JPS61140044A - マイクロチヤンネルプレ−トの製造方法 - Google Patents
マイクロチヤンネルプレ−トの製造方法Info
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- JPS61140044A JPS61140044A JP59261436A JP26143684A JPS61140044A JP S61140044 A JPS61140044 A JP S61140044A JP 59261436 A JP59261436 A JP 59261436A JP 26143684 A JP26143684 A JP 26143684A JP S61140044 A JPS61140044 A JP S61140044A
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- Japan
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- oxide
- glass
- microchannel plate
- core material
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/12—Manufacture of electrodes or electrode systems of photo-emissive cathodes; of secondary-emission electrodes
- H01J9/125—Manufacture of electrodes or electrode systems of photo-emissive cathodes; of secondary-emission electrodes of secondary emission electrodes
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/10—Non-chemical treatment
- C03B37/14—Re-forming fibres or filaments, i.e. changing their shape
- C03B37/15—Re-forming fibres or filaments, i.e. changing their shape with heat application, e.g. for making optical fibres
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- H—ELECTRICITY
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J43/00—Secondary-emission tubes; Electron-multiplier tubes
- H01J43/04—Electron multipliers
- H01J43/06—Electrode arrangements
- H01J43/18—Electrode arrangements using essentially more than one dynode
- H01J43/24—Dynodes having potential gradient along their surfaces
- H01J43/246—Microchannel plates [MCP]
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- H01J2201/00—Electrodes common to discharge tubes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、イメージインテンシファイヤ、紫外線、イオ
ン、荷電粒子等の検出に利用されるマイクロチャンネル
プレートの製造方法に関する。
ン、荷電粒子等の検出に利用されるマイクロチャンネル
プレートの製造方法に関する。
（従来の技術）
本件出願人は特公昭５７−２５９３４号としてチャンネ
ルプレートの製造法を出願している。
ルプレートの製造法を出願している。
前記出願の要旨を簡単に説明する。
前記方法は、耐酸性のガラスで酸可溶性のガラス芯材を
被覆したガラス素線を平行に束ねて加熱することにより
、各素線を相互に溶着させる。
被覆したガラス素線を平行に束ねて加熱することにより
