JPS61137134A - 液晶装置 - Google Patents

液晶装置

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JPS61137134A
JPS61137134A JP25856684A JP25856684A JPS61137134A JP S61137134 A JPS61137134 A JP S61137134A JP 25856684 A JP25856684 A JP 25856684A JP 25856684 A JP25856684 A JP 25856684A JP S61137134 A JPS61137134 A JP S61137134A
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JP
Japan
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liquid crystal
electrode group
substrate
flexible
drive circuit
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JP25856684A
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Junichiro Kanbe
純一郎 神辺
Yujiro Ando
祐二郎 安藤
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、液晶装置に関し、詳しくは強誘電性液晶を用
いた液晶表示装置に関するものである。
従来、高密度の画素を形成する方式としてパッシブ・マ
トリクス電極構造やアクティブ・マトリクス電極構造を
用いた表示装置が知られているが、これらの表示装置の
多くはT N (Tl*i s ledNematic
 )液晶による電気−光学変調を利用したものである。
シカシ、このパッシブ・マトリクス電極構造の表示装置
では、走査線の増大に応じてデユーティ−比が低下し、
クロストークの発生やコントラストの低下等といった問
題点があり、又、アクティブ・マトリクス電極構造とし
ては、各画素にスイッチング素子(例えば薄膜トランジ
スタ)を接続する方式が知られているが、これを用いた
表示装置では、そのスイッチング素子を作製する工程が
煩雑である上、大画面で形成することが困難となってい
る点が問題点となっている。
これらの問題点を解決するものとして、最近クラークら
により米国特許第4367924号公報で発表された強
誘電性液晶素子が注目されている。この強誘電性液晶素
子がメモリー効果を持つためには、一般にそのセル厚を
0.1μ〜3μ程度の極薄層とすることが知られてbる
このだめ、セルを構成する2枚の基板のうち1方の基板
を可撓性基板とし、セル内に配置するスペーサ部材と可
撓性基板とを確実に密着させたセル構造とすることが必
要である。
しかし、この様なセル構造を用い、且つ高密度画素を形
成するパッシブ・マトリクス電極構造とした表示装置で
は、外部制御回路と可撓性基板側に配線した電極群との
間の電気的接続を異方性導電材によって行なう場合に接
続不良を生じ、しかもその表示装置に外部から圧力が加
えられた時には可撓性基板が撓み、外部制御回路との接
続個所で剥離し、断線を生じることがある。特に、高密
度画素とするに応じて配線数が増加し、単位長さ当りの
端子密度が高くなるため、接続不良による断線の危険性
が高くなってくる。
本発明の目的は、前述の欠点を解消した液晶装置を提供
することにある。
本発明の別の目的は、高密度画素を有する強誘電性液晶
素子で、外部制御回路との安定な接続状態を維持した液
晶表示装置を提供することKある。
本発明のかかる目的は、第1の電極群及び該第1の電極
群に接続された第1の駆動回路部と第2の駆動回路部を
有する非可撓性の第1基板と、第2の電極群を有する可
撓性の第2基板との間に強誘電性液晶が配置され、前記
第2の電極群と第2の駆動回路部とが接続されていると
ともに、前記第1の駆動回路部と第2の駆動回路部がそ
れぞれ外部制御回路に接続されている液晶装置によって
達成される。
以下1本発明を図面に従って説明する。
第1図は、本発明の液晶表示装置の実施態様を表わして
いる。第1図で示す表示装置では、肉厚ガラス(約Q、
3mm〜2mm )の非可撓性基板101と肉薄ガラス
(約20μ〜300μ)の可撓性基板102との間に強
誘電性液晶113が充填されている。非可撓性基板10
1と可撓性基板162には、それぞれその対面側にマト
リクス電極構造を形成する電極群103と104が配線
されている。可撓性基板102に配線された電極群10
4は、異方性導電材107(垂直方向のみに導電性を示
す熱可塑性樹脂で、例えばソニ・ケミカル社のCP−1
030”や日立化成社の゛ヒタセルム異方導電性接着フ
ィルム”が知られている。)を通して非可撓性基板10
1に形成した駆動回路部106に接続され、さらに外部
制御回路(図示せず)と接続できる様に端子群109ま
で接続されている。
又、非可撓性基板101には、この基板に配線しである
