JPH02289444A - 薄型ディスプレイ用ガラス容器 - Google Patents
薄型ディスプレイ用ガラス容器Info
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- JPH02289444A JPH02289444A JP10812989A JP10812989A JPH02289444A JP H02289444 A JPH02289444 A JP H02289444A JP 10812989 A JP10812989 A JP 10812989A JP 10812989 A JP10812989 A JP 10812989A JP H02289444 A JPH02289444 A JP H02289444A
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 120
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 19
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 16
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 abstract description 13
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 4
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 abstract description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 3
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 7
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 7
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 5
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 4
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006121 base glass Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 2
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000007372 rollout process Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/078—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing an oxide of a divalent metal, e.g. an oxide of zinc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
- C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
- C03C21/002—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions to perform ion-exchange between alkali ions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、陰極線管のごとき電子線を照射して、画像を
形成するデイスプレィに用いるガラス容器、とりわけ薄
型のデイスプレィに適したガラス容器に関する。
形成するデイスプレィに用いるガラス容器、とりわけ薄
型のデイスプレィに適したガラス容器に関する。
陰極線管型デイスプレィ用のガラス容器としては、ｘｖ
Ａ遮へい性が良いこと、電子線による着色がないことが
必要で、さらに実用に耐え得る機械的強度を有し、軽量
であることが好ましい。また素板ガラスの製造にあたっ
ては、溶解性がよいことが好ましい。陰極線管表示用の
ガラス容器としては、すでに特公昭５９−２７７２９で
