非置換フェニルを有していてもよ
いオキサジアゾリル基、低級アルキル、カルボキシ(低
級)アルキル、低級アルケニル、アミノ(低級)アルキ
ルおよび低級アルコキシカルボニルアミノ(低級)アル
キルから選ばれた基で置換されたテトラゾリル基、ピラ
ジニル基、テトラシロピラジニル基等が挙げられる。
低級アルキレン基としては例えば、メチレン、エチレン
、トリメチレン、1−メチルエチレン等が、好ましくは
1〜2個の炭素原子からなる基、さらに好ましくはメチ
レンが挙げられる。
カルボキシ基の誘導体はエステル化されたカルボキシ基
のような保護されたカルボキシ基を含み、そのようなエ
ステルの例として例えば、メチルエステル、エチルエス
テル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチ
ルエステル、イソブチルエステル、第3級7’チルエス
テル、ペンチルニス7−ル、第3級ペンチルエステル、
ヘキシルエステル、l−シクロプロピルエステル等の低
級アルキルエステル、ビニルエステル、アリルエステル
等の低級アルケニルエステル、エチニルエステル、プロ
ピニルエステル等の低級アルキニルエステル、メトキシ
メチルエステル、エトキシメチルエステル、インプロポ
キシメチルエステル、1−メトキシエチルエステル、1
−エトキシエチルエステル等の低級アルコキシアルキル
エステル、メチルチオメチルエステル、エチルチオメチ
ルエステル、エチルチオエチルエステル、インプロピル
チオメチルエステル等の低級アルキルチオアルキルエス
テル、2−ヨードエチルエステル、2,2.2−トリク
ロロエチルエステル等の七ノー、ジーもしくはトリハロ
(低級)アルキルエステル、アセトキシメチルエステル
、プロピオニルオキシメチルエステル、ブチリルオキシ
メチルエステル、バレリルオキシメチルエステル、ピバ
ロイルオキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチ
ルエステル、2−アセトキシエチルエステル、2−プロ
ピオニルオキシエチルエステル等の低級アルカノイルオ
キシ(低級)アルキルエステル、メシルメチルエステル
、メシルエチルエステル等の低級アルカンスルホニル(
a級)アルキルエステル、ベンジルエステル、4−メト
キシベンジルエステル、4−ニトロベンジルエステル、
フェニルエステルへトリチルエステル、ジフェニルメチ
ルエステル、ビス(メトキシフェニル)メチルエステル
、3,4−ジメトキシベンジルエステル、4−ヒドロキ
シ−3,5−ジ第3級ブチルベンジルエステル等の1ア
ルキルエステル、フェニルエステル、トリルエステル、
第3級ブチルフェニルエステル、キシリルエステル、メ
シチルエステル、クメニルエステル、4−クロロフェニ
ルエステル、4−メトキシフェニルエステル等の置換も
しくは非置換7エ二ルエステル、トリ(低級)アルキル
シリルエステル、メチルチオエステル、エチルチオエス
テル等の低級アルキルチオエステル等が挙げられる。
保護されたカルボキシ基としては上記カルホキ暴シ基の
誘導体で例示したエステル化されたカルボキシ基の具体
例がそのまま挙げられる。
次にこの発明の目的化合物(I)の製法A −Qについ
て詳述する。
FA)  製法A: 化合物(A−3)もしくはその塩類は、化合物(A−1
)もしくはその塩類に化合物(A−2)を反応させるこ
とにより製造できる。
この反応は通常塩基の存在下、反応に悪影響を与えない
溶媒中で行なわれる。
使用される塩基としては例えば、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属、水酸化マグネシ
ウム、水酸化カルシウム等の水酸化アルカリ土類金属、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属、
炭酸マグネシウム、炭酸力ルシウム等の炭酸アルカリ土
類金属、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭
酸水素アルカリ金属、りん酸マグネシウム、りん酸力ル
シクム等のりん酸アルカリ土類金属、りん酸水素二ナト
リクム、りん酸水素二カリクム等のりん酸水素アルカリ
金属等の無機塩基、酢酸すl−’Jクム、酢酸カリウム
等の酢酸アルカリ金属、ナトリウムメトキサイド、ナト
リウムエトキサイド、ナトリウムプロポキサイド等のア
ルカリ金属アルコキサイド、トリメチルアミン、トリエ
チルアミン等のトリアルキルアミン、ピコリン、N−メ
チルピロリジン、N−メチルモルホリン、l、5−ジア
ザビシクロ[4,3,0l−5−ノネン、1.4−ジア
ザビシクロ[2,2,2]オクタン、l、5−ジアゾビ
シクロ[5,4,0]−5−クンデセン等の有機塩基が
挙げられる。
反応温度は特に限定されないが、通常冷却下ないし室温
で行なわれることが多い。
(B)  製法B: 化合物(A−3’)もしくはその塩類は、化合物(A−
1)もしくはその塩類に化合物(B−1)もしくはその
塩類を反応させることにより製造できる。
この反応は実質的に製法Aと同じであり、従って塩基の
使用、反応温度、溶媒等の反応の条件は前記製法Aの説
明をそのまま適用できる。
(C)  製法C: 化合物(C−2)もしくはその塩類は、化合物(C−1
)もしくはその塩類に二酸化炭素を反応させることによ
り製造できる。
この反応は通常プチルリチクム等のアルキルリチクムの
ような塩基の存在下、反応に悪影響を与えない溶媒中で
行なわれる。
反応温度は特に限定されないが、通常冷却下ないし、室
温で行なわれることが多い。
(D)  製法D= 化合物(D−2)もしくはその塩類は、化合物(D−1
)もしくはその塩類にノ・ロゲン化剤を反応させること
により製造できる。
この反応で使用されるハロゲン化剤としては通常のヒド
ロキシ基のノ・ロゲン化に用いられるノ・ロゲン化剤が
使用でき、そのようなノ・ロゲン化剤としては例えば、
オキシ塩化りん、3塩化りん、3臭化りん、5塩化りん
等のりん化合物等が挙げられる。
この反応は通常この反応に悪影響を与えない溶媒中で行
なわれる。
反応温度は特に限定されないが、加温ないし加熱下で行
なわれることが多い。
(E)  製法E: 化合物(E−2)は化合物(E−1)を還元的脱ハロゲ
ン化反応に付すことにより製造できる。
この方法で用いられる還元的脱ハロゲン化反応は通常の
バラジクム炭素、パラジウム黒、パラジクム海綿等の触
媒による接触還元により行なわれる。
この反応は通常反応に悪影響を与えない溶媒中で行なわ
れる。
反応温度は特に限定されないが、室温で行なわれること
が多い。
(勅 製法F: 化合物(F−2)もしくはその塩類は、化合物(F−1
)もしくはその塩類にアルカノールおよびアレーンチオ
ーレレから選ばれた求核化合物もしくはその塩類を反応
させて製造できる。
この反応は通常製法人において例示した塩基の存在下、
反応に悪影響を与えない溶媒中で行なわれる。
反応温度は特に限定されないが、冷却下ないし室温で行
なわれることが多い。
(G)  製法G: 化合物(G−2)もしくはその塩類は、化合物(G−1
)もしくはその塩類にカルボキシ保護基の導入剤を反応
させて製造できる。
この製法において用いられるカルボキシ保護基の導入剤
としては例えば、よう化メチル等のハロゲン化アルキル
、ジメチル硫酸等のジ(低級)アルキル硫酸、ジアゾメ
タン等のジアゾ(低級)アルカン、メタノール、エタノ
ール等の低級アルカノール等が例示される。
この反応は通常酸の存在下、反応に悪影響を与えない溶
媒中で行なわれる。
使用される酸としては例えば、義酸、トリフルオロ酢酸
、ベンゼンスルホン酸、p−’)ルエンスルホン酸、塩
酸等の無機もしくは有機酸が挙げられる。
反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加熱下で行な
うことができる。
(H)  製法H: 化合物(H−2)は、化合物(H−1)に一般式R”5
CH2SOR”(式中、R10は前記と同じ意味)で示
される化合物を反応させて製造できる。
この反応は通常製法Aにおいて例示した塩基の存在下、
反応に悪影響を与えない溶媒中で行なわれる。
反応温度は特に限定されず、冷却下ないし加熱下で行な
うことができる。
(I+  製法工: 化合物(I−1)は、化合物(H−2)に酢酸および(
もしくは)無水酢酸のような酸および(もしくは)酸無
水物を反応させて製造できる。
この反応は過塩素酸ナトリウム、過塩素酸カリウム等の
過塩素酸アルカリ金属、過塩素酸マグネシウム、過塩素
酸カルシウム等の過塩素酸アルカリ土類金属および義酸
等の有機カルボン酸の共存下で行なうのが好ましい。
反応温度は特に限定されないが、加温もしくは加熱下で
行なうのが好ましい。
(J)製法J: 化合物(J−2)もしくはその塩類は、化合物(J−1
)をカルボキシ保護基の脱離反応に付すことにより製造
できる。
この反応は加水分解、還元等の通常のカルボキシ保護基
の脱離反応に用いられる方法が適用され、その加水分解
、還元等の方法および反応温度、溶媒等の反応条件は後
記製法Nで説明するアミノ保護基の脱離方法と実質的に
同じであり、従って製法Nの説明をそのまま適用できる
@)製法に: 化合物(K、−2)もしくはその塩類は、化合物(K−
1)もしくはその塩類にアミノ保護基の導入剤を反応さ
せることにより製造できる。
この反応に用いられるアミノ保護基の導入剤がアシル化
剤である場合、反応は後記プロセスで説明する方法と実
質的に同一であり、従ってその説明をそのまま適用でき
る。
(L)  製法L: 化合物(L−2)は、化合物(I、−1)を酸化するこ
とにより製造できる。
この反応の酸化は活性メチレン基をカルボニル基に変換
させる通常の方法を適用でき、このような酸化は二酸化
ゼレン等の酸化剤を用いることにより行なわれる。
この反応は通常反応に悪影響を与えないような溶媒中で
行なわれ、また反応温度は特に限定されないが、加温も
しくは加熱下で行なわれることが多い。
(紛 製法M: 化合物(M−2)もしくはその塩類は、化合物(M−1
)もしくはその水化物またはその塩類に一般式R6−0
NH,(式中、R6I/′i前記と同じ意味)もしくは
その塩類を反応させることにより製造できる。
この反応は通常反応に悪影響を与えない溶媒中で行なわ
れ、また反応試剤として化・合物R’−0NH2の塩類
を用いる場合、前記製法Aで列挙したような塩基の存在
下で反応を行なうのが好ましい。
反応温度は特に限定されないが、通常室温で行なわれる
ことが多い。
(N)  製法N: 化合物(N−2)もしくはその塩類は、化合物(N−1
)もしくはその塩類をアミノ保護基の脱離反応に付すこ
とにより製造できる。
この脱離反応は加水分解、還元等の常法により行なわれ
、このような方法は脱離される保護基の種類によって適
宜選択される。
ここで加水分解とは酸による加水分解、塩基による加水
分解、ヒドラジン分解等を含み、これらのうちで酸によ
る加水分解は第3級ブトキシカルボニル、第31ペンチ
ルオキシカルボニル、トリクロロエトキシカルボニル等
の置換もしくは非置換アルコキシカルボニル基、ホルミ
ル等の置換もしくは非置換アルカノイル基、低級シクロ
アルコキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル、
置換ベンジルオキシカルボニル等の置換もしくは非置換
アル(低級)アルコキシカルボニル基、ベンジル、トリ
チル等のアル(低級)アルキル基、置換フェニルチオ基
、置換アラルキリデン基、置換アルキリデン基、置換(
低級)シクロアルキリデン基等の保護基の脱離に適用さ
れる。
この酸による加水分解に用いられる酸としては例ttf
、義酸、)リフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン酸、p−
トルエンスルホン酸、塩酸等の無機もしくは有機酸か挙
げられ、好ましくは義酸、トリフルオロ酢酸、塩酸等の
反応混液から減圧蒸留のような操作で容易に留去できる
ような溶媒が挙げられる。
この加水分解で使用される酸は脱離する保護基の種類に
よって適宜選択され、溶媒の存在下もしくは非存在下で
も行なうことができる。ここでこの加水分解に用いられ
る溶媒としては通常の有機溶媒、水もしくはこれらの混
合溶媒等が使用される。
この酸による加水分解がトリフルオロ酢酸の存在下で行
なわれる場合、反応はアニソールの存在下で行なうのが
好ましい。
また塩基による加水分解はトリフルオロアセチル等のハ
ロアルカノイル基の保護基の脱離に適用でき、使用され
る塩基としては例えば、水酸化すトリウム、水酸化カリ
ウム等の水酸化アルカリ金属、水酸化マグネシウム、水
酸化カルシウム等の水酸化アルカリ土類金属、炭酸す)
 IJクム、炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属、炭酸
マグネシウム、炭酸力ルシウム等の炭酸アルカリ土類金
属、炭酸水素す) IJクム、炭酸水素カリウム等の炭
酸水素アルカリ金属、りん酸マグネシウム、りん酸力ル
シクム等のりん酸アルカリ土類金属、りん酸水素二ナト