、各素線を相互に溶着させる。
さらに前記素線と交叉する方向に切断することにより板
状体を形成する。
状体を形成する。
次に前記酸可溶性のガラス芯材を酸で溶解する。
前記耐酸性のガラスは、ｆｆ１ｌ比において酸化シリコ
ン（ＳｉＯ２）３５乃至５０％、酸化ナトリウム（ＮＬ
２Ｏ）と酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）と酸化リチウム（Ｌｉ
２Ｏ）のうち１種類以上を２乃至１０％、酸化鉛（Ｐｂ
Ｏ）を３０乃至５５％、および酸化チタン（ＴｉＯ２）
と酸化ジルコニウム（ＺｒＯ□）のうち１種以上を０．
５乃至７．０％含有するものである。
ン（ＳｉＯ２）３５乃至５０％、酸化ナトリウム（ＮＬ
２Ｏ）と酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）と酸化リチウム（Ｌｉ
２Ｏ）のうち１種類以上を２乃至１０％、酸化鉛（Ｐｂ
Ｏ）を３０乃至５５％、および酸化チタン（ＴｉＯ２）
と酸化ジルコニウム（ＺｒＯ□）のうち１種以上を０．
５乃至７．０％含有するものである。
前記製造方法で形成されたマイクロチャンネルプレート
の両面に電極を付けてチャンネル内部を活性化した状態
をヌードの状態と言う。
の両面に電極を付けてチャンネル内部を活性化した状態
をヌードの状態と言う。
このヌードの状態のマイクロチャンネルプレートを真空
中で加熱してガスを追い出す処理をする工程をベーキン
グ工程と言っている。
中で加熱してガスを追い出す処理をする工程をベーキン
グ工程と言っている。
前述した製造方法で製造されたマイクロチャンネルプレ
ートは、真空へ一キング後の利得が初期値より著しく劣
化し、ベーキング後の特性が余り良くないという問題が
ある。
ートは、真空へ一キング後の利得が初期値より著しく劣
化し、ベーキング後の特性が余り良くないという問題が
ある。
また寿命も総出力電荷金がＩ Ｘ １０− ’ Ｃ／ｃ
ｍ２でベーキング後の利得の約５０％に達してしまう。
ｍ２でベーキング後の利得の約５０％に達してしまう。
第３図は前記従来方法で製造されたマイクロチャンネル
プレートの製造工程における利得の変化を示したグラフ
である。
プレートの製造工程における利得の変化を示したグラフ
である。
ヌードの状態における利得は前記ベーキングにより当初
の２Ｏ〜３０％になっている。
の２Ｏ〜３０％になっている。
スクラビングとは前記ベーキング後のマイクロチャンネ
ルプレートを実際に動作させて、チャンネルの内部に電
子を衝突させる状態を言う。このスクラビングによって
も僅かに利得の低下が見られる。なお第３図の横軸は、
マイクロチャンネルプレートの電極間に印加された電圧
を示している。
ルプレートを実際に動作させて、チャンネルの内部に電
子を衝突させる状態を言う。このスクラビングによって
も僅かに利得の低下が見られる。なお第３図の横軸は、
マイクロチャンネルプレートの電極間に印加された電圧
を示している。
（発明の目的）
本発明の目的は、マイクロチャンふルプレートの真室ベ
ーキング後の利得低下を少なくし、さらに寿命を向上さ
せることができるマイクロチャンネルプレートの製造方
法を提供することにある。
ーキング後の利得低下を少なくし、さらに寿命を向上さ
せることができるマイクロチャンネルプレートの製造方
法を提供することにある。
（８明の構成）
前記目的を達成するために本発明によるマイクロチャン
ネルプレートの第１の製造方法は、耐酸性のガラスで酸
可溶性のガラス芯材を被覆したガラス素線を平行に束ね
て加熱することにより、各素線を相互に溶着させ、さら
に前記素線と交叉する方向に切断することにより板状体
を形成し、−前記酸可溶性のガラス芯材を酸で溶解し、
両面に電極を形成し、前記酸可溶性のガラス芯材を酸で
溶解することにより形成されたチャンネルの内面を活性
化することによりマイクロチャンネルプレートを製造す
る方法において、前記耐酸性のガラスの成分を下記の重
量比にしである。
ネルプレートの第１の製造方法は、耐酸性のガラスで酸
可溶性のガラス芯材を被覆したガラス素線を平行に束ね
て加熱することにより、各素線を相互に溶着させ、さら
に前記素線と交叉する方向に切断することにより板状体
を形成し、−前記酸可溶性のガラス芯材を酸で溶解し、
両面に電極を形成し、前記酸可溶性のガラス芯材を酸で
溶解することにより形成されたチャンネルの内面を活性
化することによりマイクロチャンネルプレートを製造す
る方法において、前記耐酸性のガラスの成分を下記の重