開示されているように、ＢａＯおよびＳｒＯを多量に含
み、全アルカリ酸化物中のＮａ２Ｏ量を一定範囲に含む
ガラスが知られている。また、ソーダライムシリカ組成
の素板ガラスを用いた薄型の陰極線管用のガラス容器が
特開昭６３−１９０７４４に開示されている。
Ａ遮へい性が良いこと、電子線による着色がないことが
必要で、さらに実用に耐え得る機械的強度を有し、軽量
であることが好ましい。また素板ガラスの製造にあたっ
ては、溶解性がよいことが好ましい。陰極線管表示用の
ガラス容器としては、すでに特公昭５９−２７７２９で
開示されているように、ＢａＯおよびＳｒＯを多量に含
み、全アルカリ酸化物中のＮａ２Ｏ量を一定範囲に含む
ガラスが知られている。また、ソーダライムシリカ組成
の素板ガラスを用いた薄型の陰極線管用のガラス容器が
特開昭６３−１９０７４４に開示されている。
しかしながら、特公昭５９−２７７２９で開示されてい
るガラスは、ＢａＯやＳｒＯをガラス中に多量に含むた
めに、ガラスの比重が大きくガラス容器としたときに重
くなるという欠点がある。また軽量化を行なうためにガ
ラス容器の肉厚を薄くすると、機械的強度が低下すると
いう問題が生じ、これを防止するために、ガラスの表面
層に圧縮歪をイオン交換により化学強化処理を行っても
、十分な機械的強度が得られないという問題があった。
るガラスは、ＢａＯやＳｒＯをガラス中に多量に含むた
めに、ガラスの比重が大きくガラス容器としたときに重
くなるという欠点がある。また軽量化を行なうためにガ
ラス容器の肉厚を薄くすると、機械的強度が低下すると
いう問題が生じ、これを防止するために、ガラスの表面
層に圧縮歪をイオン交換により化学強化処理を行っても
、十分な機械的強度が得られないという問題があった。
一方、ソーダライムシリカ組成のガラスを用い、このガ
ラス中のＮａイオンの一部をにイオンにイオン交換して
化学強化したガラス容器では容器の機械的な強度は十分
確保されるが、ガラス容器１の画像部に帯電した電荷が
、ガラス容器１とリアパネル２とを接合するガラスフリ
ット４の不均質な低抵抗部分にガラス容器の内面に沿っ
て瞬間的に異常放電を起し易く、ガラスフリットやガラ
ス容器に微小なりラックを発生させるという問題があり
、これを実質上無くすことは困難であった。
ラス中のＮａイオンの一部をにイオンにイオン交換して
化学強化したガラス容器では容器の機械的な強度は十分
確保されるが、ガラス容器１の画像部に帯電した電荷が
、ガラス容器１とリアパネル２とを接合するガラスフリ
ット４の不均質な低抵抗部分にガラス容器の内面に沿っ
て瞬間的に異常放電を起し易く、ガラスフリットやガラ
ス容器に微小なりラックを発生させるという問題があり
、これを実質上無くすことは困難であった。
本発明は、上記した問題を解決する、すなわちガラス容
器として十分に機械的強度を有し、帯電した電荷の異常
放電により生ずるガラス容器およびガラスフリットの損
傷を低減し、かつ、電子線による着色劣化が実用上ない
陰極線管デイスプレィ用のガラス容器を提供するもので
ある。
器として十分に機械的強度を有し、帯電した電荷の異常
放電により生ずるガラス容器およびガラスフリットの損
傷を低減し、かつ、電子線による着色劣化が実用上ない
陰極線管デイスプレィ用のガラス容器を提供するもので
ある。
本発明にかかるガラス容器は、組成とその分量が、重量
％で表わして、ＳｉＯ２５５〜７３％、 Ｎａ２０９〜
１５％、 Ｋ２Ｏ ２．５〜５％、ＡＩ！２０３０〜３
％。
％で表わして、ＳｉＯ２５５〜７３％、 Ｎａ２０９〜
１５％、 Ｋ２Ｏ ２．５〜５％、ＡＩ！２０３０〜３
％。
）１ｇ００〜４％、Ｃａ００〜９％、Ｂａ００〜９％
ＺｎＯ０〜３％、５ｒＯ０〜７％、 ＺｒＯ２０〜７％
、 Ｌｉ２Ｏ０〜２％、 ＢａＯ＋ＺｎＯ＋Ｓｒ００〜
１１％、 ＣａＯ＋Ｍ８００．５〜１２％であり、かつ
、Ｘ ２０／ （Ｎａ ＺＯ＋ Ｋ ２Ｏ）で表わされ
る重量分率が０．２〜０．３３の範囲であり、前記ガラ
ス容器の少なくとも画像表示部が、前記組成のガラスを
にイオンを含む溶融塩中に浸し、ガラス中のＮａイオン
と溶融塩中のにイオンとをイオン交換することにより、
前記ガラスの表面層の組成がＮａ／ （Ｎａ＋Ｋ）で表
わされる原子分率で、０．４〜０．６５としたガラス容
器である。
ＺｎＯ０〜３％、５ｒＯ０〜７％、 ＺｒＯ２０〜７％
、 Ｌｉ２Ｏ０〜２％、 ＢａＯ＋ＺｎＯ＋Ｓｒ００〜