リクム、りん酸水素二カリクム等のりん酸水素アルカリ
金属等の無機塩基、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等の
酢酸アルカリ金属、ナトリウムメトキサイド、ナトリウ
ムエトキサイド、ナトリクムプロボキサイド等のアルカ
リ金属アルコキサイド、トリメチルアミン、トリエチル
アミン等のトリアルキルアミン、ピコリン、N−メチル
ピロリジン、N−メチルモルホリン、1,5−ジアザビ
シクロ[4,3,03−5−ノネン、1,4−ジアザビ
シクロ[2,2,2]オクタン、1,5−ジアザビシク
ロ[5,4,0]−5−クンデセン等の有機塩基が挙げ
られる。
この塩基による加水分解は水、親水性溶媒、少量の水を
含んだ有機溶媒もしくはこれらの混合溶媒中で行なわれ
ることが多い。
またヒドラジンによる分解は通常サクシニル、フタロイ
ル等の保護基の脱離に適用される。
上記の加水分解によってアミノ保護基が脱離され、遊離
のアミ7基を生成するが、加水分解以外の脱離方法につ
いて以下に詳述する。
還元によるアミノ保護基の脱離反応はトリクロロエトキ
シカルボニル等のハロ(低級)アルコキシカルボニル基
、ベンジルオキシカルボニル、置換ベンジルオキシカル
ボニル等の置換もしくは非置換アラルコキシカルボニル
基、2−ピリジルメトキシカルボニル基、ベンジル基等
の保護基の脱離反応に適用でき、iた還元側としては例
えば、水素化はう素す) IJクム等の水素化はう素ア
ルカリ金属等が挙げられる。
また保護基がハロ(低級)アルコキシカルボニル基、8
−キノリルオキシカルボニル基である場合、銅、亜鉛等
の重金属と処理することにより行なわれることもある。
以上の脱離反応の反応温度は特に限定されず脱離される
保護基の種類、適用する脱離方法によって適宜選択され
るが、通常冷却下、室温ないし加温程度の緩和な条件で
行なうことが多い。
(0)製法O: 化合物(0−2)もしくはその塩類は、化合物(0−1
)もしくはその塩類にニトロフ化剤を反応させることに
より製造できる。
ニトロフ化剤の例としては例えば、亜硝酸ナトリウム、
亜硝酸カリウム等の亜硝酸アルカリ金属等が挙げられる
この反応は通常反応に悪影響を与えない溶媒中で行なわ
れ、また反応温度は特に限定されないが、通常冷却下な
いし室温で行なわれることが多い。
(P)  製法P: 化合物(P−2)もしくはその塩類は、化合物(p−i
)もしくけその塩類に、そのヒドロキシ基の水素原子を
基R6′(基中、 a/は前記と同じ意味)に置換しう
る置換剤を反応させることにより製造できる。
この反応は通常反応に悪影響を与えないような溶媒中で
行なわれ、また反応温度は特に限定されないが、冷却下
ないし室温で行なわれることが多い。
(Q、)  製法Q: 化合物(Q−2>もしくはその塩類は、化合物(Q−1
)もしくはその塩類にノ・ロゲン化剤を反応させること
により製造できる。
この反応におけるハロゲン化剤は芳香環のノ・ロゲン化
に使用される通常のハロゲン化剤が適用でき、そのよう
なハロゲン化剤としては例えば、塩素、臭素等のハロゲ
ンが挙げられる。
この反応は通常この反応に悪影響を与えない溶媒中で行
なわれ、また反応温度は特に限定されないが、室温で行
なわれることが多い。
次にセファロスポラン酸誘導体佃)の製造法について詳
述する。
プロセス: セファロスポラン酸誘導体[11もしくはその塩類は、
7−アミノセファロスポラン酸誘導体([1)もしくは
そのアミノ基における反応性誘導体またはその塩類にカ
ルボン酸(Ia)もしくはそのカルボキシ基における反
応性誘導体またはその塩類を反応させることにより製造
できる。
この方法の出発物質である7−アミノセファロスポラン
酸誘導体(II)は公知化合物であり、セファロスポリ
ン分野における当業者によって容易に製造できる。
このプロセスにおいて、化合物側のアミノ基における反
応性誘導体としては通常のアミド化反応に使用される反
応性誘導体を使用することができ、そのような反応性誘
導体としては例えば、ビス(トリメチルシリル)アセト
アミド、トリメチルシリルアセトアミド等のシリル化合
物と化合物(II)によって生成するシリル誘導体;イ
ンシアネートもしくはインチオシアネート;該アミノ基
とアセトアルデヒド、イソベンクンアルデヒド、ベンズ
アルデヒド、サリシルアルデヒト、フェニルアセトアル
デヒド、p−ニトロペンス゛アルデヒド、m−クロロベ
ンズアルデヒド、p−クロロベンズアルデヒド、ヒドロ
キシナフトアルデヒド、フルフラール、チオフェンカル
ボアルデヒド等のアルデヒド化合物もしくはアセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチ
ルアセトン、アセト酢酸エチルエステル等のケトン化合
物とによって形成されるシックの塩基またはそのエナミ
ン型の互変異性体;等が挙げられる。
化合物(II)におけるカルボキシ基の誘導体および塩
類の具体例としては前記化合物(2)において例示した
カルボキシ基の誘導体および塩類の具体例をそれぞれそ
のまま挙げることができる。
化合物(Ia)のカルボキシ基における反応性誘導体と
しては例えば、酸ハライド、酸無水物、活性アミド、活
性エステル等が、好ましくは酸クロリドおよび酸プロミ
ド等の酸ハライド;ジアルキルりん酸、フェニルりん酸
、ジフェニルりん酸、ジベンジルりん酸、ハロゲン化り
ん酸等の置換りん酸、ジアルキル亜りん酸、亜硫酸、メ
チル炭酸、エチル炭酸、プロピル炭酸等のアルキル炭酸
、ピパル酸、吉草酸、イソ吉草酸、2−エチルブタン酸
、トリクロロ酢酸等の脂肪族カルボン酸、安息香酸等の
芳香族カルボン酸との酸無水物または対称型酸無水物;
イミダゾール、4−置換イミダゾール、ジメチルピラゾ
ール、トリアゾール、テトラゾール等のイミノ基含有複
素環式基との活性アミド、シアノメチルエステル、メト
キシメチルエステル、ジメチルアミノメチルエステル、
ビニルエステル、プロパルギルエステル、p−ニトロフ
ェニルエステル、2,4−ジニトロフェニルエステル、
トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフェニルエ
ステル、メシルフェニルエステル、フェニルアゾフェニ
ルエステル、フェニルチオエステル、p−二トロフェニ
ルチオエステル、p−タレジルチオエステル、カルボキ
シメチルチオエステル、ピラニルエステル、ピリジルエ
ステル、ピペリジニルエステル、8−キノリルチオエス
テルもしくはN。
N−ジメチルヒドロキシルアミン、1−ヒドロキシ−2
−(IH)−ピリドン、N−ヒドロキシサクシンイミド
、N−ヒドロキシフクルイミド、1−ヒドロキシベンゾ
トリアゾール、1−ヒドロキシ−6−タロロペンゾトリ
アゾール等のN−ヒドロキシ化合物とのニス−チルのよ
うな活性エステル等が挙げられ、このような反応性誘導
体は使用する化合物(Ia)の種類によって適宜選択さ
れる。
この反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニ
トリル、クロロホルム、ベンゼン、メチレンクロリド、
エチレンクロリド、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、
N、N−ジメチルホルムアミド、ピリジンもしくはこの
反応に悪影響を与えない有機溶媒中で行なわれ、これら
の溶媒のうち親水性溶媒は水と混合して使用することも
できる。
この反応は通常冷却下で行なわれることが多い。
この反応においてカルボン酸(Ia)が遊離モしくはそ
の塩の型で使用される場合、N、N’−ジシクロへキシ
ルカルボジイミド、N−シクロへキシル−N′−モルホ
リノエチルカルボジイミド、N−シクロへキシル−N’
−(4−ジエチルアミ/シクロヘキシル)カルボジイミ
ド、 N、N’−ジエチルカルボジイミド、N、N’−
ジイソプロピルカルボジイミド、N−エチル−N’−(
3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド等のカル
ボジイミド化合物:N、N’−カルボニルビス(2−メ
チルイミグゾール)、ペンタメチレンケテン−N−シク
ロヘキシルイミン、ジフェニルケテン−N−シクロヘキ
シルイミン等のケテンイミン化合物;エトキシアセチレ
ン、β−クロロビニルエチルエーテル等のオレフィン系
もしくはアセチレン系エーテル化合物;1−(4−クロ
ロベンゼンスルホニルオキシ)−6−タロローIH−ベ
ンゾトリアゾール等のN−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ル誘導体のスルホン酸エステル;トリアルキルホスファ
イト、ポリりん酸エチル、ポリりん酸インプロピル、オ
キシ塩化りん、3塩化りん、トリフェニルホスフィン等
のりん化合物;チオニルクロリド;オキサリルクロリド
;N−エチルベンズイソオキサゾリクム塩;N−エチル
−5−7エニルイソオキサゾリクムー3−スルホン酸;
ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、N−メ
チルホルムアミド等のアミド化合物とチオニルクロリド
、オキシ塩化りん、ホスゲン等との反応により得られる
、いわゆるピルス・マイヤー試薬;等の縮合剤の存在下
で行なうのが好ましい。
上記における各製法およびプロセスにおいて反応中もし
くは反応の後処理中に前記シンもしくはアンチ異性体が
それぞれアンチもしくはシン異性体に変換することがあ
るが、このような場合もこの製法およびプロセスに含ま
れる。
次に本発明の実施例について述べる。
実施例1 m  n−プチルリチクムの15%n−ヘキサン溶液(
636y)を、6−アミノ−2−メチルピリジン(64
,8y)のテトラヒドロフラン(500me )溶液に
、−20〜−30°Cで1時間を要して加え、−8〜−
10°Cで30分間撹拌した。この溶液に−15〜−5
°Cで40分を要してトリメチルシリルクロライド(1
61,7y)を加え、生成混合物を室温で1夜撹拌した
。この溶液を、シリカゲル(180y)充填のカラムに
よって濾過し、テトラヒドロフランで洗浄した後、P液
を減圧下に濃縮した。残渣を分別蒸留によって精製する
と6− [N、N−ビス(トリメチルシリル)アミノコ
−2−メチルピリジン(117,6gI)、bp95〜
97°C15〜6朋セが得られた。
17、 M、 R,δppm(CCl、): 0.13
(18H,s)、  2.35(3H。
s)、 6.43(IH,d、J=8Hz)、  6.
60(LH,d。
J=8Hz)、7.25(LH,t、J=8Hz)(2
)n−プチルリチクムの15%n−ヘキサン溶液(33
8,6y)を、6− [N、N−ビス(トリメチルシリ
ル)アミノコ−2−メチルピリジン(iooy)の無水
テトラヒドロフラン(300me )溶液に−20〜−
30°Cで1時間を要して滴下し、この溶液を20〜2
3°Cで1時間撹拌した。
生成した液を、破砕したドライアイス(1kq )中に
撹拌しながら少量ずつ加え、室温になる迄撹拌を続けた
。減圧下にテトラヒドロフランを留去し、残渣に無水エ
タノール(iIりを加えた。塩酸の30%エタノール溶
液(660me)をこの溶液に=5〜−10°Cで滴下
し、更に0〜5°Cで塩化水素ガスを30分間吹き込み
、反応液を10°Cで1夜撹拌した。反応液からエタノ
ールを留去した後、残渣を水に溶解し、酢酸エチルで3
回洗浄した。
この溶液を炭酸水素ナトリウムでpH7〜8に調整し、
酢酸エチルで抽出しだ。抽出液を塩化ナトリウム飽和水
溶液で洗浄し、乾燥後減圧下に濃縮すると、粗製の目的
物質(54y)が得られた。
生成物をシリカゲル(1kg)のカラムクロマトグラフ
に展開し、酢酸エチルとベンゼンからなる溶出液を用い
て精製すると、2−(6−アミノビリジン−2−イル)
酢酸エチル(30,2p)、mp66〜68°Cが得ら
れた。
1645、 1480. 1190cm−1N、 M、
 R,δppm(CDCI!3): 1.25(3H,
t、 J=6Hz)。
3.67(2H,s)、  4.20(2H,q、J=
6Hz)。
5.33(2H,broad s)、  6.43(L
H,d、 J=8Hz)。
6.62(LH,d、 J=8Hz)、  7.40(
IH,t、 J=8Hz)(3)無水酢酸(16,6m
l?)と98チ義酸(7,32me )を室温で混合し
、50〜66℃で30分間撹拌した。この溶液を、2−
(6−アミノピリジン−2−イル)酢酸エチル(26,
5y)の酢酸エチル(250mf’)溶液に20〜23
℃で30分間を要して滴下し、同温度で1時間撹拌した
。反応液に冷水を加え、十分に振盪した。酢酸エチル層
を分離し、水、炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順序で
洗浄した。これを乾燥してから減圧下に濃縮すると、2
−(6−ホルムアミドピリジン−2−イル)酢酸エチル
(28f? )、mp35〜38°Cが得られた。
1580、 1460. 1305. 1277σ−1
N、 M、 R,Jppm(DMSO−a6): 1.
