JPS61125580A - 遠心乾燥機 - Google Patents

遠心乾燥機

Info

Publication number
JPS61125580A
JPS61125580A JP24526284A JP24526284A JPS61125580A JP S61125580 A JPS61125580 A JP S61125580A JP 24526284 A JP24526284 A JP 24526284A JP 24526284 A JP24526284 A JP 24526284A JP S61125580 A JPS61125580 A JP S61125580A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
centrifugal
centrifugal dryer
lid
dryer
air
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP24526284A
Other languages
English (en)
Inventor
早志 正信
池田 達生
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Kyushu Ltd
Original Assignee
NEC Kyushu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Kyushu Ltd filed Critical NEC Kyushu Ltd
Priority to JP24526284A priority Critical patent/JPS61125580A/ja
Publication of JPS61125580A publication Critical patent/JPS61125580A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Drying Of Solid Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は遠心力を利用して、乾燥処理上行なう事のでき
る装置tVcpAするものである。
従来遠心乾燥機は密封状態での乾燥を行なっていたため
装置内部での空気の流れが悪く完全に乾燥してしまう為
にはかなりの時間を要していた。
この時間から遠心乾燥機の処理能力が決定される事が多
く遠心乾燥機の処理能力を上げる事は乾燥前の装置の処
理能力もあがる事につながる。又乾燥不十分の状態で次
工程に送らnると、特に半導体製造工程では感光性樹脂
の密着不良を誘発し、エッチフグ処理時に密着不良によ
るオーバーエッチを発生し、バター/形成不良の原因と
なりたり、又醸化処理・気相成長工程では膜厚が不均一
になったりしでいた。更に、空気の流れが悪いために乾
燥機底部に付着したゴミが舞い上)乾燥中の半導体基板
に付着し、後工程でゴミが原因となるバター7形成不良
を誘発したりして、遠心乾燥機の状態が半導体装置の歩
留を左右する事もしはしはあった。
この発明の遠心乾燥機は係る問題点を解決し乾燥が速く
、ゴミの少ない遠心乾燥機を提供する事VCおる。
この発明の遠心乾燥機は水洗処理等を施した物体を遠心
力を利用する事により乾燥する事のできる装置において
蓋中心部が開孔しており、その廻りに装置内部の空気を
外へと逃がす様にラセン状の筒を有している事を特徴と
している。
次にこの発明の一実施例につき図を用いて説明する。
従来の遠心乾燥機は、第1図に示されるようにU字型の
容器IKガスを噴出できる管2を配置した蓋3を有し、
乾燥すべき物体を入れるバスケット部4とバスケット部
4の固定された筒状の枠5゜更に該筒状の枠5を回転さ
せるための固定軸6及びモーター7t−有する。
バスケットg4に入れられた乾燥すべき物体は蓋3が閉
まると同時に高速回転処理とガス管2からのガスの噴出
により乾燥される。遠心力によりて飛ばさn九水分は排
水管8を通って排水される。
これに対し本実施例の遠心乾燥機は第2図BVC示すよ
うにモータ一部9に接続された回転軸10゜該回転軸1
0Vc固定された同筒形の枠11と乾燥すべき物体を入
れられるバスケット部12t−有しており、上部の蓋1
3は中央部に穴が開孔しておりそこから取り入れられた
空気を外へ逃げだすようなラセン状の筒金同時に有して
いることを特徴としている。高速回転によって飛ばされ
た水分は側壁141C当たシ下部分のすり鉢状の容器に
落とされ排出される構造である。ここで従来の遠心乾燥
機(第1図)は、遠心乾燥機内の空気の流れが点線17
の様な流れを示し物体の乾燥状態が非常に悪い。又装置
底部に付着しているゴミを巻き上げ、乾燥すべき物体に
付着させ悪影響を及ぼす事もあり九。
即ち本実施例によれば蓋13に空気の出入りする大きな
穴及び筒を用いた事により、蓋13の穴19からの空気
の流れは第2図B、点線17に示すよつな流れとなり新
鮮な空気が常に取り入れられる為、乾燥時間が約1/2
 Vc短縮でき処理能力向上につながった。又遠心乾燥
機内の空気の逆流によるゴミ付着も防止できるため特に
ゴミをきらう半導体装置製造において期待できる装置で
ある。
上述の実施例において穴の位置個数、形状が異なったと
しても空気の流れが同様の流れを示す方法であれば、同
時に効果が得られるのは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の遠心乾燥機を示す断面図である。 第2A@Bは本実施例の遠心乾燥機を示す上面図および
断面図である。 尚図において、1.14・・・・・・U字型容器、2・
・・・・・ガス管、3・・・・・・蓋、4.12・・・
・・・バスケット部、5.11・・・・・・バスケット
部を固定する枠、 6. t。 ・・・・・・回転軸、7.9・・・・・・モータ一部、
8.15・・・・・・排水管、13・・・・・・穴及び
排気管のついた蓋、16・・・・・・従来装置の空気の
流れ、17・・・・・・本実施例の空気の流れ、19・
・・・・・蓋13についた孔でわる。 第2V;!JA 第、2 凹B 手続補正書(方式) 1 事件の表示  昭和59年特 許城第245262
号2 発明の名称  遠心乾燥機 3 補正をする者 事件との関係   出 願 人 熊本県熊本市へ幡町100番地 九州日本電気株式会社 代表者  中 村    秀 4代理人 〒108 東京都港区芝五丁目371F8号住友三田ビ
ル6 補正の対象 願書の「特許出頴人」の欄と明細書の「図面の簡単な説
明」の欄。 L 補正の内容 fil  M書を添付atと差し替えます。 (2)明細書の第5頁第3行目に「第2A−Bは」とあ
るのを「第2図A−Bは」に訂正致します。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 液体の付着した物体を遠心力を利用する事により乾燥さ
    せる遠心乾燥機において、蓋中心部が開孔しており、そ
    の廻りに装置内部の空気を外へ逃がす様に筒を有してい
    る事を特徴とする遠心乾燥機。
JP24526284A 1984-11-20 1984-11-20 遠心乾燥機 Pending JPS61125580A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24526284A JPS61125580A (ja) 1984-11-20 1984-11-20 遠心乾燥機