１１％、 ＣａＯ＋Ｍ８００．５〜１２％であり、かつ
、Ｘ ２０／ （Ｎａ ＺＯ＋ Ｋ ２Ｏ）で表わされ
る重量分率が０．２〜０．３３の範囲であり、前記ガラ
ス容器の少なくとも画像表示部が、前記組成のガラスを
にイオンを含む溶融塩中に浸し、ガラス中のＮａイオン
と溶融塩中のにイオンとをイオン交換することにより、
前記ガラスの表面層の組成がＮａ／ （Ｎａ＋Ｋ）で表
わされる原子分率で、０．４〜０．６５としたガラス容
器である。
本発明のガラス容器のＳｉｎ、含量は、５５〜７３重量
％である。５５重量％より少ないとガラスを溶融成型時
に失透し易くなり、また７３重量％より多いと軟化点が
高くなり溶融成型が困難になる。
％である。５５重量％より少ないとガラスを溶融成型時
に失透し易くなり、また７３重量％より多いと軟化点が
高くなり溶融成型が困難になる。
Ｎａ、Ｏが９重量％より少ないと成型時のガラスの粘性
が高くなり、１５重量％を越えるとガラスの化学的耐久
性が低下する。またに２０が２．５重量％より少ないと
成型時のガラス粘性が高くなり、５重量％を越えるとガ
ラスの化学的性質が低下する。
が高くなり、１５重量％を越えるとガラスの化学的耐久
性が低下する。またに２０が２．５重量％より少ないと
成型時のガラス粘性が高くなり、５重量％を越えるとガ
ラスの化学的性質が低下する。
ガラス容器のフロントパネルの画像部とフランジ部のガ
ラスフリットとの間に印加される高電圧に対して、ガラ
ス容器が絶縁破壊を生じないようにするには、ガラスの
体積抵抗率が予想に反して大きいことが好ましい。Ｋ２
０／ （Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）で表わされる重量分率が０
．２より小さいとガラスの体積抵抗率が小さ（なり、数
ｋＶ以上の高電圧に対する電気絶縁性が不十分となる。
ラスフリットとの間に印加される高電圧に対して、ガラ
ス容器が絶縁破壊を生じないようにするには、ガラスの
体積抵抗率が予想に反して大きいことが好ましい。Ｋ２
０／ （Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）で表わされる重量分率が０
．２より小さいとガラスの体積抵抗率が小さ（なり、数
ｋＶ以上の高電圧に対する電気絶縁性が不十分となる。
また、Ｋ２０／ （Ｎａ２Ｏ＋ＫｔＯ）で表わされる重
量分率が０．３３より大きいと、ガラス中のＮａイオン
とにイオンとのイオン交換処理によって、ガラス表面層
に大きい圧縮歪層を設けることが困難になり、大きい機
械強度を有するガラス容器とすることができなくなる。
量分率が０．３３より大きいと、ガラス中のＮａイオン
とにイオンとのイオン交換処理によって、ガラス表面層
に大きい圧縮歪層を設けることが困難になり、大きい機
械強度を有するガラス容器とすることができなくなる。
Ｋ２０／ （Ｎａ２Ｏ＋に２０）で表わされる重量分率
が０．２〜０．３３の組成範囲に調整されたガラスは、
Ｋイオンを含む溶融塩中でガラス中のＮａイオンと溶融
塩中のにイオンとを通常のイオン交換の方法で処理する
ことにより、ガラスの表面層の組成をＮａ／ （Ｎａ＋
Ｋ）で表わされる原子分率で０．４〜０．６５の、電子
線に対して着色しに＜＜、かつ、機械的強度が大きいガ
ラスとすることができる。さらに耐電子線着色性を有し
、かつ、イオン交換により高強度のガラスが得られるガ
ラス中のＮａ、０． Ｋ、０の含有量としては、Ｎａ、
０１０〜１３重量％、 Ｋ２Ｏ３〜５重量％で、かつ、
に２０／ （Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）で表わされる重量分率
が、０．２〜０゜３３である範囲がとくに好ましい。さ
らににイオンおよびＮａイオンのガラス中での移動度を
減じて体積抵抗率をさらに高めるために、少量のＬｉ２
Ｏをガラス中に添加することができる。添加量としては
、２重量％を越えない量が好ましい。
が０．２〜０．３３の組成範囲に調整されたガラスは、
Ｋイオンを含む溶融塩中でガラス中のＮａイオンと溶融
塩中のにイオンとを通常のイオン交換の方法で処理する
ことにより、ガラスの表面層の組成をＮａ／ （Ｎａ＋
Ｋ）で表わされる原子分率で０．４〜０．６５の、電子
線に対して着色しに＜＜、かつ、機械的強度が大きいガ
ラスとすることができる。さらに耐電子線着色性を有し
、かつ、イオン交換により高強度のガラスが得られるガ