17(3H,t、 J==8Hz)。
3.75(2H,s)、  4.08(2Lq、J=8
Hz)、6.85(0,5H,broad d、 J=
8Hz)、  7.95(0,5H。
broad s)、7.08(LH,d、J=8Hz)
、  7.73(IL t、 J=8Hz)、8.33
(0,5H,broad s)。
9.25(0,5H,broad d)、10.58(
IH,broad sf4]2−(6−ホルムアミドピ
リジン−2−イル)酢酸(26y)のジオキサン(26
0me)溶液に、85〜90°Cで2酸化ゼレンを1時
間に亘って少量ずつ加え、同温度で更に1時間撹拌した
反応液を冷却した後ジオキサン層を分離し、減圧下に濃
縮してから残渣を酢酸エチルに溶解した。
この溶液を水洗し、硫酸マグネシクムで乾燥してから活
性炭で処理し、次いで減圧下に濃縮した。
残渣にジエチルエーテルを加えて粉末化させると、2−
(6−ホルムアミドピリジン−2−イル)グリオキシル
酸エチル(14,3?>、09124〜126℃が得ら
れた。
1690、 1273. 1233c+n ”N、 M
、 R,Jppm(DMSO−d6) : 1.34(
3H,t、 J=8Hz)。
4.44(2H,q、J=8Hz)−7,33(0,6
5H。
broad s)、 7.8〜8.2(0,35H)、
 7.84(IH。
d、 J=8Hz)、 ’8.09(IH,t、 J=
8Hz)、 8.44(0,35H,broad s)
、 9.22(0,65H,broads)、  10
.85(IH,broad 5)(5)2規定水酸化ナ
トリクム水溶液〔溶媒:水(1部) +−r−タ/−ル
(4g )、14.87d)を、2−(6−ホルムアミ
ドピリジン−2−イル)グリオキシル酸エチル(6,0
0y)のエタノール(180mt’)溶液に、室温下で
加え、同温度で20分間撹拌した。メトキシアミン塩酸
塩(2,7i)をこの反応液に加え、室温で1.5時間
撹拌した後、減圧下に少量になる迄濃縮した。沈殿物を
P取し、酢酸エチル及び水で洗浄してからエタノールに
溶解し活性炭で処理した。溶液を減圧下に濃縮し、沈殿
物を戸数すると、2−(6−ホルムアミドピリジン−2
−イル)−2−メトキシイミノ酢酸(3,63p)、m
p170〜171°C(分解)が得られた。
1575、 1450.1320. 1208. 10
32cm−1N、 M、 R,δppm(DMSO−d
6): 3.70(3H,s)、  6.90(0,6
H,broad d)、  7.9(0,4H,bro
ad s)。
7.10(IH,d、 J=8Hz)、  7.75(
IH,t、 J=8Hz)。
8.38(0,4H,broad s)、9.25(0
,6H。
broad d)、  10.58(LH,broad
 d)+612−(6−ホルムアミドピリジン−2−イ
、ル)酢酸エチル(4,1’)のエタノール(44#I
/)溶液に、2規定水酸化ナトリクム水溶液[溶媒:水
(1部)十エタノール(4部)、15.9 me ]を
18〜20°Cで30分を要して加えた後、反応液を室
温で1時間撹拌した。反応液に1規定塩酸(31,71
r11)を加えた後、減圧下に濃縮した。残渣を熱酢酸
エチル(500d)で抽出し、抽出液を減圧下に濃縮し
て得られる残渣を酢酸エチルで抽出すると、2−(6−
ホルムアミドピリジン−2−イル)酢酸(2,5y)、
mp125〜126’c (分解)が得られた。
1460cm−1 N、 M、 R,Jppm(DMSO−d6+D20)
 : 3.70(2H,s )。
6.9 and 7.9(IH,m)、7.10(LH
,d、 J=8Hz)。
7、75(LH,t、 J=8Hz )、  9.25
 and 8.38(IH。
broad s) +7+2−(6−ホルムアミドピリジン−2−イル)−
2−メトキシイミノ酢酸(1,55’)と濃塩酸(0,
77y )のメタノール(30d)懸濁液を室温で45
分間撹拌した。反応液を減圧下に濃縮して得られる残渣
をジエチルエーテルで洗浄し、沈殿物をp取すると、2
−(6−アミノピリジン1245、 1050. 80
3σ−1N、M、R,Jppm(DMSO−a6): 
4.13(3H,s)、  6.89(LH,d、 、
T=8Hz)、7.22(IH,d、 J−8,5Hz
)。
7.95(IH,dd、 J−8,5Hz、 8Hz)
+812−(6−アミノピリジン−2−イル)−2−メ
トキシイミノ酢酸の塩酸塩(410fng)t−酢酸エ
チル(5Wdりに加えてなる懸濁液を撹拌しておき、こ
れにビス(トリメチルシリル)アセトアミド(1,61
y)を−気に加え、40℃で50分間撹拌した。この溶
液に、トリフルオロ酢酸無水物(1,35’)を、−1
0〜−5°Cで30分を要して滴下し、反応液を同温度
で3時間撹拌した。
これに酢酸エチル(10rnl)と水(3rne)を加
え、水及び炭酸水素ナトリクム飽和水溶液で順次洗浄し
た後硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで減圧下に濃縮す
ると2−(6−)リフルオロアセトアミドピリジン−2
−イル)−2−メトキシイミノ酢酸(470〜)、mp
194〜195℃が得られた。
1380.1040.850. 810cm(9)1規
定水酸化ナトリクム水溶液(27,si)を、2−(6
−ホルムアミドピリジン−2−イル)グリオキシル酸エ
チル(5,55y)のエタノールミン塩酸塩(1,9y
)を−気に加え、室温で2時間撹拌した。減圧下に反応
液からエタノールを留去し、残渣に酢酸エチルを加えて
から炭酸水素ナトリウム水溶液で・pH7に調、整した
。水層を分離し、10チ塩酸でpH2にした。析出物を
PJiXシて水洗、乾燥すると、2−(6−ホルムアミ
トビIJ シ:/−2−イル)−2−ヒドロキシイミノ
酢酸(3,6y)、mp190〜192℃(分解)が得
られた。
1、 R,J/ヌジョール:  3120. 1700
. 1665. 1620cmaX (1012−(6−ホルムアミドピリジン−2−イル)
−2−ヒドロキシイミノ酢酸(3,6y)、ジクロル酢
酸クロライド(7,69)及び塩化メチレン(100m
e)の混合物を室温で5時間撹拌した。
析出物を戸数し、ジエチルエーテルで洗浄してから乾燥
すると、2−(6−ホルムアミドピリジン−2−イル)
−2−ジクロロアセトキシイミノ酢酸(4,6y)、m
988〜90°Cが得られた。
■、R,ジアジ”’ :  1800. 1720. 
1620σ−1aX の混合物を50〜60°Cで30分間撹拌した。この液
を、2−(2−アミノピリミジン−4−イル)酢酸メチ
ル(17,93y)の酢酸エチル(300me )懸濁
液に、室温下10分を要して加え、室温で3時間撹拌を
続けた。不溶物を戸去した後、p液に水(,300me
 )を加え、炭酸水素す、トリウム水溶液でpH7に調
整した。水層を分離し、酢酸エチルで抽出した。抽出液
と有機層を合し、塩化す) IJクム飽和水溶液で洗浄
した後硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭で処理後渡圧
下濃縮を行なった。残渣をジエチルエーテルで粉末化す
ると、2−(2−ホルムアミドピリミジン−4−イル)
酢酸メチル(14,62y)、mp103〜107℃が
得られた。
■、R8ν8ジ”−” :  3000〜3400(m
ultiple)。
ax 1740、 1703. 1600. 1567cm−
1N、 M、 R,Jppm(DMSO−d6 ): 
3.70(3H,s)、  3.90(2H,s)、、
 7.25(LH,d、J=5Hz)、  8.60(
LH,d、 J=5Hz)、  9.43(LH,d、
 J=10Hz)。
11.07(IH,broad d、 J=10Hz)
+212−(2−ホルムアミドピリミジン−4−イル)
酢酸メチル(14,52y)のジオキサン(200me
)溶液に、90〜95℃で20分間を要して2酸化ゼレ
ン(9,92y)を加え、同温度で1時間撹拌を続けた
。反応液を冷却した後、シリカゲル(20F? )充填
のカラムで濾過し、p液をジオキサンで洗浄した後減圧
下に濃縮した。残渣をアセトンに溶解して濾過し、再び
p液を減圧下に濃縮した。残渣をクロロホルムで粉末化
すると、粗製の生成物(8,2y)が得られた。これを
酢酸エチルに溶解して加熱し、不溶物を戸去した。
母液を冷却し、沈殿物を戸数すると、2−(2−ホルム
アミドピリミジン−4−イル)グリオキシル酸メチル(
5,557)が得られた。これを、水飽和の酢酸エチル
で再結晶すると、その1水和物、mp143〜144℃
が得られた。
元素分析: C8H,N304・H20CHN 理論値 42.30 3.99 18.50実測値 4
2.22 3.95 18.341597、 1585
. 1416. 1233国−1N、 M、 R,δp
pm(DMSO−a6): 3.65(3H,s)、 
 7.30(2H,s)、  7.40(IH,d、 
J=5Hz)−8,63(IH。
d、J=5Hz)、9.33(IH,d、J=10Hz
)。
10.95(LH,bd、 J=10Hz)(3)4規
定水酸化ナトリウム水溶液(10,85d)を2−(2
−ホルムアミドピリミジン−4−イル)グリオキシル酸
メチルの1水和物(4,55y)のメタノール(60r
nl)溶液に加え、1時間撹拌した。この溶液にメトキ
シアミン塩酸塩(1゜82y)を少しずつ加え、室温で
30分間撹拌した後、水冷下更に30分間撹拌した。析
出物をp取し、水に溶解して不溶物を戸去した。P液は
10チ塩酸でpH1とし、酢酸エチルで抽出しだ。抽出
液を塩化ナトリクム飽和水溶液で洗浄してから濃縮し、
析出物を戸数すると、2−(2−ホルムアミドピリミジ
ン−4−イル)−2−メトキシイミノ酢酸(0,63y
)が得られた。上記で得たメタノール溶液を減圧下に濃
縮し、残渣を水に溶解した。水溶液を活性炭で処理し、
10チ塩酸でpH1にしてから酢酸壬チルで抽出した。
抽出液を塩化ナトリクム飽和水溶液で洗浄し、減圧下に
濃縮して得られる析出物を戸数すると、上記と同一目的
物質(0,73y、総収量:1.36y)、mp180
〜182℃(分解)が得られた。
工R,vXジ’−” :  3300〜2400(mu
ltiple)−aX 1750、 1670. 1590. 1573゜14
08、 1240. 1048備−1N、M、R,Jp
pm(DMSO−as): 4.00(3H,5)−7
,47(IL d、 J=5Hz)−8,60(LH,
d、 J=5Hz)。
9.23(LH,d、J=10Hz)、11.02(I
H,broadd−J”10Hz) 実施例3 (1)1規定水酸化ナトリクム水溶液(8,5mf)を
、2−(6−ホルムアミドピリジン−2−イル)グリオ
キシル酸(1,1’)のエタノール(30me )溶液
中に室温撹拌下加え、同温度で30分間撹拌t[けた。
これにエトキシアミン塩酸塩(912q)を加え、室温
で4時間撹拌した。反応液を減圧下に濃縮し、酢酸エチ
ルと炭酸水素す) IJクム水溶液を加えた。水層を分
離して酢酸エチルを加え、10%塩酸でpH1に調整し
た。酢酸エチル層を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し
た後減圧下に濃縮した。残渣をジエチルエーテルと石油
エーテルの混合物で粉末化すると、2−(6−ホルムア
ミドピリジン−2−イル)−2−メトキシイミノ酢酸(
9204)、mp155〜156℃(分解)が得られた
N、 M、 R,δppm(DMSO−d6): 1.
