JPS61294882A - ガスレ−ザ発振器 - Google Patents

ガスレ−ザ発振器

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JPS61294882A
JPS61294882A JP13595585A JP13595585A JPS61294882A JP S61294882 A JPS61294882 A JP S61294882A JP 13595585 A JP13595585 A JP 13595585A JP 13595585 A JP13595585 A JP 13595585A JP S61294882 A JPS61294882 A JP S61294882A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
discharge tube
power supply
discharge
silver
laser oscillator
Prior art date
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Pending
Application number
JP13595585A
Other languages
English (en)
Inventor
Akihiro Otani
昭博 大谷
Eikichi Hayashi
林 栄吉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP13595585A priority Critical patent/JPS61294882A/ja
Publication of JPS61294882A publication Critical patent/JPS61294882A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • H01S3/0975Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser using inductive or capacitive excitation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/038Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
    • H01S3/0385Shape
    • H01S3/0387Helical shape

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、レーザ発振器特に、その放電管に密着せし
められる給1!電極の密着構造に関するものである。
〔従来の技術〕
第2図及び第6図は例えば特開昭56−138976号
公報に示嘔れた従来のCO,軸流れ型レーザ発振器を示
すものである。図中(1)、 (2)は共振器ミラー、
(3)は放電管、(5)はプロア、(12a) 、 (
12b)は放電管(3)に密着せしめられた給電電極、
(4)はレーザ媒質ガス冷却の為のガス冷却器、a4は
レーザ媒質ガスの流れを示している。放電管(3)は空
冷の場合と水冷の場合とがあり、水冷の場合!/cけ第
4図に示すように、放電管(3)の外側にチューブ状の
水冷ジャケットGカが装置され、放電管(3)と水冷ジ
ャケットOi)との間を冷却水(至)が流れるようにな
されている。
そして、従来の装置において、給電電極(12a)。
(12b)はステンレス等の金属を放電管に溶射あるい
は、有機材と含む銀の導電性ペイントにより装着せしめ
ていた。
欠に動作について説明する。放電管(3)内部にはレー
ザ媒質ガスα尋が流れており、放電管(3)外側の相対
する給1!電極(12a)、 (12b) VC電源(
3)よりの電力を投入することにより放電管(3)内に
放電が生じ、レーザ発振に必要なレーザ媒質ガスの励起
が行なわれる。電源より放電入力が給電電極(3)に電
力を投入せしめた時に、給電電極(3)内に気泡があっ
たり、あるいけ放電管(3)と給電電極(12a)、 
(12b)の間の密着性が悪いと、該気泡あるいは空ゲ
キ部において極部的な放電が起り、熱消費による効率の
低下、さらには極部的な熱発生の為セラミック製放電管
が破損する可能性が高まることが判っている。これは、
たとえ−水冷放電管であっても水の水蒸気化により前気
空ゲキが気体状態となり前述現象が発生する。
特に、有機材を含む銀の導甫、性ペイントは、放電入力
によりその有機成分がガス化し、給電電極内に空ゲキ(
ボイド)を生じる。また、溶射法においては、給電電極
と放電管は主に機械的摩擦により結合しており、その間
には多くの空ゲキがあり、また溶射金属粒子間の隙間に
も少くとも1%程度以上の気孔が生じる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来のレーザ発振器の放電管は以上のよう・に給[1!
極を装着されているので、給電電極(金属)内部あるい
け給電電極と放電管の間の間隙におけるボイド(気孔)
において、極部放電が生じ、電源効率が低下し、しかも
極部熱発生により放電管の耐久性が低下するという問題
点があった。
この発明は上記のような問題点を解消する之めになされ
たもので、電源効率の良いしかも放電管の耐久性が向上
したレーザ発振器の放電管を得ることを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明に係るレーザ発振器の放電管は、給電電極を銀
鏡反応によりガラス系あるいはセラミック製の放電管に
装置することにより、該放電管と該給1!電極の間の間
隙及び給電電極内部の気孔を無くしたものである。
〔作用〕
この発明におけるレーザ発振器の放電管は、上記の間隙
及び気孔を無くしたことにより極所放電が阻止され、こ
れにより、電源効率を向上し、また極所熱発生による前
記放電管の耐久性を向上せしめる。
〔発明の実施例〕
以下この発明における一実施例を図について説明する。
装置の基本構成は従来装置(第2図及び第3図)と同一
であり、その説明は省略する。
給電電極(2)は放電管(3)にいわゆる銀鏡反応によ
って密着させられている。ここで、銀鏡反応とは銀イオ
ンを含む溶液を用い化学反応により銀イオンを金属銀と
して析出させ、溶液中に存在する団体表面に銀の襟膜を
形成するもので、前記放電管の給電電極装着部分以外の
部分をマスキングして銀鏡反応処理を行えば、該給電電