ラス中のＮａ、０． Ｋ、０の含有量としては、Ｎａ、
０１０〜１３重量％、 Ｋ２Ｏ３〜５重量％で、かつ、
に２０／ （Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）で表わされる重量分率
が、０．２〜０゜３３である範囲がとくに好ましい。さ
らににイオンおよびＮａイオンのガラス中での移動度を
減じて体積抵抗率をさらに高めるために、少量のＬｉ２
Ｏをガラス中に添加することができる。添加量としては
、２重量％を越えない量が好ましい。
ＭｇＯおよびＣａＯは、ガラスの粘度を調整するために
用いられ、溶融成型時に所望の温度−粘度特性になるよ
うにその含有量が定められる。本発明のガラス容器に用
いられる厚みが３〜１５ｆｌの板状のガラスを溶融成型
するには、ＣａＯが９重量％を越えないことが必要であ
り、ＭｇＯが４重量％を越えないことが必要である。Ｃ
ａＯが９重量％を越えると成型時のガラスの粘度の制御
が難しくなる。
用いられ、溶融成型時に所望の温度−粘度特性になるよ
うにその含有量が定められる。本発明のガラス容器に用
いられる厚みが３〜１５ｆｌの板状のガラスを溶融成型
するには、ＣａＯが９重量％を越えないことが必要であ
り、ＭｇＯが４重量％を越えないことが必要である。Ｃ
ａＯが９重量％を越えると成型時のガラスの粘度の制御
が難しくなる。
また、？ＩｇＯが４重景％を越えるとＣａＯと同様粘度
の制御が困難になるので好ましくない、また、ＣａＯと
ＭｇＯの合計量は、ガラスの粘度をシｓ−トにしないた
め１２重量％を越えないことが必要で、ガラスに化学的
耐久性を付与するために０．５重量％以上を必要とする
。
の制御が困難になるので好ましくない、また、ＣａＯと
ＭｇＯの合計量は、ガラスの粘度をシｓ−トにしないた
め１２重量％を越えないことが必要で、ガラスに化学的
耐久性を付与するために０．５重量％以上を必要とする
。
ＢａＯとＺｎＯとＳｒＯの合計量は１１重量％を越えな
い範囲で定められる。Ｂａｄ、 ＺｎＯ，ＳｒＯの各成
分は、ガラスにＸ線遮へい性能を付与し、所望の遮へい
能により、合計量が１１重量％を越えない範囲で定めら
れる。Ｂａｄ、 ＺｎＯ，ＳｒＯはいずれも含有量が多
いと溶融時にガラスを失透させるので、ＢａＯは９重量
％、ＺｎＯは３重量％、ＳｒＯは７重量％を越えない範
囲で定められる。
い範囲で定められる。Ｂａｄ、 ＺｎＯ，ＳｒＯの各成
分は、ガラスにＸ線遮へい性能を付与し、所望の遮へい
能により、合計量が１１重量％を越えない範囲で定めら
れる。Ｂａｄ、 ＺｎＯ，ＳｒＯはいずれも含有量が多
いと溶融時にガラスを失透させるので、ＢａＯは９重量
％、ＺｎＯは３重量％、ＳｒＯは７重量％を越えない範
囲で定められる。
ＺｒＯ２はガラスのＸ線吸収性能を高めるとともに、耐
候性を高めるためにガラス中に７％を越えない範囲で含
有させることができる。Ｚｒ（ｈの含有量が７％を越え
ると、ガラスが失透し易くなり成型が困難となる。
候性を高めるためにガラス中に７％を越えない範囲で含
有させることができる。Ｚｒ（ｈの含有量が７％を越え
ると、ガラスが失透し易くなり成型が困難となる。
６１２０３は、ガラスの酸やアルカリなどの耐薬品性や
耐水性を向上させるために、ガラス中に３％を越えない
範囲で含有させることができる。３％を越えると、ガラ
スの溶融時の粘度が高くなり、溶、融し難くなる。
耐水性を向上させるために、ガラス中に３％を越えない
範囲で含有させることができる。３％を越えると、ガラ
スの溶融時の粘度が高くなり、溶、融し難くなる。
本発明にかかるガラス容器には、上記した成分のほかに
、紫外線による着色を防止するために、好ましくは１重
量％程度のＴｉＯ２を添加することができる。またガラ
スを溶融するときの消泡剤としてＡｓ２Ｏ，、、Ｓｂ、
Ｏ，を、紫外線着色防止剤としてＣｅＯ□を添加するこ
とができる。
、紫外線による着色を防止するために、好ましくは１重
量％程度のＴｉＯ２を添加することができる。またガラ
スを溶融するときの消泡剤としてＡｓ２Ｏ，、、Ｓｂ、
Ｏ，を、紫外線着色防止剤としてＣｅＯ□を添加するこ
とができる。
上記した組成のガラスは、画像が表示されるときに、数
ｋＶで加速された電子がガラス中に侵入する層を少なく
とも含む表面層の組成を、Ｎａ／ （Ｎａ＋Ｋ）で表わ
される原子分率で０．４〜０．６５の範囲内に、イオン
交換処理により調整される。Ｎａ／（Ｎａ＋Ｋ）で表さ