3(3H,t、 J=7Hz)。
4.3(2H,q、J=7Hz)、  6.8〜8.2
(3H,m)−9,4(IH,broad d)、  
10.5(IH,broad d)混合物を50℃で3
0分間撹拌し、これに室温下4−アミノー2−ピリジン
カルボン酸メチル(112)を加え、70〜75°Cで
更に2時間撹拌した。
反応混合物から溶媒を留去した後、残渣をエタノールで
再結晶すると、淡黄色粉末状の4−ホルムアミド−2−
ピリジンカルボン酸メチル(8,39)、mp185〜
186.5℃が得られた。
1585、 1570. 1495. 1420゜12
60、 990. 860. 840cm−1+21 
4−ホルムアミド−2−ピリジンカルボン酸メチル(9
,9y)、メチル メチルチオメチルスルホキシド(6
,82f/ )及びN、N−ジメチルホルムアミド(2
00me )の混合物へ50悌水素化ナトリクム(7,
92y)を10℃で撹拌しながら加え、引き続き45℃
で10.5時間撹拌を続けた。
反応混合物からジメチルホルムアミドを留去した後、決
済に、酢酸エチルと希塩酸の冷混合物を加えた。酢酸エ
チル層を分離し、残った水層は更に酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を合わせ、塩化ナトリクム水溶液で洗浄した
後硫酸マグネシクムで乾燥し、溶媒を留去した。決済(
6,0y)を酢酸エチルとジエチルエーテルの混合物で
洗浄し、戸数乾燥すると、黄褐色粉末状の4−ホルムア
ミド−2−(2−メタンスルフィニル−2−メチルチオ
アセチル)ピリジン(1,96y)、mp132〜13
2.5°Cが得られた。他方p液を濃縮して析出物を戸
数し、ジエチルエーテルで洗浄した後乾燥すると、上記
と同一の目的物質(1,11y)が得られた。総収量:
3.07y L R,ν8ジ・−”:  3200〜3225. 1
680. 1580゜ax 1290、 1170.1020. 845cm−1(
3)無水酢酸(14rnIりと蟻酸(136rnIりの
混合物を40〜50℃で10分間撹拌した後、これに4
−ホルムアミド−2−(2−メタンスルフィニル−2−
メチルチオアセチル)ピリジン(3,7y)を加え、6
5℃で30分間撹拌を続けた。この混合物に過沃素酸ナ
トリウム(0,872y)を加え、15分間撹拌した。
反応混合物から溶媒を留去した後、決済を酢酸エチルに
溶解した。この溶液を炭酸水素ナトリクム水溶液、チオ
硫酸ナトリクム水溶液、水で順次洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を留去し、決済をジエチルエーテ
ルで洗浄した後p取乾燥すると、淡黄色粉末状の2−(
4−ホルムアミドピリジン−2−イル)チオグリオキシ
ル酸S−メチル(1,96p)、mp145〜148℃
が得られた。
■、R0ν8ジ”′:  3150〜3300. 16
90. 1670゜aX 1585、 1570. 1500. 1420. 1
265゜990、860.835.745(至)−1+
41 2−(4−ホルムアミドピリジン−2−イル)チ
オグリオキシル酸S−メチル(1,07y)、メタノー
ル(20me)及び1規定水酸化ナトリクム水溶液(5
,7me)からなる混合物を室温で50分間撹拌して2
−(4−ホルムアミドピリジン−2−イル)グリオキシ
ル酸含有溶媒とした。これに0−メチルヒドロキシルア
ミン塩酸塩(438q)を加え、室温で1時間撹拌した
。反応混合物から溶媒を留去した後、残液に水(5ゴ)
を加え、酢酸エチルによる洗浄後水を留去した。決済中
の水分ハエタノール、次いでベンゼンとの共沸によって
順次留去し、淡褐色粉末状の2−(4−ホルムアミドピ
リジン−2−イル)−2−メトキシイミノ酢酸(シン異
性体:960■)を得た。
N、 M、 R,δppm(DMSO−d6±D20)
: 3.93(3Ls)。
7、6 (LH,broad )。
8.45(IH,broad 5) y)の混合物を40〜50℃で30分間撹拌し、これに
40℃で6−アミノ−2−ピリジンカルボン酸メチル(
6169)を加え、80℃で1時間撹拌した。反応混合
物から溶媒を留去した後、ベンゼンとn−ヘキサンの混
合物に決済を溶解し、次いで濾過した。得られた沈殿物
をベンゼン(2e)で再結晶すると、6−ホルムアミド
−2−ピリジンカルボン酸メチル(647,8y)、m
p134〜136℃が得られた。
元素分析 CN       H 理論値 53.33 4.48 15.55実測値 5
3.37 4.40 15.58(2)6−ホルムアミ
ド−2−ピリジンカルボン酸メチル(435,7y)、
メチル メチルチオメチルスルホキシド(3009)及
びN、N−ジメチルホルムアミド(2,21りからなる
混合物に、50悌水素化ナトリクム(3489)を水冷
撹拌下に加え、室温で30分間撹拌した。反応混谷物に
、水冷下ベンゼン(4,41)を加え、析出物をP取し
た。これを塩化メチレン(31)、氷(2#)及び濃塩
酸(7ard)からなる混合物に加え、炭酸水素ナトリ
ウムでpH7に調整してから、塩化メチレンで抽出した
。抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した
。残渣をジエチルエーテルで結晶化し、戸数乾燥すると
、6−ホルムアミ)’−2−(2−メタンスルフィニル
−2−メチルチオアセチル)ピリジン(431’)、m
9130〜132℃が得られた。
1690、 1600. 1510cm−1N、 M、
 R,δppm(da−acetone+D20): 
2.30(3H。
s)、  2.88(3H,s)、  6.00(IH
,s)。
7.7〜8.2(3H,m) (3)6−ホルムアミド−2−(2−メタンスルフィニ
ル−2−メチルチオアセチル)ピリジン(424p )
と過沃素酸ナトリウム(100y)の酢酸(2,17?
)との混合物を70℃で30分間撹拌した。反応混合物
から溶媒を留去した後、残渣に水(51)及びチオスル
ホン酸ナトリクム(116y)を加え、次いで炭酸−水
素ナトリウムでpH7に調整した。析出物をp取、水洗
し、乾燥すると、2−(6−ホルムアミドピリジン−2
−イル)チオグリオキシル酸S−メチル(246,4y
)、mp163〜165°Cが得られた。更忙水層を酢
酸エチルで抽出することにより同一物質(12y)を回
収した。
1670.1595−1580. 1510cm−1N
、 M、 R,δppm(acetone−d6+D2
0):2.57(3H,s)、  7.77〜8.27
(3H,m)(41−a)  2− (6−ホルムアミ
ドピリジン−2−イル)チオグリオキシル酸S−メチル
(4,48y)、メタノール(20d)及び1規定水酸
化ナトリクム水溶液からなる混合物を、室温で50分間
撹拌することにより、2−(6−ホルムアミドピリジン
−2−イル)グリオキシル酸を含む溶液を得た。これに
、0−プロピルヒドロキシルアミン塩酸塩(2,23y
−)を加え、同温度で35分間撹拌した。塩酸を加えて
反応混合物をpH7とし、メタノールを留去した。残っ
た水層を酢酸エチルで洗浄し、更に酢酸エチルを加えて
から10%塩酸でpH1とする。酢酸エチル層を分離し
、水洗してから硫酸マグネシウムで乾燥し、更に活性炭
で処理してから溶媒を留去した。こうして得られた生成
物をジエチルエーテルとジイソプロピルエーテルの混合
物で洗浄し、最後に乾燥すると、2−(6−ホルムアミ
ドピリジン−2−イル)−2−プロポキシイミノ酢酸(
シン異性体:1.76y)。
mp140〜142°C(分解)が得られた。
1670、 1620. 1580σ−1N、 M、 
R,δppm(acetone−d6+D20): 0
.96(3H。
t、、T=7Hz)、  1.56〜1.84(2H,
m)、  4.2(2H。
t、J=7Hz)、7.0〜8.32(3H,m)同様
にして下記の化合物が得られた。
(4)−b)  2− (6−ホルムアミドピリジン−
2−イル)−2−(2,2,2−)リフルオロエトキシ
イミノ)酢酸(シン異性体)、mp183〜184℃(
分解) ■、R,yヌジョール:  3220. 1760. 
1680cm−1ax N、 M、 R,δppm(DMSO−d6) :  
4.78. 5.07(2H,ABq、J=9Hz)、
7.0〜8.2(3H,m)。
9.0〜9.3(IH,m)、 10.76(LH,m
)f+)−c)  2− (6−ホルムアミドピリジン
−2−イル)−2−インプロポキシイミノ酢酸(シン異
性体)、mp140〜150℃(分解)1、 R,ν8
ジ”’:  3300. 2600. 1750. 1
670゜ax 1620.1580. 1510σ−1N、 M、 R
,δppm(acetone−d6+D20): 1.
3(61(、d。
J=6Hz)、  4.36〜4.64(LH,m)、
  6.92〜8.28(3H,m) (4+−d)  2−アリルオキシイミノ−2−(6−
ホルムアミドピリジン−2−イル)酢酸(シン異性体)
、mp140°C(分解) 1、 R,ν8ジ”’:  3250.3100.26
00. 1760゜aX 1670、 1620. 1580cm−1N、 M、
 R,δppm(acetone−d6−1−D20)
: 4.67〜4.9<2H,m)−5,17〜5.6
(2H,m)、5.8〜6.52(LH,m)、  7
.0〜8.33(3H,m)(4)−e)2−(6−ホ
ルムアミドピリジン−2−イル)−2−プロパルギルオ
キシイミノ酢酸(シン異性体)mp145〜150℃(
分解)1755、 1685.1620. 1580−
 1510cIn−1N、M、R,ippm(acet
one−d6+D20): 3.04(IH。
t、J=2Hz)、  4.88(2H,d、J=2H
z)。
7、0〜8.28(3N0m) [4)−f)  2−グトキシイミ/−2−(6−ホル
ムアミドピリジン−2−イル)酢酸(シン異性体)、m
p129〜131℃(分解) 1、R,J/’ジ’−” :  3150.1755.
 1670.l*−1江11x N、 M、 R,δppm(DMSO−d6): 0.
7〜1.9(7E[、m)。
4、20(2H,t、 J=6Hz )、  7.0〜
8.1 (3H,m)−10,7(IH,broad 
d) (4)−g)  2−インブトキシイミノ−2−(6−
、ホルムアミドピリジン−2−イル)酢酸、(シン異性
体)、mp153〜155℃(分解)1620、 15
80cm−1 N、M、R,Jppm(acetone−a、+:o2
o): 0.96(6H。
d、 J=6Hz)、  1.88〜2.16(1■、
m)、  4.0(2H,d、J=6Hz)−7,0〜
8.28(3H,m)f41−h)  2− (6−ホ
ルムアミドピリジン−2−イル) −2−−yエノキシ
イミノ酢酸(シン異性体)、mp148〜150℃(分
解) N、 M、 R,δppm(DMSO−d6): 6.
80〜8.2(8H,m)−10、80(IH,d、 
J=8Hz )実施例6 fi+  実施例4−111と同様の方法により6−ホ
ルムアミド−3−ピリジンカルボン酸メチル、m921
8〜220℃を得た。
LH,v’ジ”−” :  3100. 3020. 
1710. 1605゜ax 1540 cm−1 N、 M、 R,Jppm(DMSO−d6+D20)
: 3.84(3H,s)。
’ 8.1:9〜8.84 (3H,m )(2)実施
例4−(21と同様の方法忙より2−ホルムyミF−s
−(2−メタンスルフィニル−2−メチルチオアセチル
)ピリジン、mp125〜127℃を得た。
1、 R,ν8ジ”’:  3200. 1710. 