量比にしである。
記
酸化シリコン（ＳｉＯ２） ３５乃至５０％酸化ナト
リウム（Ｎａ２Ｏ） ｌ乃至 ３％酸化カリウム
（Ｋ２Ｏ） ｌ乃至 ５％酸化リチウム（Ｌｉ
２Ｏ） Ｏ乃至 ２％酸化マグネシウムＣＭｇｏ
） ■乃至 ５％酸化鉛（ＰｂＯ）
３０乃至５５％酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）０．５乃
至 ７％以 上 本発明によるマイクロチャンネルプレートの第２の製造
方法は、前記耐酸性のガラスの成分に酸化カルンウム（
ＣａＯ）を追加して下記のｉｆ比にしたものである。
リウム（Ｎａ２Ｏ） ｌ乃至 ３％酸化カリウム
（Ｋ２Ｏ） ｌ乃至 ５％酸化リチウム（Ｌｉ
２Ｏ） Ｏ乃至 ２％酸化マグネシウムＣＭｇｏ
） ■乃至 ５％酸化鉛（ＰｂＯ）
３０乃至５５％酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）０．５乃
至 ７％以 上 本発明によるマイクロチャンネルプレートの第２の製造
方法は、前記耐酸性のガラスの成分に酸化カルンウム（
ＣａＯ）を追加して下記のｉｆ比にしたものである。
記
酸化ン’Ｊコン（ＳｉＯ２） ３５乃至５０％酸化
ナトリウム（Ｎａ２Ｏ） １乃至 ３％酸化カリ
ウム（Ｋ２Ｏ） １乃至 ５％酸化リチウム
（Ｌｉ２Ｏ） ０乃至 ２％酸化マグネシウム（
ＭｇＯ） １乃至 ５％酸化カルシウム（Ｃａｂ
） １乃至 ５％酸化鉛（ＰｂＯ）
３０乃至５５％酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）０
．５乃至 ７％以 上 酸化カルシウム（Ｃａｂ）を追加したものは、（ＭｇＯ
）だけのものよりも、より良い特性が得られる。
ナトリウム（Ｎａ２Ｏ） １乃至 ３％酸化カリ
ウム（Ｋ２Ｏ） １乃至 ５％酸化リチウム
（Ｌｉ２Ｏ） ０乃至 ２％酸化マグネシウム（
ＭｇＯ） １乃至 ５％酸化カルシウム（Ｃａｂ
） １乃至 ５％酸化鉛（ＰｂＯ）
３０乃至５５％酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）０
．５乃至 ７％以 上 酸化カルシウム（Ｃａｂ）を追加したものは、（ＭｇＯ
）だけのものよりも、より良い特性が得られる。
（実施例）
以下、図面等を参照して本発明をさらに詳しく説明する
。
。
第１図は本発明による第１の方法で製造したもの（曲線
Ｈ）と第２の方法で製造したもの（曲線Ｇ）と従来の方
法により製造したもの（・曲線Ｊ）の総出力電荷に対す
る利得特性を比較して示したグラフである。
Ｈ）と第２の方法で製造したもの（曲線Ｇ）と従来の方
法により製造したもの（・曲線Ｊ）の総出力電荷に対す
る利得特性を比較して示したグラフである。
総出力電荷とは出力電流の時間項分値である。
このグラフは第１の方法によるものよりも第２の方法に
よるものの方が利得が大きく、いずれも従来方法による
ものよりも利得が大゛きく長い時間安定して動作するこ
とを示している。
よるものの方が利得が大きく、いずれも従来方法による
ものよりも利得が大゛きく長い時間安定して動作するこ
とを示している。
本願発明者等は耐酸性ガラス中に含まれる酸化マグネシ
ウム（ＭｇＯ）が出力特性に与える影響を検討するため
に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が含まれていないもの（
ガラス（）と１％含まれているもの（ガラス■）と２％
含まれているもの（ガラ゛スＩＩＩ）について、マイク
ロチャンネルプレートの電極間電圧を１００ＯＶに保っ
て利得特性を測定した。第２図において酸化マグネシウ
ム（Ｍｇｏ）が含まれていないものは従来方法により製
造されたものに相当する。
ウム（ＭｇＯ）が出力特性に与える影響を検討するため
に酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が含まれていないもの（
ガラス（）と１％含まれているもの（ガラス■）と２％
含まれているもの（ガラ゛スＩＩＩ）について、マイク
ロチャンネルプレートの電極間電圧を１００ＯＶに保っ
て利得特性を測定した。第２図において酸化マグネシウ
ム（Ｍｇｏ）が含まれていないものは従来方法により製
造されたものに相当する。
なおベーキングとスクラビングは下記の条件で行った。
ベーキングは、真空度が１×１０−ら トール（Ｌｏｒ
ｒ）以上で、３５０℃で、５０時間加熱することにより
行う。