電極群103に駆動信号を印加する駆動回路部105が
設けられている。さらに、外部制御回路(図示せず)か
らの制御信号を駆動回路部105に接続するための端子
群108が形成されている。
強誘電性液晶113を充填したセル体は、非可撓性基板
101と可撓性基板102との間の空隙がストライプ形
状のスペーサ部材111によって保持されており、その
基板101と102の周辺部がエポキシ接着剤などのシ
ール材110によってシーリングされている。強誘電性
液晶1】3は、モノドメインが形成される様に配向性が
付与されている。この配向性は、基板101と102の
それぞれにラビング処理されたポリイミド膜やポリビニ
ルアルコール膜などによって得られ、又斜方蒸着された
5IO2膜などによって得ることができる。
晶113の配向変調により生じる光学的変調が得られる
ポリエーテルサルフオンフイルムなどのプラスチックフ
ィルムを使用することも可能であるが、光学的特性の上
から肉薄ガラスを用いることが望ましい。
電極群103と104は互に直交配置されたマトリクス
電極構造とすることができ、例えば電極群103には走
査信号を印加する走査線とし、電極群104にはビデオ
情報信号を印加するデータ線として用いることができ、
又、その逆であってもよい。又、端子群108と109
は下述のゲートとソースの端子とすることができる。
第2図は、駆動回路部105と106をそれぞれ薄膜ト
ランジスタ(ポリシリコン、アモルファスシリコン)で
形成した回路構成を表わしている。
駆動回路部105を構成する5W11〜S W n 4
は薄膜トランジスタで形成した分割化スイッチング素子
で、E(1)〜B (n)はゲートに接続した前記分割
イビスイッチング素子を制御するための分割ブロック選
択線である。なお、本実施例における共通線は4本であ
るから、この場合nはN/4に等しい。P1〜PNは薄
膜トランジスタで形成した放電用スイッチング素子で、
■は放電制御線、Jは放電電位線、21は共通化された
走査線を駆動するための外部制御回路である走査線駆動
回路で、22は回路基板と走査線駆動回路21との接続
部を示すものである。
表示部23を駆動する際には共通走査線駆動回路21か
ら、ソースに接続した共通線A、B。
C,Dに繰り返しパルスを与えると共に、分割ブロック
選択線E (]) −E(n)を順次0N10FF’さ
せる。また、P1〜Pnには非選択時にG(1)〜G 
(N)を−V (V)の電位に制御するために放電制御
線IKパルスを与えるようにすればよい。
上記実施例においては、走査線をN本、共通線を4本と
して説明したが、例えば走査線を480本、共通線を2
4本とすると、分割ブロック選択線は20本となり、外
部駆動回路との接続数は、放電制御線、放電電位線の2
本を含めて合計46ケ所となり、約90Xの接続数削減
の効果がある。
駆動回路部106は、薄膜トランジスタで形成されだS
W1〜8w、nを有している。外部の制御回路からビデ
オ情報信号がシフトレジスタ24に転送され、シフトレ
ジスタ24への転送が終ると、ゲートに接続された5w
1−8wmの端子25はオフ状態からオン状態となり、
この時のシフトレジスタ24の状態にラッチし、それに
対応した信号をソースに接続されたデータ線Dl−1)
mに印加される。シフトレジスタ24はクロック端子2
6とデータ入力端子27を有しており、端子28にシフ
トレジスタ24のオフのデータレベルと同一信号が供給
される。
第3図は、本発明で用いる液晶セルを模式的に表わした
平面図である。上基板31は肉薄ガラスからなる可撓性
基板で、その周縁部に沿って、対向する他方の下基板(
図示されていない)をシーリングするためのシール部3
2が形成されている。また上基板31のシール部32で
囲まれた中央部にはスペーサ部材33が形成されて、液
晶層の厚さを規制する機能を果たしている。このスペー
サ部材33は、例えば−上基板31上に、ポリイミドを
所定の厚さにコーティングした後、フォトエツチングに
よりパターン状に形成される。或いは、上基板31その
ものを、スペーサ部33を除いてパターン状にエッチン
グしでもよい。また2つの基板の表面には、必要に応じ
て、液晶を配向させるだめのラビング処理が施こされて
いる。またスペーサ部材33で区画された状態で液晶層
領域34が形成され、これは、界面35を介して減圧空
間36と隣接ないし連通している。このような液晶層3
4は、液晶注入口37から液晶を注入し、封止剤38に
より注入口37を封止することにより形成される。液晶
材料としては、例えば強誘電性液晶DOBAMBCが用
いられ、その配向状態は、等吉相状態より、カイラルス
メクチックC相の状態へと徐冷することにより得られる
上記液晶の封入の態様をより詳しく説明すると、例えば
スペーサ部材33を形成した上基板31と、肉厚ガラス
からなる非可撓性の対向基板をエポキシ系接着剤32等
により接着してセルを形成した後、セルを真空容器中に
保持し、セル中の空気を充分に排気した後、注入口37
を液晶材料に浸漬する。その後、真空容器中にN2ガス
等を導入することKよりセル外部の気圧を高め、液晶材
料をセル内に圧入する。液晶材料が、所定の領域(例え
ば、画像領域)39(約100mmX 100mm )