1660. 1600゜aX 酸の代りに酢酸を使用することによって、2−(6−ホ
ルムアミドピリジン−3−イル)チオグリオキシル酸S
−メチルを製造した。
1680、 1600. 1590. 1510cm−
”N、 M、 R,δppm(acetone−d6+
D20):  2..47(3H。
s)、  8.35〜9.17(3H,m)(4)2−
(6−ホルムアミドピリジン−3−イル)チオグリオキ
シル酸S−メチル(13y)、メタノール(50ml’
)、l規定水酸化ナトリ7クム水溶液(58mt’)及
び水(150me)の混合物を室温で30分間撹拌した
。この混合物に0−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩(
4,85y)を加え、更に1時間撹拌した。反応混合物
に炭酸水素ナトリクム水溶液を加えてpH7とし、減圧
下にメタノールを留去した。残った水溶液を酢酸エチル
で洗浄し、その後文に酢酸エチルを加えた。得られた反
応混合物を10%塩酸でpH2とし、更に塩化ナトリウ
ムを加えて暫時撹拌した。析出物をF取しジイソプロピ
ルエーテルで洗浄した後乾燥すると、2−(2−ホルム
アミドピリジン−3−イル)−2−メトキシイミノ酢酸
(シン異性体:2、 Of )、mp159〜161℃
(分解)が得られた。
M、 M、 R,ippm(DMSO−d6): 4.
00(3L a)、7.8〜8.5(3H,m)、  
10.87(IH,d、J=6Hz)一方酢酸エチル層
をp液から分離し、残った水層を更に酢酸エチルで抽出
した。酢酸エチル層を合した後硫酸マグネシクムで乾燥
し、溶媒を留去すると、粉末状の2−(6−ホルムアミ
ドピリジン−3−イル)−2−メトキシイミノ酢酸(シ
ン異性体とアンチ異性体の混合物)が得られた。この粉
末を炭酸水素ナトリクム水溶液に溶解し、l。
チ塩酸でpH2〜3に調整した。析出物を戸数乾燥する
と、2−(6−ホルムアミドピリジン−3−イル)−2
−メトキシイミノ酢酸(アンチ異性体:1.45y)、
mp168〜170℃(分解)が得られた。
N、 M、 R,Jppni(DMSO−d6) : 
4.00(3H,s)、  7.8〜8.5(3H,m
)、10.80(lH,d、J=7Hz)更に母液に炭
酸水素ナトリクム水溶液を加えてpH3〜4に調整し、
これを酢酸エチルで洗浄してから、再び10%塩酸でp
H2に調整し、酢酸エチルで抽出した。抽出液を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を留去するさ、2−(6−ホ
ルムアミドピリジン−3−イル)−2−メトキシイミノ
酢酸(シン異性体:2.5y)が得られた。
実施例7 fll  実施例4−(t)の方法に準じて、2−ホル
ムアミド−4−ピリジンカルボン酸メチル、m9196
〜197℃を得た。
1540cIn−1 N0M、 R,δppm(DMSO−d、、): 3.
92(3H,s)、  7゜48〜8.6 (3H,m
) (2)実施例4−+21の方法に準じて、2−ホルムア
E)’−4−(2−メタンスルフィニル−2−メチルチ
オアセチル)ピリジン、mp123〜125℃を得た。
酸の代りに酢酸を使用して、2−(2−ホルムアミドピ
リジン−4−イル)チオグリオキシル酸S−メチル、m
p165〜167℃を得た。
1610、 1565. 1520側−1N、 M、 
R,δppm(CDC/3 +D20 ) : 2.4
8 (3H,8)。
7゜5〜8.6(3H,m) (4)実施例4−+41の方法に準じ、2−(2−ホル
ムアミドピリジン−4−イル)グリオキシル酸を経由す
ることによって、2−(2−ホルムアミドピリジン−4
−イル)−2−メトキシイミノ酢酸(シン異性体)、m
9170〜172°C(分解)を得た。
1600、 1520cm−1 N−M−R,appm(DMSOd6+D20) : 
4.02(3H0s)。
7、0〜8.6 (3H,m ) 実施例8 +t)  2−(4−アミノ−6−ヒトロキシピリミジ
ンー2−イル)酢酸エチル(15,8p)と塩化ホスホ
リル(75ml’)の混合物を、80〜90°Cに加熱
しながら4時間撹拌した。この溶液を放冷し、塩化ホス
ホリルを留去した。残った油状物質を氷水(200me
)と酢酸エチル(200m/)の混合物中に注ぎ、アン
モニア水で中和してから酢酸エチルで抽出した。抽出液
を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥してから溶媒を留去
した。残渣をジイソプロピルエーテルで洗浄し、次いで
乾燥すると、淡褐色結晶の2−(4−アミノ−6−クロ
ロピリミジン−2−イル)酢酸エチル(8,1? )、
rnp ’+:27〜128℃が得られた。
1520〜1580. 1320. 1160〜121
0゜860、 840cm−1 (2)実施例4−(1)の方法に準じ、2−(6−クロ
ロ−4−ホルムアミドピリミジン−2−イル)酢酸エチ
ル(油状)を得た。
1560、 1140〜1190. 1020cm−1
N、 M、 R,δppm(CDCj’:+ ) : 
1.30(3H−t−J=8Hz)。
3.92(2H,s)、  4.23(2H,q、J=
8Hz)。
8.3〜9.3(LH,broad)、  9.4〜1
0.4(2H0broad) (312−(6−クロロ−4−ホルムアミドピリミジン
−2−イル)酢酸エチル(2,3y)と酢酸ナトリウム
(0,93y)の80チ水性エタノール(50mt’)
溶液に、10チパラジクムー炭素(0,2y)を加え、
混合物を水素ガス雰囲気中で室温下8時間撹拌した。反
応混合物を濾過し、P液を濃縮した。残液に酢酸エチル
及び少量の水を加え、酢酸エチル層を分離し、残った水
層を酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を合し、水洗
後硫酸マグネシクムで乾燥してから溶媒を留去した。こ
うして得られた油状物質<2.29)を、シリカゲル(
409>のカラムクロマトグラフで精製し、ベンゼン及
び酢酸エチルの混合溶出液から、淡褐色固体の2−(4
−ホルムアミドピリミジン−2−イル)酢酸エチル(1
,3y)、mp80〜93℃を得た。
1170、 840cm−1 N、M、R,Jppm(CDCA’3): 1.23(
3H,t、J==8Hz)。
3.78(2H,g)−4,33(2H,q、J=8H
z)。
6、5〜8.3 (IH,broad )、  8.3
7 (IH,d、 J=5)tz)。
9.15(IH,broad s)、  9.45(I
H,broad s)+412−(4−ホルムアミドピ
リミジン−2−イル)酢酸エチル(7,0y)の酢酸(
34d)溶液に、亜硝酸ナトリウム(4,1y)の水(
12Wdり溶液を、10℃で撹拌しながら15分を要し
て滴下し、同温度で1時間、室温で1時間夫々撹拌を続
けた。反応混合物を水浴中で冷却し、水(50me )
を追加した。析出物を戸数し、水及びジエチルエーテル
で順次洗浄してから乾燥すると粉末状の2−(4−ホル
ムアミドピリミジン−2−イル)−2−ヒドロキシイミ
ノ酢酸エチル、mp164〜168℃(分解)か定量的
に得られた。
N、 M、 R,δppm(DMSO−ds) : 1
.30(3H,t、 J=8Hz )。
4.40(2H,q、J=8Hz)−7,5(IH,b
road)。
8.73(IH,d、 J=6Hz)、  9.05(
IL broad 5)(5) 2−(4−ホルムアミ
ドピリミジン−2−イル)−2−ヒドロキシイミノ酢酸
(7,0y)を加熱下にジオキサン(200tIIりに
溶解し、次いで水浴中で室温迄冷却した。更にこの溶液
へ、ジアゾメタンのジエチルエーテル溶液を、出発物質
が完全に消失する迄加えた。反応混合物を混合して褐色
油状物を得、これをシリカゲル(140y)のカラムク
ロマトグラフに展開して精製した。展開液としてベンゼ
ン、溶出液としてベンゼンと酢酸エチルの混液(3:1
)を使用し、淡褐色半固体状の2−(4−ホルムアミド
ピリミジン−2−イル)−2−メトキシイミノ酢酸エチ
ル(4,1’)を得た。
1、 R,ν液膜: 3500〜3600(shoul
der)。
ax 2900〜3400. 1680〜1740゜1560
、 1500. 1250. 1020゜840CII
!−1 N、M、R,Jppm(CDC13)二 1.40(3
L  t、J:=8Hz)。
4、17(3H,s )、  4.47(2H,q、 
J=8Hz)。
7.5〜8.6(LH,broad)−8,73(IH
,d、J=6Hz)。
8.9(IH,broad) (612−(4−ホルムアミドピリミジン−2−イル)
−2−メトキシイミノ酢酸(4,3P)と10規定水酸
化ナトリクム水溶液(6,1me )のエタノール(1
00me)との混合物を室温で3時間撹拌した。反応混
合物中に撹拌下濃塩基を徐々に加え、そのPHを3にし
た。析出物を戸数し、エタノール及びジエチルエーテル
で順次洗浄した後乾燥すると、白色結晶状の2−(4−
アミノピリミジン−2−イル)−2−メトキシイミノ酢
酸が得られた。
N、 M、 R,δppm(D、0−NaHCO2):
 4.05(3H,s)。
6.67(IH,d、J=6Hz)−8,18(IH,
d、J=6Hz)p液と洗液を合わせ、溶媒を留去した
。残液にジエチルエーテルを加えて粉末化してp取乾燥
すると更に同一物質が得られた。
(7)実施例4−(11に記載した方法に準じて、2−
(4−ホルムアミドピリミジン−2−イル)−2−メト
キシイミノ酢酸の褐色粉末、mp64〜70℃(分解)
を得た。
11、 M、 R,δppm(DMSO−d6): 4
.02(3H,s)−7,1〜7.9(IH,broa
d)、 8.73(LH,d、 J=6Hz)。
8゜9 (LH,broad ) 実施例9 +1)  2−(4−ホルムアミドピリミジン−2−イ
ル)酢酸エチル(2,95p)と2酸化ゼレン(1,7
3y)のジメチルホルムアミド(30d)との混合物を
50〜52℃に加熱しながら1時間、更に70〜72℃
に加熱しながら0.5時間撹拌を続けた。反応混合物を
室温迄冷却し、F取した析出物を酢酸エチルで洗浄した
。p液と洗液を合わせ、減圧下100℃以下の条件で約
5−になる迄濃縮した。残液を水(50rIdりに注ぎ
、得られた混合物を10分間撹拌した。再び濾過し、戸
数した析出物を水洗した。F液と洗液を合し、炭酸水素
ナトリクム水溶液でpH7に調整した。混合物を酢酸エ
チルで洗浄してから塩化ナトリウムで飽和させ、次に酢
酸エチルとエタノールあ混液(2:1)で抽出した。抽
出液を塩化ナトリクム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥してから溶媒を留去すると、2’(4−ホ
ルムアミドピリミジン−2−イル)グリオキシル酸エチ
ルとその1水和物即ち2−(4−ホルムアミドピリミジ
ン−2−イル) −2,2−ジヒドロ酢酸エチルの混合
物(2,1’)が深い黄色油状物として得られた。
(212−(4−ホルムアミドピリミジン−2−イル)
酢酸エチル(2,95y)、2塩化ゼレン(1,87y
)及びN、N−ジメチルホルムアミド(15mt’)の
混合物を70°Cに加熱しながら1時間撹拌した。反応
混合物を室温迄冷却して濾過し、戸数した析出物を少量
のH,H−ジメチルホルムアミドで洗浄した。F液と洗
液を合わせ、溶媒を留去した。残液を水(601nりに
注ぎ、得られた混合物を10分間撹拌した。これに炭酸
水素ナトリクム水溶液を加えてpH6〜7とし、不溶物
を分離して洗浄した。F液と洗液を合し、ジエチルエー
テルと酢酸エチルで順次洗浄した。水性混合物を塩化ナ
トリウムで飽和し、クロロホルムとエタノールの混液(
1:1)で4回(60me / 1回)洗浄した。抽出
液を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。残っ
た油状物質(2,25’)を酢酸エチル(10d)に溶
解し、シリカゲル(15y)のカラムクロマトグラフに
展開し、酢酸エチルで溶出した。目的物質を含む溶出液
の両分を集め、溶媒を留去した。残留した油状物質(1
,5y)を少量の酢酸エチルに溶解し、ジイソプロピル
エーテルで再結晶すると、2−(4−ホルムアミドピリ
ミジン−2−イル)グリオキシル酸エチルとその1水和
物即ち2−(4−ホルムアミドピリミジン−2−イル)
 −2,2−ジヒドロキシ酢酸エチルの混合物が淡黄色
結晶(0,6y)、mp74〜78℃として得られた。
1、 R,νヌジョール:  3200〜3400. 