れる原子分率が０．４より小さいか、または０゜６５よ
り大きいと、電子線照射による着色が生じ易くなり、表
示の明るさが低下する。上記した表面層をガラスに形成
するための方法としては、高温の、たとえば４４０〜４
９０℃の硝酸カリウムの溶融塩の中に所定の時間、ガラ
スを漬ける公知の方法を用いることができる。
ｋＶで加速された電子がガラス中に侵入する層を少なく
とも含む表面層の組成を、Ｎａ／ （Ｎａ＋Ｋ）で表わ
される原子分率で０．４〜０．６５の範囲内に、イオン
交換処理により調整される。Ｎａ／（Ｎａ＋Ｋ）で表さ
れる原子分率が０．４より小さいか、または０゜６５よ
り大きいと、電子線照射による着色が生じ易くなり、表
示の明るさが低下する。上記した表面層をガラスに形成
するための方法としては、高温の、たとえば４４０〜４
９０℃の硝酸カリウムの溶融塩の中に所定の時間、ガラ
スを漬ける公知の方法を用いることができる。
本発明のガラス容器に含有されるＮａ、Ｏおよびに、０
は、Ｋ２０／ （Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）で表わされる重量
分率により、ガラスの体積抵抗率を増加せしめ、高電圧
の印加に対して絶縁破壊を発生しにくくする。さらにに
イオンを含む溶融塩中でのガラスの中のＮａイオンと溶
融塩中のにイオンとのイオン交換処理により、表面層を
電子線の照射に対して着色しにくい組成にするとともに
、機械的強度の大きいガラス容器にするに必要な表面圧
縮歪層を形成する。
は、Ｋ２０／ （Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ）で表わされる重量
分率により、ガラスの体積抵抗率を増加せしめ、高電圧
の印加に対して絶縁破壊を発生しにくくする。さらにに
イオンを含む溶融塩中でのガラスの中のＮａイオンと溶
融塩中のにイオンとのイオン交換処理により、表面層を
電子線の照射に対して着色しにくい組成にするとともに
、機械的強度の大きいガラス容器にするに必要な表面圧
縮歪層を形成する。
本発明のガラス容器の一実施例の概略断面図を第１図に
示す。また第２図に陰極線管として使用したときの一使
用例を示す。第２図において１は本発明のガラス容器で
、内側の画像部に蛍光体７が塗布され、さらに金属膜８
が被覆され、金属膜８からガラス容器外部へ陽極端子３
が引出されている。２はリアパネルであり、ガラス容器
ｌとリアパネルとはガラスフリット４により四周で接着
され、空間６は減圧下に維持されていて、ガラスフリッ
ト４の中を貫通して電極端子５が外部から空間６内に挿
入され、電子銃ユニット９に接続されている。
示す。また第２図に陰極線管として使用したときの一使
用例を示す。第２図において１は本発明のガラス容器で
、内側の画像部に蛍光体７が塗布され、さらに金属膜８
が被覆され、金属膜８からガラス容器外部へ陽極端子３
が引出されている。２はリアパネルであり、ガラス容器
ｌとリアパネルとはガラスフリット４により四周で接着
され、空間６は減圧下に維持されていて、ガラスフリッ
ト４の中を貫通して電極端子５が外部から空間６内に挿
入され、電子銃ユニット９に接続されている。
実施例１
第１表の実施例１に示す目標組成のガラスを得るのに必
要な調合割合の原料バッチをつくり、約１４５０℃で溶
解し、公知の小型ロールアウト法で板ガラスを成形し、
その後研摩加工し、約５鶴のガラス板を成形した。この
ガラス板を所定寸法に切断し、公知の曲げ加工法により
深さ４０＋ｎのガラス容器を作成した。
要な調合割合の原料バッチをつくり、約１４５０℃で溶
解し、公知の小型ロールアウト法で板ガラスを成形し、
その後研摩加工し、約５鶴のガラス板を成形した。この
ガラス板を所定寸法に切断し、公知の曲げ加工法により
深さ４０＋ｎのガラス容器を作成した。
約４６０℃の硝酸カリウム融液中に３時間漬け、表面か
ら約４μｍの深さの層で、Ｎａ／ （Ｎａ十Ｋ）で表わ
される原子分率が０．４〜０．６５になるようにイオン
交換した。その後、画像部にＡｆ蒸着膜を被覆し、陽極
端子を設けたフロントパネルとリアパネルを、ガラスフ
リット（岩城硝子社製商品名ＩＮＦＴ−０２９Ｂ）によ
り接合し、電極端子をガラスフリフトに貫通するように
してガラス容器内に電子銃ユニットを設けた。このガラ
ス容器を８０℃の恒温室に入れ、ガラス容器の電極３に
１０ｋＶの高圧を負荷し、連続高電圧負荷実験を行なっ
た。
