JPS6113156B2 - - Google Patents
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- JPS6113156B2 JPS6113156B2 JP52128054A JP12805477A JPS6113156B2 JP S6113156 B2 JPS6113156 B2 JP S6113156B2 JP 52128054 A JP52128054 A JP 52128054A JP 12805477 A JP12805477 A JP 12805477A JP S6113156 B2 JPS6113156 B2 JP S6113156B2
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- JP
- Japan
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- retort
- infrared
- radiators
- dental ceramic
- kiln
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Links
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B5/00—Muffle furnaces; Retort furnaces; Other furnaces in which the charge is held completely isolated
- F27B5/06—Details, accessories, or equipment peculiar to furnaces of these types
- F27B5/14—Arrangements of heating devices
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61C—DENTISTRY; APPARATUS OR METHODS FOR ORAL OR DENTAL HYGIENE
- A61C13/00—Dental prostheses; Making same
- A61C13/20—Methods or devices for soldering, casting, moulding or melting
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B17/00—Furnaces of a kind not covered by any preceding group
- F27B17/02—Furnaces of a kind not covered by any preceding group specially designed for laboratory use
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- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
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- Clinical Laboratory Science (AREA)
- Muffle Furnaces And Rotary Kilns (AREA)
- Tunnel Furnaces (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
- Dental Tools And Instruments Or Auxiliary Dental Instruments (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は歯科用セラミツク材料をその焼成温度
まで加熱するレトルトを有する歯科セラミツク技
工用キルンに関するものである。
まで加熱するレトルトを有する歯科セラミツク技
工用キルンに関するものである。
溶融点が高く酸化しない合金の線に電流を与え
ることによつて灼熱する電気抵抗熱源を既知の歯
科セラミツク用キルンは設けている。抵抗熱源の
輻射線は最大で約６〜８μの波長範囲にある。約
900℃〜1100℃の必要な温度にキルンの空間を加
熱するこれ等既知の歯科セラミツク用キルンに於
ては、焼成時間を所定の時間持続することは必須
のことであり、これはこの材料は表面から内部ま
で均一に抵抗レトルトによつて注意深く加熱され
なければならないからであり、このようにしてレ
トルト室の排気によつてガス介在物のない状態に
セラミツク体がなる前にセラミツク材料の表面が
焼成するのを防止するのである。このようなガス
介在物は焼成したセラミツク体表面に貫通でき
ず、不所望の気泡を発生し、この気泡は完成した