極形状に金属銀の層が形成される。銀鏡反応によれば、
化学的析出反応の為、放電管との間には気孔等の空隙が
存在せず、むしろ放電管狭面の凹凸面の内にまで金!@
銀が入りこみ、非常に密着性が高い。しかも、析出した
金属銀内部には気孔は存在せず非常に気孔率の低い給電
電極体ができる。
さらに密着性を向上させる為には1.第1図に示すよう
に放電管上の銀鏡反応による銀コーテイングをする部分
に、前処理としてサンドブラストあるいはショット仕上
げあるいけドライホーニング等の茂面荒し仕上げをする
とよい(荒仕上げ加工部33)。また、端部からはくり
しないように前記部分のみ背仕上げ(@仕上げ加工部6
4)をするのもよい方法である。
なお上記実施例では細流型SD放電方式CO,ガスレー
ザについて説明したが、レーザ媒質ガスはこれに限られ
ない。また、SD放電励起方式でなくともよく、例えば
DC放電方式でも良いことはもちろんである。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明によ、れば、レーザ発振器の放
電管に給電電極な銀鏡反応により密着させたので、放電
管と給電電極間および給電電極内の気孔のないものが得
られることにより、放電効率が良く、しかも前記気孔に
おける極部的(ボイド)放電により生じる熱発生に起因
する放電管の破壊のないレーザ発振器の得られる効果が
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明Vこおける放電管の実施例のう゛ ち
、銀鏡反応処理前に前処理を行ったものの断面図、第2
図及び第6図は従来のレーザ発振器概要図及びその断面
図、第4図は水冷式放電管を示す図である。 (1)、(2)は共振器ミラー、(3)は放電管、(6
)は給電電極、(ト)は電源、α4ijレーザ媒質ガス
、(至)は荒仕上げ加工部、(ロ)は酵加工部。 代理人 弁理士 佐 藤 正 年 第1図   第2図 33;表圓龍仕趙X加工部 34: 溝 方ロ 工部 第3図   第4図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)共振器を構成する複数のミラーとレーザ媒質ガス
    励起の為の各種ガラス質もしくは各種セラミック製のチ
    ューブ状の放電管と、放電電力を投入する電源と、前記
    チューブ状放電管に前記電源からの電力給電する給電電
    極とを有する軸流れ型ガスレーザ発振器において、前記
    給電電極は銀鏡反応によつて前記放電管に密着加工せし
    められた事を特徴とするガスレーザ発振器。
  2. (2)サンドブラスト、サンドショット、ドライホーニ
    ングいづれかの前処理がなされた放電管に、前記給電電
    極が密着加工されたことを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載のガスレーザ発振器。
JP13595585A 1985-06-24 1985-06-24 ガスレ−ザ発振器 Pending JPS61294882A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1987004869A1 (en) * 1986-01-29 1987-08-13 Fanuc Ltd Coaxial co2 laser utilizing high-frequency excitation
WO1988009577A1 (en) * 1987-05-28 1988-12-01 Fanuc Ltd Laser oscillator
US6334902B1 (en) * 1997-09-24 2002-01-01 Interuniversitair Microelektronica Centrum (Imec) Method and apparatus for removing a liquid from a surface
WO2008131744A2 (de) * 2007-04-27 2008-11-06 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Laserentladungsrohr fur einen gaslaser und herstellungsverfahren dafür
US7867565B2 (en) 2003-06-30 2011-01-11 Imec Method for coating substrates

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1987004869A1 (en) * 1986-01-29 1987-08-13 Fanuc Ltd Coaxial co2 laser utilizing high-frequency excitation
US4802184A (en) * 1986-01-29 1989-01-31 Fanuc Ltd High frequency discharge excited coaxial type CO2 laser
WO1988009577A1 (en) * 1987-05-28 1988-12-01 Fanuc Ltd Laser oscillator
US6334902B1 (en) * 1997-09-24 2002-01-01 Interuniversitair Microelektronica Centrum (Imec) Method and apparatus for removing a liquid from a surface
US7867565B2 (en) 2003-06-30 2011-01-11 Imec Method for coating substrates
WO2008131744A2 (de) * 2007-04-27 2008-11-06 Trumpf Laser- Und Systemtechnik Gmbh Laserentladungsrohr fur einen gaslaser und herstellungsverfahren dafür
WO2008131744A3 (de) * 2007-04-27 2009-07-09 Trumpf Laser & Systemtechnik Laserentladungsrohr fur einen gaslaser und herstellungsverfahren dafür

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