ら約４μｍの深さの層で、Ｎａ／ （Ｎａ十Ｋ）で表わ
される原子分率が０．４〜０．６５になるようにイオン
交換した。その後、画像部にＡｆ蒸着膜を被覆し、陽極
端子を設けたフロントパネルとリアパネルを、ガラスフ
リット（岩城硝子社製商品名ＩＮＦＴ−０２９Ｂ）によ
り接合し、電極端子をガラスフリフトに貫通するように
してガラス容器内に電子銃ユニットを設けた。このガラ
ス容器を８０℃の恒温室に入れ、ガラス容器の電極３に
１０ｋＶの高圧を負荷し、連続高電圧負荷実験を行なっ
た。
この結果、約５００時間経過後でもガラス容器の内面に
は放電によるクラックは認められなかった。
は放電によるクラックは認められなかった。
高電圧負荷実験終了後のガラス容器の画像表示部分の一
部を切抜き、減圧された真空容器中に設置し、加速電圧
１０ｋＶ、電子電流０．３４１Ｊ Ａ／ｍｍ”の電子ビ
ームを２０時間照射し、電子線による着色テストを行っ
た。アルミニウム膜を除去してテスト前後の波長４００
ｎｍにおけるガラスの透過率を第２表に示した。また別
に成型した５鶴厚のガラス板を前記した条件でイオン交
換処理を行った。
部を切抜き、減圧された真空容器中に設置し、加速電圧
１０ｋＶ、電子電流０．３４１Ｊ Ａ／ｍｍ”の電子ビ
ームを２０時間照射し、電子線による着色テストを行っ
た。アルミニウム膜を除去してテスト前後の波長４００
ｎｍにおけるガラスの透過率を第２表に示した。また別
に成型した５鶴厚のガラス板を前記した条件でイオン交
換処理を行った。
ガラス表面に発生した圧縮歪の大きさを東芝製表面応力
測定装置により測定した結果を第３表に示す。
測定装置により測定した結果を第３表に示す。
実施例２
第１表の実施例２に示す目標組成のガラスを得るのに必
要な調合割合の原料バッチをつ（す、実施例１と全く同
じようにして製作したガラス容器について、同様の高電
圧負荷実験を行ったところ、約５００時間を経過しても
ガラス容器の内面には放電によるクランクなどの異常は
認められなかった。実施例１と同じようにして得た、電
子線による着色テスト結果と、化学強化処理により得ら
れる機械的強度を圧縮応力値で表わした結果とを、それ
ぞれ第２表、第３表に示す。
要な調合割合の原料バッチをつ（す、実施例１と全く同
じようにして製作したガラス容器について、同様の高電
圧負荷実験を行ったところ、約５００時間を経過しても
ガラス容器の内面には放電によるクランクなどの異常は
認められなかった。実施例１と同じようにして得た、電
子線による着色テスト結果と、化学強化処理により得ら
れる機械的強度を圧縮応力値で表わした結果とを、それ
ぞれ第２表、第３表に示す。
実施例３
第１表の実施例３に示す目標組成のガラスを得るのに必
要な調合割合のガラスパンチをつくり、実施例１と全く
同じようにして製作したガラス容器について、同様の高
電圧負荷実験を行ったところ、約５００時間を経過して
もガラス容器内面には放電によるクランクなどの異常は
認められなかった。実施例１と同じようにして得た電子
線による着色テスト結果と、化学強化処理により得られ
る機械的強度を圧縮応力値で表した結果とを、それぞれ
第２表、第３表に示す。
要な調合割合のガラスパンチをつくり、実施例１と全く
同じようにして製作したガラス容器について、同様の高
電圧負荷実験を行ったところ、約５００時間を経過して
もガラス容器内面には放電によるクランクなどの異常は
認められなかった。実施例１と同じようにして得た電子
線による着色テスト結果と、化学強化処理により得られ
る機械的強度を圧縮応力値で表した結果とを、それぞれ
第２表、第３表に示す。
比較例１
市販のソーダライムシリカ組成のフロートガラスを用い
て、実施例１と同じようにして製作したガラス容器につ
いて、同様の高電圧負荷実験を行ったところ約２０時間
で電極端子部分のガラスフリフトおよびガラス容器の内
面にクランクを伴う異常が認められた。実施例１と同じ
ようにして得た、電子線による着色テスト結果と、化学
強化処理により得られる機械的強度を圧縮応力値で表わ
した結果とを、それぞれ第２表、第３表に示す。サンプ
ルは、著るしく耐電子線着色性が劣っていた。
て、実施例１と同じようにして製作したガラス容器につ
いて、同様の高電圧負荷実験を行ったところ約２０時間
で電極端子部分のガラスフリフトおよびガラス容器の内
面にクランクを伴う異常が認められた。実施例１と同じ
ようにして得た、電子線による着色テスト結果と、化学