製品の美的外観を損なうものである。また12〜15
分の焼成時間も必要である。これは材料の内部が
十分焼結しないのに外面が焼成し過ぎるという対
流の遅延によつて引き起される状態を避けるため
である。更に抵抗レトルトに於ては、金属製のク
ラウン及びブリツジにセラミツク体を焼着ける
時、金属とセラミツクとの間の接合はそれが幾度
も改善されたとは言え特に非鉄金属を使用した場
合に危険な点である。真に良好な結果はセラミツ
ク材料の特定の金属に対する或は反対に金属のセ
ラミツク材料に対する注意深い整合によつてのみ
達成される。
ることによつて灼熱する電気抵抗熱源を既知の歯
科セラミツク用キルンは設けている。抵抗熱源の
輻射線は最大で約６〜８μの波長範囲にある。約
900℃〜1100℃の必要な温度にキルンの空間を加
熱するこれ等既知の歯科セラミツク用キルンに於
ては、焼成時間を所定の時間持続することは必須
のことであり、これはこの材料は表面から内部ま
で均一に抵抗レトルトによつて注意深く加熱され
なければならないからであり、このようにしてレ
トルト室の排気によつてガス介在物のない状態に
セラミツク体がなる前にセラミツク材料の表面が
焼成するのを防止するのである。このようなガス
介在物は焼成したセラミツク体表面に貫通でき
ず、不所望の気泡を発生し、この気泡は完成した
製品の美的外観を損なうものである。また12〜15
分の焼成時間も必要である。これは材料の内部が
十分焼結しないのに外面が焼成し過ぎるという対
流の遅延によつて引き起される状態を避けるため
である。更に抵抗レトルトに於ては、金属製のク
ラウン及びブリツジにセラミツク体を焼着ける
時、金属とセラミツクとの間の接合はそれが幾度
も改善されたとは言え特に非鉄金属を使用した場
合に危険な点である。真に良好な結果はセラミツ
ク材料の特定の金属に対する或は反対に金属のセ
ラミツク材料に対する注意深い整合によつてのみ
達成される。
本発明の目的はセラミツク体の表面と内部とを
ほぼ同時に加熱し、金属の種類に拘らず従来より
もセラミツクと金属との間の接合を一層確実に行
ない得る歯科セラミツク技工用キルンを得るにあ
る。
ほぼ同時に加熱し、金属の種類に拘らず従来より
もセラミツクと金属との間の接合を一層確実に行
ない得る歯科セラミツク技工用キルンを得るにあ
る。
本発明歯科セラミツク技工用キルンは歯科用セ
ラミツク材料をそのセラミツク体の焼成温度まで
加熱する加熱レトルトと、波長の短かい赤外線輻
射線を発生する熱源とを具えることを特徴とす
る。
ラミツク材料をそのセラミツク体の焼成温度まで
加熱する加熱レトルトと、波長の短かい赤外線輻
射線を発生する熱源とを具えることを特徴とす
る。
熱源を波長が約１〜1.5μである石英赤外線放
熱器にするのが好適である。
熱器にするのが好適である。
指定された範囲内の短かい波長の赤外線放熱器
の熱源を使用する結果、焼成すべきセラミツクの
内部の層を外部の層とほぼ正確に同時に加熱する
ことができる。このようにして焼成された材料の
構造に悪影響を及ぼす焼成工程中のセラミツク材
料内の著るしい温度降下を無くすることができ
る。この適用された歯科用セラミツク体は実際上
その全層の厚さにわたり同時に融解し、焼成材料
から反応ガスを簡単に逸出させ、焼成時間を短か
くし、焼成作業の制御を簡単化し、従つて焼成工
程の終りに、ほぼ気泡やガス介在物のない焼成生
成物を得ることができる。従つて信頼性ある焼成
工程の実施及び焼成セラミツクの質的向上が得ら
れる。レトルトを石英ガラスレトルトにすれば輻
射線の強さを一層均一にすることができるから、
この焼成生成物はすべての側で一層均一に融解す
る。
の熱源を使用する結果、焼成すべきセラミツクの
内部の層を外部の層とほぼ正確に同時に加熱する
ことができる。このようにして焼成された材料の
構造に悪影響を及ぼす焼成工程中のセラミツク材
料内の著るしい温度降下を無くすることができ
る。この適用された歯科用セラミツク体は実際上
その全層の厚さにわたり同時に融解し、焼成材料
から反応ガスを簡単に逸出させ、焼成時間を短か
くし、焼成作業の制御を簡単化し、従つて焼成工
程の終りに、ほぼ気泡やガス介在物のない焼成生
成物を得ることができる。従つて信頼性ある焼成
工程の実施及び焼成セラミツクの質的向上が得ら
れる。レトルトを石英ガラスレトルトにすれば輻
射線の強さを一層均一にすることができるから、
この焼成生成物はすべての側で一層均一に融解す
る。
赤外線石英放熱器等の助けによるセラミツク体
のこの焼成はセラミツクを焼成する分野即ち金属
のクラウン及びブリツジにセラミツク体を焼着す
る時一層実質的な利益を伴なう。焼成材料をその
内方深さ方向に均一に加熱する結果、金属とセラ
ミツクとの間の実質的に一層良好な接合が達成さ
れること明らかである。接合を損なう不所望の厚
い酸化層の発生も避けることができる。特定のセ
ラミツク体とこれに正確に整合しない特定の焼成
合金との組合せの場合でも良好な結果が得られ
る。従つて使用すべき金属の選択も一層融通性を
増大することができる。非鉄金属の処理の場合で
もセラミツク体に対する接合に対しても厳密を要
しないですむようになる。
のこの焼成はセラミツクを焼成する分野即ち金属
のクラウン及びブリツジにセラミツク体を焼着す
る時一層実質的な利益を伴なう。焼成材料をその
内方深さ方向に均一に加熱する結果、金属とセラ
ミツクとの間の実質的に一層良好な接合が達成さ
れること明らかである。接合を損なう不所望の厚
い酸化層の発生も避けることができる。特定のセ
ラミツク体とこれに正確に整合しない特定の焼成
合金との組合せの場合でも良好な結果が得られ
る。従つて使用すべき金属の選択も一層融通性を
増大することができる。非鉄金属の処理の場合で
もセラミツク体に対する接合に対しても厳密を要
しないですむようになる。
焼成材料を収容する加熱レトルトを耐熱性の高
い輻射線透過性材料で造る。石英ガラスはこのよ
うな材料として特に適している。従来使用された
石材のライニングに比較し、石英ガラスレトルト
は実質的に一層手ぎわのよい操作を行なうことが
できる。更に石英ガラスは軽量である特徴があ
る。石英ガラス等のレトルトは従来よりもほぼ短
かい波長を有する輻射線の均一な作用を行なうか
ら、セラミツク材料をその全厚さにわたり均一に
加熱することができる。
い輻射線透過性材料で造る。石英ガラスはこのよ
うな材料として特に適している。従来使用された
石材のライニングに比較し、石英ガラスレトルト
は実質的に一層手ぎわのよい操作を行なうことが
できる。更に石英ガラスは軽量である特徴があ
る。石英ガラス等のレトルトは従来よりもほぼ短
かい波長を有する輻射線の均一な作用を行なうか
ら、セラミツク材料をその全厚さにわたり均一に
加熱することができる。
この赤外線放熱器をレトルトの周縁の周りに適
切に分散させる。従つて焼成材料を担持するテー
ブルのレベルからレトルトの周縁の上部のみにわ
たりこの赤外線放熱器を分散させてもよい。また
赤外線放熱器をレトルトの周縁の周りに分散させ
ることも可能であり、即ち赤外線放熱器を焼成材
料に下からも作用させる。この場合、この焼成テ
ーブルも耐熱性の高い輻射線透過性材料で造るべ
きである。
切に分散させる。従つて焼成材料を担持するテー
ブルのレベルからレトルトの周縁の上部のみにわ
たりこの赤外線放熱器を分散させてもよい。また
赤外線放熱器をレトルトの周縁の周りに分散させ
ることも可能であり、即ち赤外線放熱器を焼成材
料に下からも作用させる。この場合、この焼成テ
ーブルも耐熱性の高い輻射線透過性材料で造るべ
きである。
この赤外線放熱器をカバー又はフードで包囲す
るのがよく、このカバー又はフードを反射装置と
して設計してもよい。しかし、各赤外線放熱器又
は各赤外線放熱器群に反射装置を設けてもよく、
この反射装置を任意適当な横断面形状にしてもよ
い。反射装置の横断面は弓形又は開放台形或はそ
の双方にしてもよく、双曲線形状又は楕円形状等
でもよい。
るのがよく、このカバー又はフードを反射装置と
して設計してもよい。しかし、各赤外線放熱器又
は各赤外線放熱器群に反射装置を設けてもよく、
この反射装置を任意適当な横断面形状にしてもよ
い。反射装置の横断面は弓形又は開放台形或はそ
の双方にしてもよく、双曲線形状又は楕円形状等
でもよい。
レトルト内を大気圧以下にするため、このレト
ルトを中空連結管によつて真空源等に連結しても
よい。
ルトを中空連結管によつて真空源等に連結しても
よい。
添付の線図的図面を参照して例として本発明の
実施例を次に説明する。
実施例を次に説明する。
歯科用セラミツクキルン１は加熱レトルト２を
具える。この加熱レトルト２は管状の一端を閉じ
るのが有利である。このレトルトを耐熱性が高
く、輻射線を透過し得る材料、好ましくは石英ガ
ラス等で造る。レトルト２の一端３に壁４を設け
この壁４によつてレトルトを閉じる。この壁４を
レトルトと一体に形成するのがよい。この石英ガ
ラスレトルトと石英ガラス壁とを適当に互に融着
する。このレトルトの他端５は供給端であり、蓋
６によつて閉じる。このレトルトは例えば直径約
80mm、長さ約250mmから350mm、好ましくは約300
mmである。
具える。この加熱レトルト２は管状の一端を閉じ
るのが有利である。このレトルトを耐熱性が高
く、輻射線を透過し得る材料、好ましくは石英ガ
ラス等で造る。レトルト２の一端３に壁４を設け
この壁４によつてレトルトを閉じる。この壁４を
レトルトと一体に形成するのがよい。この石英ガ
ラスレトルトと石英ガラス壁とを適当に互に融着
する。このレトルトの他端５は供給端であり、蓋
６によつて閉じる。このレトルトは例えば直径約
80mm、長さ約250mmから350mm、好ましくは約300
mmである。
赤外線放熱器７をこのレトルト２の外部に配置
し、レトルトの所定長さにわたつて延在せしめ