を充分に満たL?c時点で、注入作業を停止し、注入口
37を封止する。このようにして形成された液晶セルは
、減圧空間36があることによシ、大気圧中では、充分
な圧縮力を受けているため、可撓性基板31が、スペー
サ部材334Cよく密着し、厚さ2μ以下という、極め
て薄いセルでも、大面積にわたって均一なセル厚さに形
成することが可能である。又、減圧空間36は、液晶セ
ル使用時の環境変化による、液晶材料の熱膨張、熱収縮
によって、セルの厚さが、部分的に変化してしまうこと
を防ぐ機能も有する。
本発明で用いる強誘電性液晶としては、カイラルスメク
チック液晶が最も好ましく、そのう・ちカイラルスメク
チックC相(SmC”)、H相(Sm)(”) 、I相
(SmI”)、J相(SmJ”)、K相(SmK”)、
F相(SmF”)やG相(SmG”)の液晶が適してい
る。この強誘電性液晶については、LE JOURNA
L DB PHY8IQUELETTFXR8” 36
 (L−69) 1975. 「Ferroelect
ric、[,1quid Crystals J : 
”App目ed Physics Letters ”
36(11)1980. f−Submicro 5e
cond B15tableElectrooptic
 Switching in Liquid Crys
talsに1固体物理” 16(141)1981 r
液晶」等に記載されており、本発明ではこれらに開示さ
れた強誘電性液晶を用いることができる。
より具体的には、本発明法に用いられる強誘電性液晶化
合物の例としては、デシロキシベンジリデン−p′−ア
ミノ−2−メチルブチルシンナメート(DOBAMBC
)、ヘキシルオキシベンジリデン−p′−アミノ−2−
クロロプロピルシンナメート(HOBACPC)および
4−O−(2−メチル)−プチルレゾルシリデンー4−
オクチルアニリン(MBRA8 )等が挙げられる。
これらの材料を用いて、素子を構成する場合、液晶化合
物が、S m C”、SmH”、S m I ”、Sm
J”、SmK 、SmF 、SmG  となるよう々温
度状態に保持する為、必要に応じて素子をヒーターが埋
め込まれた銅ブロック等により支持することができる。
第4図は、強誘電性液晶素子の例を模式的に描いたもの
である。41と41′は、I n 203.5n02や
I To (Indium −Tin 0xide)等
の透明電極がコートされた基板(ガラス板)であり、そ
の間に液晶分子層42がガラス面に垂直になるよう配向
したSmC”相の液晶が封入されている。
太線で示した線43が液晶分子を表わしており、この液
晶分子43は、その分子に直交した方向に双極子モーメ
ン) (Pl) 44を有している。
基板41と41上の電極間に一定の閾値以上の電圧を印
加すると、液晶分子43のらせん構造がほどけ、双極子
モーメン) (PJL) 44はすべて′這界方向に向
くよう、液晶分子43の配向方向を変えることができる
。液晶分子43は細長い形状を有しており、その長軸方
向と短軸方向で屈折率異方性を示し、従って例えばガラ
ス面の上下に互いにクロスニコルの位置関係に配置した
偏光子を置けば、電圧印加極性によって光学特性が変わ
る液晶光学変調素子となることは、容易に理解される。
さらに液晶セルの厚さを充分に薄くした場合(例えば1
μ)には、第2図に示すように電界を印加していない状
態でも液晶分子のらせん構造はほどけ(非らせん構造)
、その双極子モーメン)P又はP′は上向き(54)又
は下向き(54’)のどちらかの配向状態をとる。
このようなセルに第5図に示す如く一定の閾値以上の極
性の異る電界EはE′を付与すると、双極子モーメント
電界E又はEの電界ベクトルに対応して上向き54又は
下向き54′と向きを変え、それに応じて液晶分子は第
1の安定状態53(明状態)か或いは第2の安定状態5
3′(暗状態)の何れか一方に配向する。
この様な強誘電性液晶を光学変調素子として用いること
の利点は2つある。第1に応答速度が極めて速いこと、
第2に液晶分子の配向が双安定性を有することである。
第2の点を例えば第5図によって説明すると、電界Eを
印加すると液晶分子は第1の安定状態53に配向するが
、この状態は電界を切ってもこの第1の安定状態53が
維持され、又、逆向きの電界Eを印加すると、液晶分子
は第2の安定状態53に配向してその分子の向きを変え
るが、やはり電界を切ってもこの状態に保ち、それぞれ
の安定状態でメモリー機能を有している。又、与える電
界Eが一定の閾値を越えない限りそれぞれの配向状態に
やはり維持されている。このような応答速度の速さと、
双安定性が有効に実現されるには、セルとしては出来る
だけ薄い方が好ましく、一般的には0.1μ〜3μが適
している。この種の強誘電性液晶を用いたマトリクス電
極構造を有する液晶−電気光学装置は、例えばクラーク
とラガパルにより、米国特許第4367924号明細書
で提案されている。
第6図は、本発明の液晶表示装置における別の実施態様
を表わしている。第1図及び第2図の符号と同一符号の
ものは、同一部材を表わしている。
第6図に示す表示装置は、第1図の表示装置で用いた可
撓性基板102に配線した電極群104の端子をそれぞ