ｒ）以上で、３５０℃で、５０時間加熱することにより
行う。
スクラビングは、入力電流を２ＯｎＡとし、出力電流を
５００ｎＡ取り出すようにマイクロチャンネルプレート
の電圧を調整し、１時間行う。
５００ｎＡ取り出すようにマイクロチャンネルプレート
の電圧を調整し、１時間行う。
従来方法により製造されたものに相当するものも 。
酸化マグネシウム（ＭｇＯ）が含まれているものも、ヌ
ードの状態における利得に大差はないが、１１化マグネ
シウム（ＭｇＯ）の量が少ない程ベーキングによる利得
の低下が著しい。
ードの状態における利得に大差はないが、１１化マグネ
シウム（ＭｇＯ）の量が少ない程ベーキングによる利得
の低下が著しい。
このときの各耐酸性ガラス中に含まれる成分の重量比は
次のとおりである。
次のとおりである。
ガラス■
酸化シリコン（ＳｉＯ２） ４４％酸化
ナトリウム（Ｎａ２Ｏ）３．０％ 酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）３．０％ 酸化リチウム（Ｌｉ２Ｏ） １．５％酸
化マグネシウム（ＭｇＯ） ０．０％酸化
鉛（ＰｂＯ） ４４．５％酸化ジ
ルコニウム（ＺｒＯ２） ４％ガラス［ 酸化シリコン（ＳｉＯ２） ４４％酸化ナ
トリウム（Ｎａ２Ｏ） ３．０％酸化カリ
ウム（Ｋ２Ｏ） ３．０％酸化リチウ
ム（Ｌｉ２Ｏ） ’ １．５％酸化マグネ
シウム（ＭｇＯ） １．０％酸化鉛（Ｐｂ
Ｏ） ４３．５％酸化ジルコニウ
ム（ＺｒＯ２） ４％ガラス■（第１の方
法の実施例） 酸化シリコン（ＳｉＯ２） ４４％酸化
ナトリウム（Ｎａ２Ｏ） ３．０％酸化カ
リウム（Ｋ２Ｏ） ３．０９；酸化リ
チウム（Ｌｉ２Ｏ） １．５％酸化マグ
ネシウム＜Ｍｇｏ） ２．０％酸化鉛（Ｐ
ｂＯ） ４２．５シロ酸化ジルコ
ニウム（ＺｒＯ２） ４９４前記ガラスｍ
を使用して製造したマイクロチャンネルプレートの動作
特性を第３図に示す。
ナトリウム（Ｎａ２Ｏ）３．０％ 酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）３．０％ 酸化リチウム（Ｌｉ２Ｏ） １．５％酸
化マグネシウム（ＭｇＯ） ０．０％酸化
鉛（ＰｂＯ） ４４．５％酸化ジ
ルコニウム（ＺｒＯ２） ４％ガラス［ 酸化シリコン（ＳｉＯ２） ４４％酸化ナ
トリウム（Ｎａ２Ｏ） ３．０％酸化カリ
ウム（Ｋ２Ｏ） ３．０％酸化リチウ
ム（Ｌｉ２Ｏ） ’ １．５％酸化マグネ
シウム（ＭｇＯ） １．０％酸化鉛（Ｐｂ
Ｏ） ４３．５％酸化ジルコニウ
ム（ＺｒＯ２） ４％ガラス■（第１の方
法の実施例） 酸化シリコン（ＳｉＯ２） ４４％酸化
ナトリウム（Ｎａ２Ｏ） ３．０％酸化カ
リウム（Ｋ２Ｏ） ３．０９；酸化リ
チウム（Ｌｉ２Ｏ） １．５％酸化マグ
ネシウム＜Ｍｇｏ） ２．０％酸化鉛（Ｐ
ｂＯ） ４２．５シロ酸化ジルコ
ニウム（ＺｒＯ２） ４９４前記ガラスｍ
を使用して製造したマイクロチャンネルプレートの動作
特性を第３図に示す。
またこのマイクロチャンネルプレートの寿命特性を第１
図に曲線Ｈとして示しである。
図に曲線Ｈとして示しである。
本発明による第２の製造方法は前記耐酸性ガラスに酸化
カルシウム（Ｃａ Ｏ）を追加したものである。
カルシウム（Ｃａ Ｏ）を追加したものである。
ガラス■（第２の方法の実施例）
酸化ンリコン（ＳｉＯ２） ４４％酸化
ナトリウム（Ｎ ａ ２Ｏ）３．０％酸化カリウム（Ｋ
２Ｏ）３．０％ 酸化リチウム（Ｌｉ２Ｏ） １．５％酸
化カルシウム（Ｃａｂ） ２．０％酸化
マグネシウム（ＭｇＯ）２．０％ 酸化鉛（Ｐｂ０） ４０．５％酸
化ジルコニウム（ＺｒＯ２） ４％このマイク
ロチャンネルプレートの寿命特性を第１図に曲線Ｇとし
て示しである。
ナトリウム（Ｎ ａ ２Ｏ）３．０％酸化カリウム（Ｋ
２Ｏ）３．０％ 酸化リチウム（Ｌｉ２Ｏ） １．５％酸
化カルシウム（Ｃａｂ） ２．０％酸化
マグネシウム（ＭｇＯ）２．０％ 酸化鉛（Ｐｂ０） ４０．５％酸
化ジルコニウム（ＺｒＯ２） ４％このマイク
ロチャンネルプレートの寿命特性を第１図に曲線Ｇとし
て示しである。
以上述べたようにアルカリ土類金属の酸化マグネシウム
（ＭｇＯ）、Ｍ化カルシウム（ＣａＯ）を利用したもの
は従来方法によるものよりも利得が大きく、かつ長い時
間安定して動作する。
（ＭｇＯ）、Ｍ化カルシウム（ＣａＯ）を利用したもの
は従来方法によるものよりも利得が大きく、かつ長い時
間安定して動作する。
この理由は次のように理解できる。
すなわち、これらの金兄酸化物は比較的大きい２次電子
放出比（δ）を提供できるものである。