1755. 1690〜ax 1710、 1595. 1580. 1280゜12
50、 1215. 1135. 1100゜1030
、 850CIl+ N、 M、 R,δppm(DMSO−d6) : 1
.16(1,8H,t、 J=7Hz ) 。
1.26(1,2)i、t、J=7Hz)、4.10(
1,2H,(1−J=7Hz)、  4.42(0,8
H,q、、T=7Hz)、  6.97(1,2H。
broad a)、7.0〜7.8(ILm)、8.6
4(0,6H。
d、J=6Hz)、8.90(0,4H,d、、T=6
Hz)、8.8〜9.6(IH,m)、  11.15
(LH,broad 5)(3)実施例6−(1)で得
た2−(4−ホルムアミドピリミジン−2−イル)グリ
オキシル酸とその1水和物をエタノール(30me )
に溶解し、これに水酸化カリウムの1規定エタノール溶
液(11me )を水冷撹拌下に滴下し、室温で更に2
時間撹拌を続けた。反応終了後濾過し、戸数された析出
物を少量のエタノール及びジエチルエーテルで順次洗浄
し、乾燥すると、2−(4−アミノピリミジン−2−イ
ル)−グリオキシル酸カリウムが褐色粉末状で得られた
(0.4y)。p液と洗液を合し、約15 me迄濃縮
した後の残液にジエチルエーテル(20Wdりを加えた
。沈殿物を戸数し、少量のエタノールとジエチルエーテ
ルで順次洗浄すると、2−(4−アミノピリミジン−2
−イル)グリオキシル酸カリウムとその1水和物の混合
物(0,1’)が淡褐色粉末状で得られた。総収量:1
.2y 1600、 1245. 940. 750c*−1(
4)0−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩(0,25y
)のメタノール(6−)溶液を、2−(4−アミノピリ
ミジン−2−イル)グリオキシル酸カリウムとその1水
和物の混合物中に、室温撹拌下加え、更に4時間撹拌を
続けた。反応混合物を室温で1夜放置後濾過し、戸数さ
れた析出物をエタノールで洗浄した。p液と洗液を合し
てから溶媒を留去し、生成した油状物質をアセトン(1
5d)中で粉末化して戸数した。これを少量のアセトン
及びジエチルエーテルで洗浄した後乾燥すると、淡褐色
粉末状の2−(4−アミ/ピリミジン−2−イル)−2
−メトキシイミノ酢酸(シン異性体: 290W#)が
得られた。  。
1540〜1660. 1250. 990〜1040
C1lIN、 M、 R,δpP” (DzO+NaH
CO3) : 4.05 (3H−s )−6,63(
IH,d、 J−6Hz)、 8.13(IH,d、 
、T=6Hz)実施例10 ill  実施例4−fl)と同様の方法により2−(
2−ホルムアミド−6−クロロピリミジン−4−イル)
酢酸メチル(結晶)を得た。
1540〜1580. 1500. 1420. 13
80゜1350、 1270. 1240. 1140
. 840゜770、 740備−1 (2)実施例8−(41と同様の方法により2−(2−
ホルムアミド−6−クロロピリミジン−4−イル)−2
−ヒドロキシイミノ酢酸メチル、m9110〜112℃
を得た。
工R,vXジ”−”:  3200. 1740. 1
700. 1675゜ax 1570.1560. 1380. 1270. 12
40゜1180、1045.860.810.750(
!l!!−1N、 M、 R,δppm(DMSO−a
=): 3.90(3H,s)、  7.57(LH−
s)−9,23(IH,d、J=9Hz)、  11.
40(IH,d、J−9Hz)、  13.28(LH
,5)(3)実施例8−+51と同様の方法によシ2−
(2−ホルムアミド−6−クロロビリミジン−4−イル
)−2−メトキシイミノ酢酸メチル(粉末)、mp16
5〜172. j℃を得た。
1、 R,ν8ジ”’:  3150. 1750. 
1700. 1670゜ax 1645、 1420. 1380. 1270. 1
250゜、  1040. 955. 795. 73
5国−1L M、 R,δppm(DMSO−d6):
 3.93 and 4.14(6H,s)、 7.5
9(IH,s)、  9.26(IH,d。
J=9Hz)、  11.50(lH,d、、T=9H
z)(4)実施例8−(61と同様の方法により2−(
2−アミノ−6−クロロピリミジン−4−イル)−2−
メトキシイミノ酢酸(粉末)を得た。
1660、 1365− 1030cm−1N、 M、
 R,δppm(DMSO−d6+D!O): 3.8
0(3H,s)。
(5)実施例4−filと同様の方法により2−(2−
ホルムアミド−6−クロロピリミジン−4−イル)−2
−メトキシイミノ酢酸(粉末)、mp138〜142°
C(分解)を得た。
1695、 1670. 1550. 13g5゜12
50、 1040. 820cm ”N、M、R,Jp
pm(DMSO−d6): 4.05(3H,s)。
11、11(IH,d、 J=9Hz )実施例11 (1)n−プチルリチクムの15%n−ヘキサン溶液(
636? ’)を、2−アミノ−6−メチルピリジン(
64,8f )のテトラヒドロ7ラン(SOOWdり溶
液に、−20〜−30℃で1時間を要して加えた後、−
8〜−10℃で更に30分間撹拌した。この溶液にトリ
メチルシリルクロライド(161,7P)を−15〜−
5℃で40分を要して加え、室温で1夜撹拌した。この
溶液をシリカゲル(181’)充填のカラムで濾過し、
テトラヒドロフランで洗浄してから、減圧下KF液゛を
濃縮した。残渣を分別蒸留して精製すると、2−[N、
N−ビス(トリメチルシリル)アミノ] −6−メチル
ピリジン(117,6y)、bp95〜97’C15〜
6調−が得られた。
N、 M、 R,δppm(CC1!4、): 0.1
3(18H,s)、  2.35(3H,s)、  6
.43(IH,d、J=8Hz)−6,60(IH。
d、 J=8Hz)、  7.25(IH,t、 J=
8Hz)(2)n−プチルリチクムの15%n−ヘキサ
ン溶液(338,6y)を、2−[N、N−ビス(トリ
メチルシリル)アミノコ−6−メチルピリジン(LOO
y)の無水テトラヒドロフラン(30〇−)溶液に、−
20〜−30℃で1時間を要して加え、20〜23℃で
更に1時間撹拌した。反応混合物を、撹拌下に粉砕ドラ
イアイス(1kg)中に少量ずつ加え、室温になる迄撹
拌した。減圧下にテトラヒドロフランを留去した後、無
水エタノール(IIりを残渣に加えた。この溶液に、塩
化水素の30%エタノール溶液(6601nl)を−5
〜−10℃で滴下し、更に30分間O〜5℃で塩化水素
ガスを吹き込んだ。反応液を1夜10°Cで撹拌し、反
応液からエタノールを留去した後、残渣を水に溶解して
酢酸エチルで3回洗浄した。この溶液に炭酸水素ナトリ
ウムを加えてpH7〜8に調整し、酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を塩化ナトリクム飽和水溶液で洗浄し、乾燥
後減圧下に濃縮して粗製の目的物質(54y)を得た。
これをシリカゲル(1#)のカラムクロマトグラフで精
製し、溶出液(酢酸エチル+ベンゼン)から、2−(6
−アミノピリジン−2−イル)酢酸エチル(30,2y
)、mp66〜68℃を得た。
1645、 1480. 1190cm−1N、 M、
 R,δppm(CDCls) :  1.25(3H
,t、 J=6Hz)。
3.67(2H,s)、  4.20(2H,q、J=
6Hz)−5,33(2H,broad s)、6.4
3(IH,d、J=8Hz)。
6.62(11,d、J=8Hz)、7.40(LH,
t、J=8Hz)(3)実施例4−+11と同様の方法
により2−(6−ホルムアミドピリジン−2−イル)酢
酸エチル、mp35〜38℃を得た。
1580、 1460. 1305. 1277cm−
1N、 M、 R,Jppm(DMSO−d6) : 
1.17(3H,t、 J=8Hz)。
3.75(2H,s)、  4.08(2H,q、J=
8Hz)、  6.85(0,5H,broad d、
 J=8Hz)、  7.95(0,5H。
broad s)、  7.08(IH,d、J=8H
z)、  7.73(IL t、 J=8Hz)、  
8.33(0,5H,broad 8)−9,25(0
,5H,broad d)、  10.58(IH,b
road s)+412−(6−ホルムアミドピリジン
−2−イル)酢酸エチル(26y)のジオキサン(2°
60f111)溶液に、2酸化ゼレン(16,65y)
を85〜90℃で1時間を要して少量ずつ加え、同温度
で1時間撹拌した。反応混合物を冷却した後ジオキサン
層を分離して減圧下に濃縮し、決済を酢酸エチルに溶解
した。この溶液を水洗してから硫酸マグネシウムで乾燥
し、活性炭で処理後減圧下に濃縮した。残渣をジエチル
エーテルで粉末化すると、2−(6−ホルムアミドピリ
ジン−2−イル)グリオキシル酸エチル(14,3y)
、mp124〜126℃が得られた。
1690、 1273. 1233cm−1N、 M、
 R,δppm(DMSO−d6): 1.34(3H
,t、 J=8Hz)。
4.44(2H,q、 J=8Hz)、 7.33(0
,65H,broads)、 7.8〜8.2(0,3
5H)、  7.84(IH,a、’J=8Hz)、 
8.09(IH,t、J=8Hz)、 8.44(0,
35H,broad s)、 9.22(0,65H,
broads)、10.85(LH,broad 5)
(5)実施例4−+4)と同様の方法により、2−(6
−ホルムアミドピリジン−2−イル)グリオキシル酸を
経て2−(6−ホルムアミドピリジン−2−イル)−2
−メトキシイミノ酢酸(シン異性体)、mp170〜1
41°C(分解)を得た。
■、R1νヌジョール:  3230. 3132. 
