JPS61119664A - プラズマ溶射方法 - Google Patents

プラズマ溶射方法

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Publication number
JPS61119664A
JPS61119664A JP59241814A JP24181484A JPS61119664A JP S61119664 A JPS61119664 A JP S61119664A JP 59241814 A JP59241814 A JP 59241814A JP 24181484 A JP24181484 A JP 24181484A JP S61119664 A JPS61119664 A JP S61119664A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nozzle
plasma
electrode
excitation coil
work piece
Prior art date
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Pending
Application number
JP59241814A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuichi Nakamura
祐一 中村
Kuninobu Ichikawa
市川 国延
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP59241814A priority Critical patent/JPS61119664A/ja
Publication of JPS61119664A publication Critical patent/JPS61119664A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/12Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
    • C23C4/134Plasma spraying

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はプラズマ溶射方法の改良に関する。
〔従来の技術〕
従来行なわれている一般的なプラズマ溶射方法は、アル
ゴンやヘリウム等の作動ガスをアーク熱をエネルギー源
として電離し、プラズマ化してノズルから吹出すと共に
溶射すべき粉体をこの高温プラズマ流に巻込み、溶融状
態で加工物表面に高速で吹付けるコーティング法である
上記のプラズマ溶射方法によれば、比較的容易に溶射層
を得ることができる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、従来のプラズマ溶射方法では溶射層の内部に細
かな空洞や酸化物の巻込み等の欠陥を生じ、溶射層の亀
裂や剥離をもたらすという問題があった。
本発明は従来のプラズマ溶射方法におけるこの問題を解
消し、溶射強度が大きく且つ欠陥の無い溶射層を形成す
ることを技術的課題としてなされたものである。
〔問題点を解決するための手段〕
上記の課題を達成するために、本発明ではプラズマ溶射
バーナのタングステン電極周囲にに励磁コイルを巻回し
、プラズマ流中に強い交番磁界を形成して溶射コーティ
ング層に作用させながらプラズマ溶射を行なうこととし
た。
(作用〕 本発明によるプラズマ溶射方法では、溶融溶射体に流れ
る溶射電流と強磁場との相互作用により溶射体に電磁気
力が発生する。しかもこの電磁気力は周期的に反転する
から、溶射体が1ヱ動されてm密な溶射層が形成される
C実施例〕 第1図は本発明の実施実施に用いるプラズマ溶射バーナ
の一例を示す断面図である。同図において、1はタング
ステン′i7i橋である。該タングステンN極はバーナ
の中央に配置され、その左端はアーク放電部、右端は負
穫のターミナル部1aになっている。このタングステン
電極1のアーク放電部側を包囲するようにノズル2が配
置され、該ノズル2の左端には正極のターミナル2aが
設けられている。また、ノズル2の外側にはノズルカバ
ー3及びノズル押えナツト4が設けられている。
ノズルカバー3にはノズルを冷却するための冷却水人口
3a及び冷却水出口3b並びに作動ガス入口3Cが設け
られ、ノズル押えナツト4には溶射粉体供給口5が設け
られている。他方、タングステン電極1の右側外周には
励磁コイル6が巻回されており、該励磁コイル6は端子
6a、6bを有している。励磁コイル6の内側には絶縁
部7が配置され、更にその内側にはタングステン電極1
を冷却するための冷却水通路が形成されていて、水入ロ
アa及び水出ロアbが設けられている。なお、l1il
J磁コイル6により強磁界を得るため、タングステン電
極]は図示のように長くできている。
次に、上記第1図のプラズマ溶射バーナを用いて本発明
を実施する方法につき、第2図〜第5図を参照して説明
する。
第2図に示すように、タングステン電極1の負極1aに
負電圧、ノズル2の正極ターミナル2a及び被加工物1
oに正電圧を印加すると、タングステンlff1lの先
端部とノズル2との間にアーク放電が発生する。そこで
、ノズルカバー3の作動ガス入口3cからアルゴンやヘ
リウム等の作動ガスを圧送すると、該作動ガスは前記ア
ーク放電熱により電離し、プラズマ流2oとなってノズ
ル3から噴出し、被加工物1oに向う。このプラズマ流
20の高温ガスに溶射粉体を巻込ませると、粉体は瞬時
に溶融して被加工物1oに衡突する。ここで励磁コイル
6に第5図に示すような交番電流を流すと、プラズマ流
20に沿って強い磁界30が発生する。この強磁界30
と溶融溶射体に流れる溶射電流との相互作用の結果、溶
射体には第3図A(A>(B)に示すような電磁気力が
発生する。従って、この電磁気力を前記交番電流により
同図(A)(81間で周期的に反転させると、溶射体は
電磁気力により揺動されることになる。なお、第3図(
A)(8)は夫々第2図中の矢印Aで示す方向から見た
図である。
ところで、プラズマ溶射方法においては、第4図に示す
ように溶射粉体41が溶融状態で被加工物10の表面に
高速で面突することにより、被加工物上に溶射体42が
積層されていく。その際、積層された溶射体42の境界
面では空洞43が形成されたり、或いは酸化物44の巻
込みが発生し易く、これがプラズマ溶射の欠点であるこ
とは既述した通りである。しかし、上述した実施例のプ
ラズマ溶射方法では、電磁気力の作用にょる溶射体の揺
動作用と後から次々に衝突して来る粉体の圧縮作用とが
相乗的に作用し、空洞を押し潰し且つ有害酸化物の巻込
みを防止する。その結果、無欠陥で高品質の緻密な溶射
層を形成することができる。
また、上述したところから明らかなように、上記のプラ
ズマ溶射方法は従来のプラズマ溶射バーナのタングステ
ン電極に交番励磁コイルを付加して用いるだけで簡易に
実施でき、何等特殊な装置を必要としないという優れた
利点を有している。
〔発明の効果〕
以上詳述したように、本発明のプラズマ溶射によれば溶
射強度が強く、欠陥の無いち密な溶射層を形成できる等
、顕著な効果が得られるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のプラズマ溶射方法の実施に用いる溶射
バーナを示す断面図、第2図〜第5図は第1図の溶射バ
ーナを用いて実施した本発明のプラズマ溶射方法の説明
図である。 1・・・タングステン電極、1a・・・負極ターミナル
、2・・・ノズル、2a・・・正極ターミナル、3・・
・ノズルカバー、3a・・・冷却水入口、3b・・・冷
却水出口、3C・・・作動ガス入口、4・・・ノズル押
えナツト、5・・・溶射粉体供給口、6・・・励磁コイ
ル、7・・・絶縁部、7a・・・冷却水入口、7b・・
・冷却水出口、10・・・被加工物、20・・・プラズ
マ流、30・・・磁界、41・・・溶射粉体、42・・
・溶射体、43・・・空洞、44・・・酸化物 出願人復代理人 弁理士 鈴江武彦 第2図 層 tス

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. タングステン電極の外周に励磁コイルを設けたプラズマ
    溶射バーナを用い、前記励磁コイルに交番電流を流して
    プラズマ流に強磁場を相乗させることにより、上記反転
    電磁気力を溶射体に作用させて揺動作用を与えるように
    したこと特徴とするプラズマ溶射方法。
JP59241814A 1984-11-16 1984-11-16 プラズマ溶射方法 Pending JPS61119664A (ja)

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