強化処理により得られる機械的強度を圧縮応力値で表わ
した結果とを、それぞれ第２表、第３表に示す。サンプ
ルは、著るしく耐電子線着色性が劣っていた。
第１表
（重量％）
第
表
〔％
ｔ
４００ｎｍ）
第
表
（Ｋｇｆ／ｍｍｚ）
〔発明の効果〕
本発明のガラス容器を陰極線管デイスプレィのフロント
パネルとして用いれば、印加される高電圧により、ガラ
スフリフトおよびガラス容器内面で絶縁破壊が起らない
ようにすることができ、安定した画像を形成することが
できる。また本発明のガラス容器は、化学強化処理によ
り機械的強度が大きくなっているので、ガラスの肉厚を
薄くすることができ、陰極線管を軽量化することができ
るとともに、耐電子線着色性があるので画像の輝度劣化
を防止することができる。
パネルとして用いれば、印加される高電圧により、ガラ
スフリフトおよびガラス容器内面で絶縁破壊が起らない
ようにすることができ、安定した画像を形成することが
できる。また本発明のガラス容器は、化学強化処理によ
り機械的強度が大きくなっているので、ガラスの肉厚を
薄くすることができ、陰極線管を軽量化することができ
るとともに、耐電子線着色性があるので画像の輝度劣化
を防止することができる。
第１図は本発明のガラス容器の一実施例の概略路面図で
あり、第２図は本発明のガラス容器の陰極線管としての
一使用例を示す概略図である。 １・・・ガラス容器、２・・・リアパネル、３・・・陽
極端子、４・・・ガラスフリット、５・・・電極端子、
６・・・空間、７・・・蛍光体、８・・・金属薄膜、９
・・・電子銃ユニット
あり、第２図は本発明のガラス容器の陰極線管としての
一使用例を示す概略図である。 １・・・ガラス容器、２・・・リアパネル、３・・・陽
極端子、４・・・ガラスフリット、５・・・電極端子、
６・・・空間、７・・・蛍光体、８・・・金属薄膜、９
・・・電子銃ユニット
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 電子線を照射して画像を表示する陰極線管用のガラス容
器において、ガラス組成が重量％で表わして、 ＳｉＯ＿２５５〜７３％、ＺｎＯ０〜３％、Ｎａ＿２Ｏ
９〜１５％、ＳｒＯ０〜７％、Ｋ＿２Ｏ２．５〜５％、
ＺｒＯ＿２０〜７％、Ａｌ＿２Ｏ＿３０〜３％、ＭｇＯ
０〜４％、Ｌｉ＿２Ｏ０〜２％、ＣａＯ０〜９％、Ｂａ
Ｏ＋ＺｎＯ＋ＳｒＯ０〜１１％、ＢａＯ０〜９％、Ｃａ
Ｏ＋ＭｇＯ０．５〜１２％であり、かつ、Ｋ＿２Ｏ／（
Ｎａ＿２Ｏ＋Ｋ＿２Ｏ）で表わされる重量分率が０．２
〜０．３３であって、ガラス容器の少なくとも電子線が
照射される部分の表面層の組成を、Ｋイオンを含む溶融
塩中で、ガラス中のＮａイオンと溶融塩中のＫイオンを
交換することにより、Ｎａ／（Ｎａ＋Ｋ）で表わされる
原子分率で０．４〜０．６５としたガラス容器
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1108129A JPH0643253B2 (ja) | 1989-04-27 | 1989-04-27 | 薄型ディスプレイ用ガラス容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1108129A JPH0643253B2 (ja) | 1989-04-27 | 1989-04-27 | 薄型ディスプレイ用ガラス容器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02289444A true JPH02289444A (ja) | 1990-11-29 |
| JPH0643253B2 JPH0643253B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=14476669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1108129A Expired - Fee Related JPH0643253B2 (ja) | 1989-04-27 | 1989-04-27 | 薄型ディスプレイ用ガラス容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0643253B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0604094A1 (en) * | 1992-12-14 | 1994-06-29 | Nippon Sheet Glass Co. Ltd. | Glass panel resistant to coloring when irradiated with electron rays |