放出比（δ）を提供できるものである。
イオン半径が大きく結合工翠ルギーも大きいから安定し
た存在となり得る。電子のｉｈ突による分解が少ない。
た存在となり得る。電子のｉｈ突による分解が少ない。
（発明の効果）
以上述べたように本発明方法ではアルカリ土類金属の酸
化マグネシウム（ＭｇＯ）、または酸化マグネシウム（
ＭｇＯ）と酸化カルシウム（ＣａＯ）成分をガラスに導
入することにより、従来の製造方法によるマイクロチャ
ンネルプレートよりも大きな利得と安定した動作特性を
示すマイクロチャンネルプレートを提供することができ
る。
化マグネシウム（ＭｇＯ）、または酸化マグネシウム（
ＭｇＯ）と酸化カルシウム（ＣａＯ）成分をガラスに導
入することにより、従来の製造方法によるマイクロチャ
ンネルプレートよりも大きな利得と安定した動作特性を
示すマイクロチャンネルプレートを提供することができ
る。
第１図は本発明方法により製造したマイクロチャンネル
プレートと従来方法によるものとの総出力電荷に対する
利得特性を比較して示したグラフである。 第２図は酸化マグネンウムの含有率に対する利得の変化
を示すグラフである。 第３図は第１の方法により製造されたマイクロチャンネ
ルプレートの動作特性を示すグラフである６第４図は従
来の方法で製造されたマイクロチャンスルプレートの動
作特性を示すグラフである。 特許出願人 浜松ホトニクス株式会社 代理人 弁理士 井 ノ ロ 壽 ・さ Ｚ 図 θ ／ ２勺０り茗
４４＝（幻 ＭＣＰ電ＦＬＣＶ）
プレートと従来方法によるものとの総出力電荷に対する
利得特性を比較して示したグラフである。 第２図は酸化マグネンウムの含有率に対する利得の変化
を示すグラフである。 第３図は第１の方法により製造されたマイクロチャンネ
ルプレートの動作特性を示すグラフである６第４図は従
来の方法で製造されたマイクロチャンスルプレートの動
作特性を示すグラフである。 特許出願人 浜松ホトニクス株式会社 代理人 弁理士 井 ノ ロ 壽 ・さ Ｚ 図 θ ／ ２勺０り茗
４４＝（幻 ＭＣＰ電ＦＬＣＶ）
Claims (2)
- （１）耐酸性のガラスで酸可溶性のガラス芯材を被覆し
たガラス素線を平行に束ねて加熱することにより、各素
線を相互に溶着させ、さらに前記素線と交叉する方向に
切断することにより板状体を形成し、前記酸可溶性のガ
ラス芯材を酸で溶解し、両面に電極を形成し、前記酸可
溶性のガラス芯材を酸で溶解することにより形成された
チャンネルの内面を活性化することによりマイクロチャ
ンネルプレートを製造する方法において、前記耐酸性の
ガラスは下記の重量比のガラスであるマイクロチャンネ
ルプレートの製造方法。 記 酸化シリコン（ＳｉＯ＿２）３５乃至５０％ 酸化ナトリウム（Ｎａ＿２Ｏ）１乃至３％ 酸化カリウム（Ｋ＿２Ｏ）１乃至５％ 酸化リチウム（Ｌｉ＿２Ｏ）０乃至２％ 酸化マグネシウム（ＭｇＯ）１乃至５％ 酸化鉛（ＰｂＯ）３０乃至５５％ 酸化ジルコニウム（ＺｒＯ＿２）０．５乃至７％以上 - （２）耐酸性のガラスで酸可溶性のガラス芯材を被覆し
たガラス素線を平行に束ねて加熱することにより、各素
線を相互に溶着させ、さらに前記素線と交叉する方向に
切断することにより板状体を形成し、前記酸可溶性のガ
ラス芯材を酸で溶解し、両面に電極を形成し、前記酸可
溶性のガラス芯材を酸で溶解することにより形成された
チャンネルの内面を活性化することによりマイクロチャ
ンネルプレートを製造する方法において、前記耐酸性の
ガラスは下記の重量比のガラスであるマイクロチャンネ
ルプレートの製造方法。 記 酸化シリコン（ＳｉＯ＿２）３５乃至５０％ 酸化ナトリウム（Ｎａ＿２Ｏ）１乃至３％ 酸化カリウム（Ｋ＿２Ｏ）１乃至５％ 酸化リチウム（Ｌｉ＿２Ｏ）０乃至２％ 酸化マグネシウム（ＭｇＯ）１乃至５％ 酸化カルシウム（ＣａＯ）１乃至５％ 酸化鉛（ＰｂＯ）３０乃至５５％ 酸化ジルコニウム（ＺｒＯ＿２）０．５乃至７％以上
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59261436A JPS61140044A (ja) | 1984-12-11 | 1984-12-11 | マイクロチヤンネルプレ−トの製造方法 |