れ端子群109と109に振り分けた他は同様の装置で
ある。従って、本実施例の表示装置はそれぞれの端子群
109と109“に電気的に接線するための2つの異方
性導電体107と107及びそれぞれの駆動回路部10
6と106が配置されている。
この液晶表示装置では、端子群109と109の単位長
さ当りの端子数密度を小さくすることができ、外部制御
回路との電気的接続が端子間のショートを発生させるこ
となく行なうことができる。
本発明の液晶表示装置によれば、高速応答性とメモリー
効果を得るためにセル厚を0.1μ〜3μと極薄層とし
た液晶セルとするために使用した可撓性基板に配線した
電極群に外部制御回路からの信号を断線やショートなど
の電気的故障を発生させることなく確実に印加すること
ができる上、可撓性基板に対して加えられる外部からの
圧力や振動によっても電気的故障を全く発生させること
がない効果を有している。
【図面の簡単な説明】
第1図(A)は本発明の液晶装置を模式的に表わす平面
図で、第1図(B)はそのA−A’断面図である。第2
図は本発明の液晶装置の駆動回路を表わす説明図である
。第3図は、本発明で用いる液晶セルの平面図である。 第4図及び第5図は、本発明で用いる強誘電性液晶素子
を模式的に表わした斜視図である。第6図は、本発明の
液晶装置の別の態様を表わす平面図である。 101・・・非可撓性基板、102・・・可撓性基板、
103.104・・・電極群、105,106,106
’。 106 ・・・駆動回路部、107.107’、107
”・・・異方性導電体、108.109・・・端子群、
110゜32・・・シール部材、111 、 33・・
・スペーサ部材、112.114・−・偏光手段(偏光
子、検光子)。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)第1の電極群及び該第1の電極群に接続された第
    1の駆動回路部と第2の駆動回路部を有する非可撓性の
    第1基板と、第2の電極群を有する可撓性の第2基板と
    の間に強誘電性液晶が配置され、前記第2の電極群と第
    2の駆動回路部とが接続されているとともに、前記第1
    の駆動回路部と第2の駆動回路部がそれぞれ外部制御回
    路に接続されていることを特徴とする液晶装置。
  2. (2)前記第1の電極群と第2の電極群とでマトリクス
    電極構造を形成している特許請求の範囲第1項記載の液
    晶装置。
  3. (3)前記第1の電極群が走査信号を印加するための走
    査線で、第2の電極群が情報信号を印加するためのデー
    タ線である特許請求の範囲第1項記載の液晶装置。
  4. (4)前記第1の電極群が情報信号を印加するためのデ
    ータ線で、第2の電極群が走査信号を印加するための走
    査線である特許請求の範囲第1項記載の液晶装置。
  5. (5)前記強誘電性液晶がカイラルスメクチック液晶で
    ある特許請求の範囲第1項記載の液晶装置。
  6. (6)前記カイラルスメクチック液晶が非らせん構造と
    なつている特許請求の範囲第5項記載の液晶装置。
  7. (7)前記カイラルスメクチック液晶がC相、H相、I
    相、J相、K相、G相又はF相である特許請求の範囲第
    5項記載の液晶装置。
JP25856684A 1984-08-20 1984-12-07 液晶装置 Pending JPS61137134A (ja)

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DE3546676A DE3546676C2 (ja) 1984-08-20 1985-08-19
DE19853529581 DE3529581A1 (de) 1984-08-20 1985-08-19 Fluessigkristall-einrichtung
FR8512499A FR2569280B1 (fr) 1984-08-20 1985-08-19 Cellule a cristal liquide
GB8520876A GB2164758B (en) 1984-08-20 1985-08-20 Liquid crystal device
GB8729576A GB2199417B (en) 1984-08-20 1987-12-18 Liquid crystal device

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0470631U (ja) * 1990-10-31 1992-06-23
US5734458A (en) * 1993-08-12 1998-03-31 Sharp Kabushiki Kaisha Display apparatus with drive circuits on the substrate and with a shorting line
WO2020039554A1 (ja) * 2018-08-23 2020-02-27 シャープ株式会社 アクティブマトリクス基板、表示装置及び母基板

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