| EP0616984A1 (de) * | 1993-03-25 | 1994-09-28 | Schott Glaswerke | Bleifreies Kristallglas mit hoher Lichttransmission |
| EP0791563A1 (en) * | 1987-02-03 | 1997-08-27 | Nippon Sheet Glass Co. Ltd. | Glass panel resistant to coloring when irradiated with electron rays |
| EP0864546A1 (fr) * | 1997-03-13 | 1998-09-16 | Vetrotech Saint-Gobain | Vitrage résistant au feu |
| WO1998040320A1 (fr) * | 1997-03-13 | 1998-09-17 | Saint-Gobain Vitrage | Compositions de verre silico-sodo-calciques et leurs applications |
| FR2762838A1 (fr) * | 1997-04-30 | 1998-11-06 | Saint Gobain Vitrage | Compositions de verre silico-sodo-calcique et leurs applications |
-
1989
- 1989-04-27 JP JP1108129A patent/JPH0643253B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0791563A1 (en) * | 1987-02-03 | 1997-08-27 | Nippon Sheet Glass Co. Ltd. | Glass panel resistant to coloring when irradiated with electron rays |
| EP0604094A1 (en) * | 1992-12-14 | 1994-06-29 | Nippon Sheet Glass Co. Ltd. | Glass panel resistant to coloring when irradiated with electron rays |
| EP0616984A1 (de) * | 1993-03-25 | 1994-09-28 | Schott Glaswerke | Bleifreies Kristallglas mit hoher Lichttransmission |
| EP0864546A1 (fr) * | 1997-03-13 | 1998-09-16 | Vetrotech Saint-Gobain | Vitrage résistant au feu |
| WO1998040320A1 (fr) * | 1997-03-13 | 1998-09-17 | Saint-Gobain Vitrage | Compositions de verre silico-sodo-calciques et leurs applications |
| EP1426344A3 (fr) * | 1997-03-13 | 2006-05-10 | Vetrotech Saint-Gobain | Vitrage résistant au feu |
| FR2762838A1 (fr) * | 1997-04-30 | 1998-11-06 | Saint Gobain Vitrage | Compositions de verre silico-sodo-calcique et leurs applications |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0643253B2 (ja) | 1994-06-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |