JPS61121735U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS61121735U JPS61121735U JP499385U JP499385U JPS61121735U JP S61121735 U JPS61121735 U JP S61121735U JP 499385 U JP499385 U JP 499385U JP 499385 U JP499385 U JP 499385U JP S61121735 U JPS61121735 U JP S61121735U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- main body
- reaction chamber
- central axis
- around
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 1
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- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Description
第１図Ａ及びＢはこの考案の分離型プラズマＣ
ＶＤ装置の第一実施例を説明するための略図的横
断面図及び一部切欠略図的正面図、第２図はこの
考案の分離型プラズマＣＶＤ装置の第二実施例を
説明するための第１図Ａと同様な横断面図、第３
図は従来の分離型プラズマＣＶＤ装置の構造を説
明するための線図である。 ２０……反応室本体、２１，２１ａ，２１ｂ，
２１ｃ……第一電極、２２……モータ、２３，２
３ａ，２３ｂ，２３ｃ……仕切板、２４，２４ａ
，２４ｂ，２４ｃ……第二電極、２５……高周波
電源、２６……原料ガス導入口、２７……排気口
、２８，２９……蓋体、３０……基板、３１……
ヒータ、Ｏ……中心軸、，，……反応室。
ＶＤ装置の第一実施例を説明するための略図的横
断面図及び一部切欠略図的正面図、第２図はこの
考案の分離型プラズマＣＶＤ装置の第二実施例を
説明するための第１図Ａと同様な横断面図、第３
図は従来の分離型プラズマＣＶＤ装置の構造を説
明するための線図である。 ２０……反応室本体、２１，２１ａ，２１ｂ，
２１ｃ……第一電極、２２……モータ、２３，２
３ａ，２３ｂ，２３ｃ……仕切板、２４，２４ａ
，２４ｂ，２４ｃ……第二電極、２５……高周波
電源、２６……原料ガス導入口、２７……排気口
、２８，２９……蓋体、３０……基板、３１……
ヒータ、Ｏ……中心軸、，，……反応室。
Claims (1)
- 反応室本体と、該本体の中心軸に沿つてその周
囲に設けられ、該中心軸の回りに回転しかつ停止
出来る第一電極と、該本体及び第一電極間に、該
中心軸からの放射方向に、複数個離間して設けら
れ該本体及び第一電極と組となつて互いに分離し
た個別の反応室を形成するための仕切板と、各反
応室内に前記第一電極と対向して一個づつ設けら
れ、高周波電源に接続される第二電極と、各反応
室毎にそれぞれ設けられた原料ガス導入口及び排
気口とを具えることを特徴とする分離型プラズマ
ＣＶＤ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP499385U JPS61121735U (ja) | 1985-01-18 | 1985-01-18 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP499385U JPS61121735U (ja) | 1985-01-18 | 1985-01-18 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61121735U true JPS61121735U (ja) | 1986-07-31 |
Family
ID=30481098
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP499385U Pending JPS61121735U (ja) | 1985-01-18 | 1985-01-18 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61121735U (ja) |
-
1985
- 1985-01-18 JP JP499385U patent/JPS61121735U/ja active Pending