| US06/798,933 US4629486A (en) | 1984-12-11 | 1985-11-18 | Process of how to fabricate the microchannel plate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59261436A JPS61140044A (ja) | 1984-12-11 | 1984-12-11 | マイクロチヤンネルプレ−トの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61140044A true JPS61140044A (ja) | 1986-06-27 |
Family
ID=17361859
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59261436A Pending JPS61140044A (ja) | 1984-12-11 | 1984-12-11 | マイクロチヤンネルプレ−トの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4629486A (ja) |
| JP (1) | JPS61140044A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2022183396A1 (zh) * | 2021-03-03 | 2022-09-09 | 中国建筑材料科学研究总院有限公司 | 耐离子轰击玻璃组合物、微通道板皮料玻璃、微通道板及制备方法 |
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| US6049168A (en) * | 1999-06-04 | 2000-04-11 | Litton Systems, Inc. | Method and system for manufacturing microchannel plates |
| CN1758405B (zh) * | 2005-09-20 | 2010-09-29 | 北方夜视技术股份有限公司 | 带有实体边的微通道板制作方法 |
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| US9117640B2 (en) | 2012-05-18 | 2015-08-25 | Hamamatsu Photonics K.K. | Microchannel plate having a main body, image intensifier, ion detector, and inspection device |
| EP4222125A1 (en) | 2020-09-30 | 2023-08-09 | Corning Incorporated | Lead free glass composition for microchannel plate fabrication |
| CN114180830B (zh) * | 2021-11-23 | 2024-01-16 | 中国建筑材料科学研究总院有限公司 | 包边玻璃及其制备方法、用其制备微通道板的方法及微通道板 |
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| US4532171A (en) * | 1982-05-03 | 1985-07-30 | Varian Associates, Inc. | Multifiber design for microchannel plates |
-
1984
- 1984-12-11 JP JP59261436A patent/JPS61140044A/ja active Pending
-
1985
- 1985-11-18 US US06/798,933 patent/US4629486A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100387984B1 (ko) * | 2001-02-16 | 2003-06-18 | 한국과학기술원 | 미소 채널 플레이트의 제조방법 |
| WO2022183396A1 (zh) * | 2021-03-03 | 2022-09-09 | 中国建筑材料科学研究总院有限公司 | 耐离子轰击玻璃组合物、微通道板皮料玻璃、微通道板及制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4629486A (en) | 1986-12-16 |
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