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24526284A JPS61125580A (ja) 1984-11-20 1984-11-20 遠心乾燥機

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61125580A true JPS61125580A (ja) 1986-06-13

Family

ID=17131062

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24526284A Pending JPS61125580A (ja) 1984-11-20 1984-11-20 遠心乾燥機

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61125580A (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52135453A (en) * 1976-05-08 1977-11-12 Nec Corp Wafer dryer
JPS56149572A (en) * 1980-04-23 1981-11-19 Sogo Seiichiro Drain dryer

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52135453A (en) * 1976-05-08 1977-11-12 Nec Corp Wafer dryer
JPS56149572A (en) * 1980-04-23 1981-11-19 Sogo Seiichiro Drain dryer

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004066212A (ja) 洗浄乾燥装置
JPS61125580A (ja) 遠心乾燥機
JP2002130942A (ja) 乾燥方法及び装置
JPS60122878A (ja) 遠心乾燥機
JPH07331470A (ja) 洗浄脱液装置
JPH0745958Y2 (ja) 半導体材料の水切乾燥装置
JP3140864B2 (ja) 脱水乾燥装置
JP2000005637A (ja) 高速分離装置
JP2922194B1 (ja) 洗浄物の乾燥装置
JPS6253942B2 (ja)
JPH10160346A (ja) 乾燥装置
JPH07201798A (ja) 枚葉基板処理方法およびその装置
JPS59115967A (ja) 回転形乾燥機
RU97115768A (ru) Система и способ переработки материалов
JP2593465B2 (ja) 半導体ウエーハの液処理装置
JP2514249Y2 (ja) 自動現像機内の渡りロ―ラ洗浄装置
JP2001118778A (ja) 薬液処理方法及び装置
JPH08191057A (ja) スピン乾燥方法およびその装置
JPS62286047A (ja) 現像廃液処理装置
JPS6361040B2 (ja)
JP3260523B2 (ja) 海苔製造装置
JPS5831534A (ja) 半導体基体の乾燥装置
JPS60259167A (ja) 海苔製造機における海苔不純物の吸着除去装置
JPH0423325A (ja) 半導体基板乾燥方法及び装置
JPS61208048A (ja) 写真感光材料の自動現像装置