る。赤外線放熱器７はレトルトの長さの約半分に
わたつて延在せしめるのが有利である。放熱器７
をカバー又はフード９の下に設置し、所要に応
じ、このフード９を反射装置として設計してもよ
い。この放熱器又は放熱器群に反射装置８を設け
るのが有利であり、この反射装置８は任意適当な
横断面形状を持つことができる。従つて、各反射
装置は例えば弓形又はＵ字状或は開放台形として
設計してもよい。他の有利な形状は双曲線又は楕
円等の横断面形状である。
し、レトルトの所定長さにわたつて延在せしめ
る。赤外線放熱器７はレトルトの長さの約半分に
わたつて延在せしめるのが有利である。放熱器７
をカバー又はフード９の下に設置し、所要に応
じ、このフード９を反射装置として設計してもよ
い。この放熱器又は放熱器群に反射装置８を設け
るのが有利であり、この反射装置８は任意適当な
横断面形状を持つことができる。従つて、各反射
装置は例えば弓形又はＵ字状或は開放台形として
設計してもよい。他の有利な形状は双曲線又は楕
円等の横断面形状である。
石英ガラス等の加熱レトルト２に脚１０，１１
を嵌着することができる。この場合、脚を中空に
し、１１に示すように真空源１２への連結管の機
能を満たすようにする。この連結管１１も耐熱性
の高い輻射線透過性のもの例えば石英ガラスから
成るようにすべきである。脚１０の代わりに、レ
トルトを包囲するシエルでレトルトを支持しても
よい。符号１３はベースであつて、この中に温度
制御装置及び更に調整及び切替ユニツトを収容す
る。
を嵌着することができる。この場合、脚を中空に
し、１１に示すように真空源１２への連結管の機
能を満たすようにする。この連結管１１も耐熱性
の高い輻射線透過性のもの例えば石英ガラスから
成るようにすべきである。脚１０の代わりに、レ
トルトを包囲するシエルでレトルトを支持しても
よい。符号１３はベースであつて、この中に温度
制御装置及び更に調整及び切替ユニツトを収容す
る。
閉塞蓋６に連結した焼成テーブル１４をレトル
ト２に挿入する。このテーブル１４は焼成すべき
材料１５を担持する。図面に示すようにテーブル
１４は棒の上に載置されるよう構成するのがよ
い。このテーブルも耐熱性の高い輻射線透過性材
料で造るのが有利である。
ト２に挿入する。このテーブル１４は焼成すべき
材料１５を担持する。図面に示すようにテーブル
１４は棒の上に載置されるよう構成するのがよ
い。このテーブルも耐熱性の高い輻射線透過性材
料で造るのが有利である。
赤外線放熱器による深い浸透の結果、材料１５
は均一に加熱され、従来よりも短かい焼成時間で
焼成する。セラミツク質量はその全厚さにわたり
同時に融解する。
は均一に加熱され、従来よりも短かい焼成時間で
焼成する。セラミツク質量はその全厚さにわたり
同時に融解する。
石英ガラス等で製造したレトルトは従来より比
較的高い真空を使用することができる。従つてで
き上つた焼成材料内の気泡の数が減少する。短時
間で信頼性ある状態で品質的に優れた燃焼材料構
造が得られる。
較的高い真空を使用することができる。従つてで
き上つた焼成材料内の気泡の数が減少する。短時
間で信頼性ある状態で品質的に優れた燃焼材料構
造が得られる。
第１図は本発明歯科用セラミツクキルンの一部
を断面とする正面図、第２図は第１図のキルンの
一部を断面とする側面図である。 １……歯科用セラミツクキルン、２……レトル
ト、３……一端、４……壁、５……他端、６……
蓋、７……赤外線放熱器、８……反射装置、９…
…カバー又はフード、１０，１１……脚、１２…
…真空源、１３……ベース、１４……テーブル、
１５……材料。
を断面とする正面図、第２図は第１図のキルンの
一部を断面とする側面図である。 １……歯科用セラミツクキルン、２……レトル
ト、３……一端、４……壁、５……他端、６……
蓋、７……赤外線放熱器、８……反射装置、９…
…カバー又はフード、１０，１１……脚、１２…
…真空源、１３……ベース、１４……テーブル、
１５……材料。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 歯科用セラミツク材料を収納するレトルト
と、上記セラミツク材料をレトルト外方より焼成
温度まで加熱する複数の赤外線放射器とを備え、
上記レトルトおよび赤外線放射器が以下のように
構成かつ配置されていることを特徴とする歯科セ
ラミツク技工用キルン。 (a) 上記レトルトが、一端に蓋を設け他端を閉塞
したチヤンバ構造を有する。 (b) 上記レトルトが赤外線を透過しうる耐熱性の
材料からなり、少なくともその上方部を円筒状
に形成してある。 (c) 上記レトルトが、上記歯科用セラミツク材料
を受ける耐熱性でかつ赤外線透過性の材料から
なるテーブルを内部に備えている。 (d) 上記各赤外線放射器が１μｍ〜1.5μｍの波
長域において最大の輻射エネルギーをもつ。 (e) 上記各赤外線放射器が、上記レトルトの円筒