1745. 1680゜ax 1575、 1450. 1320. 1208゜10
32a++ N−M−R,Jppm(DMSOda ): 3.70
(3H−s)−6,90(0,6H,broad d)
−7,9(0,4H,broad s)。
7.10(IH,d、J=8Hz)、7.75(LH,
t、、r=8Hz)。
8.38(0,4H,broad  s)、  9.2
5(0,6H,broadd)−10,58(LH,b
road d)(612−(6−ホルムアミドピリジン
−2−イル)−2−メトキシイミノ酢酸(シン異性体:
s、oy)と濃塩酸(2,34gl)のメタノール(5
0d)との混合物を室温で40分間撹拌した。反応混合
物から減圧下にメタノールを留去した後、残液をジエチ
ルエーテルで粉末化し、p取乾燥すると、淡褐色粉末状
の2−(6−アミノピリジン−2−イル)−2−メトキ
シイミノ酢酸の塩酸塩(シン異性体:5.2y)が得ら
れた。
N、 M、 R,δppm(DMSO−d6+ D20
 ) : 4.10(3H,s)。
6、84 (IH,d、 J=7Hz )、  7.2
3(IL d、 J=10Hz )。
7.99(IH,dd、 J=7Hz、 10Hz)(
712−(6−アミ/ピリジン−2−イル)−2−メト
キシイミノ酢酸の塩酸塩(シン異性体:s、oy)、酢
酸(350rIdり及び水(10Wf、)の混合物中に
塩素ガスを1.5時間導入した。反応混合物中に空気を
吹込むことによって過剰の塩素を放出した後、溶媒を留
去し、決済をジエチルエーテルで粉末化して戸数した。
この粉末に水及び酢酸エチルを加えた後、水層を分離し
て酢酸エチルで洗浄した。酢酸エチルのp液及び洗液、
を合わせ、更に水で洗浄した。前記水層とこの洗液を合
し、1規定水酸化ナトリクム水溶液でpH4に調整して
から、減圧下に溶媒を留去した。残渣中に残った水分は
、ベンゼンによる共沸を3回利用して除去し、褐色粉末
を得た。水晶をデシケーク−中で乾燥することにより、
2−(6−アミノ−3−クロロピリジン−2−イル)−
2−メトキシイミノ酢酸(シン異性体: 3.27 y
)が得られた。
N、 M、 R,lppm(DME30−d@+D20
): 3.81(3H,5)−6,50(LH,d、 
J=9Hz)、  7.48(LH,d、 J=9Hz
)更に、残された方の酢酸エチル層を硫酸マグネシウム
で乾燥し、溶媒を留去した。残渣をジエチルエーテルで
洗浄後乾燥すると、2−(6−アミノ−3,5−ジクロ
ロピリジン−2−イル)−2−メトキシイミノ酢酸(シ
ン異性体: 2.4 y)、mp139〜144℃が得
られた。
N、 M、 R,δppm(DMSO−da ): 3
.96(3H−5)−6,2〜7.1 (2H,bro
ad)、  7.83(IH,5)(8)−a)  実
施例4−(11と同様の方法により2−(3−クロロ−
6−ホルムアミドピリジン−2−イル)−2−メトキシ
イミノ酢酸(シン異性体:粉末)、mp151〜154
℃を得た。
1290、 1250. 1140. 1050゜84
0cI11−1 (sl−b) ′*施例4.−(1)と同様の方法によ
り2−(3,5−ジクロロ−6−ホルムアミドピリジン
−2−イル)−2−メトキシイミノ酢酸(シン異性体:
粉末)、mp164〜165℃を得た。
1565、 1410. 1250. 1035cm 
”N、M、R,Jppm(DMSO): 4.02(3
H,s)、  8.29(IH。
s)−9,05(LH,d、J=10Hz)、  10
.77(IH,d。
J=10Hz) 実施例12 3−エトキシアクリルイミド酸エチル塩酸塩(4,1’
)と1−エトキシカルボニルホルムアミジン臭化水素酸
塩(4,4P)のメタノール(110d)溶液に、金属
ナトリクム(1y)のメタノール(110mi’)溶液
を0°Cで滴下した。反応混合物を0〜5°Cで1時間
、室温で更に4時間撹拌を続け、溶媒を蒸発乾燥した後
、残液を酢酸エチルと塩化ナトリクム水溶液の混液に溶
解させた。有機層を分離し、水層の方を酢酸エチルで5
回洗浄した。全ての有機溶媒層を合し、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後溶媒を蒸発乾燥させ、残渣をジエチルエ
ーテルで粉末化すると、4−アミノピリミジン−2−カ
ルボン酸メチル(1,33y)が得られ、酢酸エチルで
再結晶し、融点140〜142.5℃の同化合物が得ら
れた。
1630、 1585− 1540cln−1N、 M
、 R,δppm(DMSO−d6):  3.81(
3H,s)、  6.54(IH,d、、T−6Hz)
、  7.23(2H,a)、  8.16(LH,d
、J=6Hz) 実施例13 (1)2−クロロアクリロニトリル(437mg )と
1−エトキシカルボニルホルムアミジン臭化水素酸塩(
985〜)のエタノール(5d)溶液に、0℃でトリエ
チルアミン(1,015i’)ヲlIi下した。
反応混合物を室温で4時間撹拌し、蒸発乾燥した。
決済を、酢酸エチルと水の混液に加え、酢酸エチルで3
回抽出した。抽出液を合わせて硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶蝮を蒸発乾燥した。決済をジエチルエーテルで粉
末化すると4−アミノピリミジン−2−カルボン酸エチ
ル(480#)が得られ、これを酢酸エチルとベンゼン
の混液で再結晶すると、mp101〜104°Cの同一
目的物質が得られた。
LH,u’ジ”−”:  3450. 3300.31
80. 1730゜aX 1630、 1580. 1540c* ’H,M、 
R,δppm(DMSO−a6):  1.30(3H
,t、 、T=7Hz)。
4.30(2H,(1,J=7Hz)、6.60(IH
,d、 J=6Hz)。
7.31(2H,s)、8.20(IH,d、J=6H
z)実施例13−11+の方法に準じ、塩基としてトリ
エチルアミン又は炭酸水素ナトリクムを用いることによ
って下記の化合物が得られた。
(2)4−アミノピリミジン−2−カルボン酸メチル 1630、 1585. 1540z−1の混合物を室
温で0.5時間撹拌した。この溶液に、4−アミノピリ
ミジン−2−カルボン酸エチル(30? ’)を加え、
70〜75℃で1.5時間撹拌した。溶媒を蒸発乾燥し
、残渣をエタノールで粉末化した後戸数し、エタノール
で洗浄すると、4−ホルムアミドピリミジン−2−カル
ボン酸エチル(20,0y)、mp205〜206℃が
得られた。
1、R,シヌジョール:  3100.  1720.
  1630.  1570゜ax 1520cm−1 N、 M、 R,δppm(DMSO−d6): 1.
37(3H,t、 、T=7Hz)。
4.40(2H,q、 J=7Hz)、  7.73(
IH,broad s)。
8.83(IH,d、J=4Hz)、9.00(IH,
broad 5)−11,40(IH,broad s
) 実施例14−111の方法に準じて下記の化合物を得た
(2)4−ホルムアミドピリミジン−2−カルボン酸メ
チル、mp234〜236℃ 1570、 1530. 1510cm−1N、 M、
 R,δppm(DMSO−d6): 3.93(3H
,s)、  7.73(IH,broad s)、  
8.82(IH,d、J=5Hz)。
9.00(IH,broad s)、  11.40(
IH,broad s)実施例15 、4−ホルムアミドピリミジン−2−カルボン酸メチル
(1,34y)とメチル メチルチオメチルスルホキシ
ド(0,89y)のN、N−ジメチルホルムアミド(1
0WIl)溶液に、10℃で撹拌下に50チ水素化ナト
リクム(1,1’)を加え、室温で1.5時間撹拌を継
続した。混合物を水浴中で冷却し、これに塩化メチレン
(30Wdりを加えた。析出した結晶を戸数し、塩化メ
チレン(50rnl)、氷水及び濃塩酸(2,11nl
)の混合物に撹拌下栓々に加えた。塩化メチレン層を分
離し、水層を塩化メチレンで抽出した。抽出液を合して
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を蒸発乾燥した。残渣
をジエチルエーテルで粉末化し、濾過した後ジエチルエ
ーテルで洗浄すると、4−ホルムアミド−2−(2−/
タンスルフィニルシー2−メチルチオアセチル)ピリミ
ジン(1,2y)が得られた。
7.67(IH,broad s)、  8.92(I
L d、 J=5Hz)。
9.17(IH,broad s)、  11.40(
IH,broad s)実施例15−+1)の目的物質
と同一の化合物が、下記の化合物から同様の方法によっ
て製造さ、れた。
(2)4−ホルムアミドピリミジン−2−カルボン酸エ
チル 物を室温で0.5時間撹拌した。この溶液に、4−ホル
ム7ミ)”−2−(2−メタンスルフィニル−2−メチ
ルチオアセチル)ピリミジン(2,6y)を加え、この
混合物を50℃で1.5時間撹拌し、更に同温度で1時
間過沃素酸ナトリクム(610■)を加えて撹拌した。
混合物を蒸発乾燥させ、残渣を、酢酸エチル(50ml
’)と塩化ナトリクム水溶液(201nりの混液に溶解
した。有機層を分離し、水層は酢酸エチルで3回抽出し
た。有機層を合して硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を
留去した。残m(2,1’)をシリカゲル(13y)の
カラムクロマトグラフに展開し、酢酸エチルとベンゼン
の混液(容量比、1:1)で溶出した。目的物質を含む
両分を集め、溶媒を蒸発乾燥した後、少量の酢酸エチル
で再結晶すると、4−ホルムアミドピリミジン−2−チ
オグリオキシル酸S−メチルの純品(s4ow)、mp
H2〜i14°Cが得られた。
1585(411!’ N、 M、 R,δppm(DMSO−d6): 2.
17(3H,s)−7,20(IH,broad s)
、  8.12(IH,d、 J=6Hz)。
9.17(LH,broad s)、  11.08(
LH,d、 J=7Hz)実施例17 (1)4−ホルムアミドピリミジン−2−チオグリオキ
シル酸S−チオメチル(3,0y)の水(26me )
懸濁液に、1規定水酸化ナトリクム水溶液(12Wdり
を室温で滴下し、同温度で30分間撹拌した。この溶液
に、エトキシアミン塩酸塩(1,3y)、水(10d)
及び炭酸水素ナトリクム(1,12y)から製造された
エトキシアミン水溶液を加え、室温で30分間撹拌した
後、1規定塩酸(1,5m1)でpH4とした。この溶
液を室温で更に10分間撹拌した後、l規定塩酸でpH
3とし、次いで酢酸エチルで洗浄した。水層を塩析し、
10%塩酸でpH1に調整しながら酢酸エチルで抽出し
た。
抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を蒸発乾燥し
て得られる結晶性残渣をn−ヘキサンで抽出すると、2
−エトキシイミノ−2−(4−ホルムアミドピリミジン
−2−イル)酢酸(シン異性体:2.22y)、mp1
30〜135℃(分解)が得られた。
■、R,v’ジ’−”:  3250. 1720. 
1630. 1605゜ax 1570a++−1 N、 M、 R,δppm(DMSO−dr、 ) :
 1.28(3H,t、 J=7Hz )。
4、32(2H,q、 J=7H2)、  7.4〜7
.7(IH,m’)。
8.72(1)1.d、J=6Hz)−8,8〜9.1
(IH,m)−11,37(IH,d、 J=6Hz)
実施例17−(1)と同様の方法で下記の化合物を得た
(2+2−(4−ホルムアミドピリミジン−2−イル)
−2−メトキシイミノ酢酸(シン異性体)、mp165
〜166°C(分解) 工、R0ν8ジ”’:  3400. 3250. 3
150. 1740゜ax 1700、 1570cm ’ N、 M、 R,δppm(DMSO−d6):  4
.00(3H,s)、  7.53(LH,broad
 s)、  s、72(IH,d、J=6Hz)。
8.87(LH,broad s)、  11.23(
ILd、、T=6Hz)+312−(4−ホルムアミド
ピリミジン−2−イル)−2−プロポキシイミノ酢酸(
シン異性体)、mpH4〜117℃(分解) 1690、 1615. 1570. 1540側(4
)2−アリルオキシイミ/−2−(4−ホルムアミドピ
リミジン−2−イル)酢酸(シン異性体)、mp120
〜122°C(分解)1570、 1515cm−1 (5) 2−ベンジルオキシイミノ−2−(4−ホルム
アミドピリミジン−2−イル)酢酸(シン異性体)、m
975〜77°C ■、R1ν8ジ”’:  3250. 3050. 1
720. 1630゜aX 1570σ−1 実施例18 2−(6−10ロー4−ホルムアミドピリミジン−2−
イル)酢酸エチル(z4.3y)と2酸化ゼレン(16
,65p)のN、N−ジメチルホルムアミド(243m
e)溶液の混合物を、70〜75°Cで1時間撹拌した
。析出物を戸別し、p液を減圧下で濃縮した。残渣を酢
酸エチル(sooWdりに溶かし、水と塩化ナトリクム
水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムを用いて乾燥し
、溶媒を蒸発乾燥した。残渣をジイソプロピルエーテル
で粉末化すると、6−クロロ−4−ホルムア°ミドピリ
ミジンー2−イルグリオキシル酸エチル(17,74y
)の粉末が得られた。水晶(1y)を酢酸エチル(10
me)で再結晶すると、純品(570fng)、mpH
4〜117℃が得られた。
1720〜1680. 1580〜1550゜1250
、 1200. 850. 730cm−’実施例19 6−クロロ−4−ホルムアミドピリミジン−2−イルグ
リオキシル酸エチル(10,6y)とメトキシアミン塩
酸塩(3,34y)のエタノール(200me )との
混合物に炭酸水素ナトリウム(3,36y)の水溶液(
60d)を加え、室温で2時間撹拌した。溶媒を留去し
てから残渣を酢酸エチルに溶解し、水洗及び硫酸マグネ
シウムによる乾燥の後、再び溶媒を留去して油状物質(
10,8y)を得た。
氷晶をシリカゲル118yのカラムクロマトグラフに展
開し、ベンゼンで溶出した。目的物質を含む画分を集め
、溶媒を蒸発して得られる油状物質(5,6y)をジエ
チルエーテルで再結晶すると、2−(6−90ロー4−
ホルムアミドピリミジン−2−イル)−2−メトキシイ
ミノ酢酸エチル(シン異性体)、mpH6〜119℃が
得られた0 ■、R1シ蒼jx’−″: 3400.1750. 1
725.1665゜1495、 1270. 1030
cm−1N、 M、 R0δppm(CDCf3 ):
  1.35(3H,t、 J=7Hz)。
4.09(3H,s)、  4.40(2H,q、J=
7Hz)、  6.5〜8.3(IH,broad)、
  8.3〜9.0(LH,broad)。
9、2 (IH,broad s ) 実施例20 2−(4−ホルムアミドピリミジン−2−イル)酢酸エ
チルと2酸化ゼレン(31,87y)のN、N−ジメチ
ルホルムアミド(240d)との混合物を70〜75℃
で1時間撹拌し、次いで室温まで冷却した。析出した固
体を戸去し、p液を減圧下に蒸発させると油状物質が得
られた。撹拌中の水(7some)にこの油を加え、炭
酸水素ナトリクム水溶液でpH’7に調整した。析出し
た黄色物質を戸去し、p液を洗浄した。F液と洗液を合
し、これにメトキシアミン塩酸塩(19,95y)を加
えた。この混合物を炭酸水素ナトリクム水溶液でpH4
とし、室温で3時間撹拌した。水性反応液を酢酸エチル
で抽出し、抽出液を塩化ナトリクム水溶液で洗浄した後
、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒を留去すると、褐色
油状の2−(4−ホルムアミドピリミジン−2−イル)
−2−メトキシイミノ酢酸エチル(シン異性体:31y
)が得られた。
N、 M、 R,δppm(CDCI!3):  1.
36(3H,t、、T=7Hz)。
4.12(3H,s゛ル44−2(2,H,(1−J=
7Hz)、−6,5〜8.2(IIE、broad)、
8.66(IH,d、、T=6Hz)。
8、8〜10.0 (2H,broad )実施例21 +11 2−(4−ホルムアミドピリミジン−2−イル
)−2−メトキシイミノ酢酸(シン異性体:30.8y
)の−1’−り/−ル(308me)溶液に、水酸化カ
リタムの1規定アルコール性溶液(550ml)を加え
、室温で3.5時間撹拌した。反応混合物を水浴中で冷
却し、濃塩酸(53m7’)によってpH3とした。残
った固形物を戸数し、エタノール(60me)、水(1
00me)、アセトン(100me )で順次洗浄する
と、粗製の目的物質(28,82)が得られた。氷晶(
1y)を水(10rnIりで再結晶すると、精製された
2−(4−アミノピリミジン−2−イル)−2−メトキ
シイミノ酢酸(2水和物、シン異性体:0.49)、m
p178〜183℃(分解)が得られた。
実施例2l−11)と同様の方法により下記の化合物が
得られた。
+21 2−(4−アミノ−6−クロロピリミジン−2
−イル)−2−メトキシイミノ酢酸(シン異性体) 1610〜1580. 1530. 1040. 72
0cm−1N、 M、 R,δppm(D20): 4
.10(3H,s)、  6.76(IH,s)実施例
22 2−(4−クロロ−6−ホルムアミドピリミジン−2−
イル)−2−メトキシイミノ酢酸エチル(シン異性体:
17y)のエタノール(255me )溶液に、水浴中
で冷却下に塩化ホスホリル(14,7y)を滴下した。
混合物を室温で1゜5時間撹拌し、溶媒を蒸発乾燥した
。残渣を酢酸エチルと水の混合物に溶解し、炭酸水素ナ
トリクム水溶液でpl(7に調整した。有機層を分離し
、硫酸マグネシウムで乾燥した後溶媒を蒸発乾燥した。
残渣をn −ヘキサンで粉末化すると、2−(4−アミ
ノ−6−クロロピリミジン−2−イル)−2−メトキシ
イミノ酢酸エチル(シン異性体:9.99y)、mpH
6〜119℃が得られた。
1640− 1575.1535. 1040cm−1
N、 M、 R,δppm(DMSO−d6) : 1
.30(3H,t、 J=7Hz)。
4.03(3H,s)、4.30(2H,q、J=7H
z)、  6.53(IH,s)、 7.5(2H,b
road s)実施例23 ft)2−(4−アミノ−6−クロロビリミジン−2−
イル)酢酸エチル11.sy)のメタノール(200m
e)溶液に、金属ナトリウム(7,25y)のメタノー
ル(130m/)溶液を加え、3.5時間還流させた。
反応混合物を水浴中で冷却し、塩化水素ガスを飽和させ
てから室温で1夜放置した。この混合物から溶媒を蒸発
乾燥させ、残渣を酢酸エチルと炭酸水素ナトリウムの冷
水溶液中に加えた。有機層を分取し、水洗して硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を蒸発乾燥させると、2−(
4−アミノ−6−メドキシピリミジンー2−イル)酢酸
メチル(14,2y)、mp 91〜94°Cが得られ
た。
■、R0ν8ジ”’:  3480.3390. 32
10. 1738゜aX 1660、 1600cm−1 N、 M、 R,δppm(DMSO−da): 3.
66(5H,s)、 3.82(3H,s)−5,68
(11,s)、  6.66(2H,broad a)
(2)チオフェノール(2,55y)のN、H−ジメチ
ルホルムアミド(20me )溶液を水浴中で冷却して
おき、これに50%水素化ナトリウムを加え、0〜5℃
で20分間撹拌した。この混合物に2−(4−アミノ−
6−クロロピリミジン−2−イル)〜2−メトキシイミ
ノ酢酸エチル(2,0y)を加え、室温で6時間撹拌し
た。反応混合物を冷水に注ぎ、希塩酸でpH7としてか
ら酢酸エチルで抽出した。抽出液を水洗し、硫酸マグネ
シウムで乾燥した後溶媒を蒸発乾燥した。残渣をシリカ
ゲル(509)充填のカラムクロマトグラフに展開し、
クロロホルムと酢酸エチルの混液(容量比、3:1)で
溶出した。目的物質を含む両分を集め、溶媒を蒸発乾燥
させると、2−(4−アミノ−6−フェニルチオピリミ
ジン−2−イル)−2−メトキシイミノ酢酸エチル(シ
ン異性体:460rr#I)、mp154〜156℃が
得られた。
1620、 1550. 1520. 1300゜10
40、 1025. 700α−1N、 M、 R,δ
ppm(CDC13):  1.34(3H,t、 J
=7Hz)。
4.05(3H,s)、  4.27(2H,q、J=
7Hz)、  5.2(2H,broad s)、  
5.84(lH,s)、  7.2〜7.7(5H,m
) 実施例24 実施例14−il+の方法に準じ、2−(4−アミ(3
0,4!lと反応させることにより、2−(4−ホルム
アミド−6−ノドキシビリミジン−2−イル)酢酸メチ
ル(13,9P)、mp61〜63°Cを得た。
N、 M、 R,δppm(JMSO−d6): 3.
73(3H,s)、  3.87C2H,s)、  3
.96(3H,s)、6.1〜7.8(ILbroad
)、  8.1〜9.8(IH,broad)、10.
87(IH,d、 J=6Hz ) 実施例25 実施例20の方法に準じ、2−(4−ホルムアミド−6
−メトキシピリミジン−2−イル)酢酸メチル(12,
24y)を二酸化ゼレン(6,91’)及びメトキシア
ミン塩酸塩(4,51? )と反応させることにより、
2−(4−ホルムアミド−6−メドキシピリミジンー2
−イル)−2−メトキシイミノ酢酸メチル(シン異性体
:12.47p)を得た。
1590、 1565. 1210. 1035C1l
+−1実施例26 +11  実施例21の方法に準じ、2−(4−ホルム
アミド−6−メドキシビリミジンー2−イル)−2−メ
トキシイミノ酢酸メチル(シン異性体:12、0 ? 
>を水酸化カリタムの1規定エタノール溶液゛(1“8
7 me )と反応させることにより、2−(4−アミ
ノ−6−メドキシビリミジンー2−イル)−2−メトキ
シイミノ酢酸(シン異性体 〜8、221 )、mp1
27〜129°C(分解)を得た。
1、 R,ν8ジ”’:  3420.3380. 1
650. 1615゜aX 1590、 1250. 1050. 1025c++
+−1N、 M、 R,δppm(DMSO−d6+D
、O):  3.78(3H,s)。
3.95(3H,s)、5.78(IH,e)(2)実
施例21の方法に準じ、2−(4−アミノ−6−7エニ
ルチオビリミジンー2−イル)−2−メトキシイミノ酢
酸エチル(シン異性体:247111)を、水酸化ナト
リウムの1規定水溶液(1,81niりと反応させるこ
とにより、2−(4−アミノ−6−7エニルチオピリミ
ジンー2−イル)−2−メトキシイミノ酢酸(シン異性
体:130tng)、mp136〜138℃(分解)を
得た。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1_aは水素原子、アミノ基または保護さ
    れたアミノ基、R^1_bおよびR^1_cはそれぞれ
    水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基またはアリ
    ールチオ基、R^1^4はカルボキシ基または保護され
    たカルボキシ基、Xは低級アルキレン基または式▲数式
    、化学式、表等があります▼(式中、R^6は水素原子
    または適当な置換基を有していてもよい有機残基を意味
    する)で示される基、ZはNまたはCHをそれぞれ意味
    する〕 で示される酢酸誘導体もしくはその塩類。
  2. (2)R^1_aはアミノ基または保護されたアミノ基
    、Xは式▲数式、化学式、表等があります▼(式中、R
    ^6は水素原子、低級アルキル基、ハロ(低級)アルカ
    ノイル基、トリハロ(低級)アルキル基、低級アルケニ
    ル基、低級アルキニル基、フェニル基またはフェニル(
    低級)アルキル基を意味する) で示される基である特許請求の範囲第(1)項記載の化
    合物。
  3. (3)(イ)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1_aは水素原子、アミノ基または保護さ
    れたアミノ基、R^1_bおよびR^1_cはそれぞれ
    水素原子、ハロゲン原子、低級アルコキシ基またはアリ
    ールチオ基、R^1^4はカルボキシ基または保護され
    たカルボキシ基、ZはNまたはCHをそれぞれ意味する
    〕 で示される化合物もしくはその塩類に 一般式 R^6−ONH_2 (式中、R^6は水素原子または適当な置換基を有して
    いてもよい有機残基を意味する) で示される化合物もしくはその塩類を作用させ一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1_a、R^1_b、R^1_c、R^6
    、R^1^4およびZは前記と同じ意味) で示される化合物もしくはその塩類を得る方法:(ロ)
    一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1_a、R^1_b、R^1_c、R^1
    ^4およびZは前記と同じ意味) で示される化合物もしくはその塩類にニトロソ化剤を作
    用させ、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1_a、R^1_b、R^1_c、R^1
    ^4およびZは前記と同じ意味) で示される化合物もしくはその塩類を得る方法:(ハ)
    一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1_a、R^1_b、R^1_c、R^1
    ^4およびZは前記と同じ意味) で示される化合物もしくはその塩類に、そのヒドロキシ
    基の水素原子を基R^6′(基中、R^6′は適当な置
    換基を有していてもよい有機残基を意味する)で示され
    る基に置換しうる置換剤を作用させ、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1_a、R^1_b、R^1_c、R^6
    ′、R^1^4およびZは前記と同じ意味) で示される化合物もしくはその塩類を得る方法:(ニ)
    一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1_a、R^6およびR^1^4は前記と
    同じ意味)で示される化合物もしくはその塩類にハロゲ
    ン化剤を作用させ、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^8はハロゲン原子、R^1^5は水素原子
    またはハロゲン原子を意味し、R^1_a、R^6およ
    びR^1^4は前記と同じ意味) で示される化合物もしくはその塩類を得る方法:(ホ)
    一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1_a′は保護されたアミノ基、Xは低級
    アルキレン基または式▲数式、化学式、表等があります
    ▼(式中、R^6は前記と同じ意味)で示される基、R
    ^1_b、R^1_c、R^1^4およびZは前記と同
    じ意味〕 で示される化合物もしくはその塩類をアミノ保護基の脱
    離反応に付して 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1_b、R^1_c、R^1^4、Xおよ
    びZは前記と同じ意味) で示される化合物もしくはその塩類を得る方法:ならび
    に (ヘ)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1_b、R^1_c、R^1^4、Xおよ
    びZは前記と同じ意味) で示される化合物もしくはその塩類にアミノ保護基導入
    剤を作用させ、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1_a′、R^1_b、R^1_c、R^
    1^4、XおよびZは前記と同じ意味) で示される化合物もしくはその塩類を得る方法:からな
    る一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R^1_a、R^1_b、R^1_c、R^1
    ^4、XおよびZはそれぞれ前記と同じ意味) で示される酢酸誘導体の製造法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5387362A (en) * 1977-01-07 1978-08-01 Acf Chemiefarma Nv Antiiulcer agent for gastroenteric tube and novel oximeeether derivative having antiiulcer activity

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5387362A (en) * 1977-01-07 1978-08-01 Acf Chemiefarma Nv Antiiulcer agent for gastroenteric tube and novel oximeeether derivative having antiiulcer activity

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BE871889A (fr) 1979-05-09
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