状上方部に沿う態様で分散配置されている。 ２ 上記各赤外線放射器が反射装置を備えている
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の歯
科セラミツク技工用キルン。 ３ 上記各赤外線放射器が環状に分散配置され、
かつそれらの放射器を反射装置としても機能させ
ることができるフードで囲んだことを特徴とする
特許請求の範囲第２項記載の歯科セラミツク技工
用キルン。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE2656288A DE2656288C3 (de) | 1976-12-11 | 1976-12-11 | Brennofen für dental-keramische Arbeiten |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5373895A JPS5373895A (en) | 1978-06-30 |
| JPS6113156B2 true JPS6113156B2 (ja) | 1986-04-11 |
Family
ID=5995327
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12805477A Granted JPS5373895A (en) | 1976-12-11 | 1977-10-25 | Kiln for dental ceramic technology |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4208573A (ja) |
| JP (1) | JPS5373895A (ja) |
| AT (1) | AT353400B (ja) |
| BR (1) | BR7707746A (ja) |
| CH (1) | CH625610A5 (ja) |
| DE (1) | DE2656288C3 (ja) |
| FR (1) | FR2373765A1 (ja) |
| GB (1) | GB1589617A (ja) |
| IL (1) | IL53035A0 (ja) |
| IT (1) | IT1087252B (ja) |
| SE (1) | SE7714031L (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6349164U (ja) * | 1986-09-11 | 1988-04-02 |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SE8200685L (sv) * | 1982-02-05 | 1983-08-06 | Electrolux Ab | Med infrarod stralning arbetande hushallsugn |
| DE3212379A1 (de) * | 1982-04-02 | 1983-10-20 | ESPE Fabrik pharmazeutischer Präparate GmbH, 8031 Seefeld | Geraet zum behandeln von dentalen werkstoffen |
| US4460821A (en) * | 1982-05-25 | 1984-07-17 | Radiant Technology Corporation | Infrared furnace with muffle |
| US4455319A (en) * | 1982-07-06 | 1984-06-19 | Toastmaster, Inc. | Method of effecting long wavelength radiation cooking |
| US4556783A (en) * | 1983-11-14 | 1985-12-03 | Trinity Industrial Corporation | Heat welding apparatus |
| BE901604A (fr) * | 1985-01-29 | 1985-05-17 | Clerck Jean Paul De | Procede de polymerisation de resines et installation pour la mise en oeuvre de ce procede. |
| IT1224633B (it) * | 1988-06-10 | 1990-10-04 | Instrumentation Lab Spa | Dispositivo di riscaldamento termostatazione di contenitori per campioni biologici. |
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