KR970017992A - 열cvd장치의 클리닝용 전극유니트 - Google Patents
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Abstract
열(熱)CVD장치의 전극유니트는, 현장 클리닝공정에 있어서 클리닝용 방전을 생성하기 위하여 사용된다. 전극유니트는, 고주파전력공급기구에 접속되는 기판지지체 및 실드부재와, 어스된 가스공급부로 구성되고, 또한 가스공급부에 배설된 보조전극을 구비한다. 열CVD장치에서는, 성막공정시, 가스공급부로부터 반응가스를 공급하고, 기판의 앞면 공간에 반응가스의 여기(勵起)상태를 발생하여 기판표면에 박막을 형성한다. 현장 클리닝공정은 정기적으로 실행된다. 당해 클리닝 공정에서는, 가스공급부로부터 클리닝가스를 공급하고, 클리닝용 방전을 발생하여 기판지지체와 실드부재의 노출면에 부착한 막을 제거한다. 보조전극은, 부착막의 주위의 공간에 클리닝용 방전을 집중시킨다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 관한 전극유니트의 제1실시예의 구성을 나타낸 종단면도.
Claims (10)
- 반응용기와, 상기 반응용기의 내부를 배기하는 배기수단과, 상기 반응용기내에 기판을 배치하는 기판지지체와, 상기 기판지지체에 열을 가하는 가열수단과, 상기 기판지지체의 주위에 배치되고, 퍼지가스를 상기 기판의 주위에 분출하기 위한 퍼지가스통로를 형성하는 실드부재와, 상기 퍼지가스통로에 상기 퍼지가스를 공급하는 퍼지가스공급수단과, 상기 반응용기내에 반응가스 또는 클리닝가스를 공급하는 가스공급부를 구비하고, 상기 가스공급부로부터 상기 반응가스를 공급하고, 상기 기판의 앞면 공간에 상기 반응가스의 여기(勅起)상태를 발생하여 상기 기판의 표면에 박막을 형성하는 동시에, 정기적으로 상기 가스공급부로부터 상기 클리닝가스를 공급하고, 클리닝용 방전을 발생하여 상기 기판지지체와 상기 실드부재에 부착한 막을 제거하는 열CVD장치에 있어서, 상기 기판지지체 및 상기 실드부재는 고주파전력공급기구에 접속되고, 상기 가스공급부는 어스부에 접속되고, 상기 가스공급부에, 상기 막의 주위의 공간에 상기 클리닝용 방전을 집중하여 발생시키는 보조전극을 배설하는 것을 특징으로 하는 열CVD장치의 클리닝용 전극유니트.
- 청구항 1에 있어서, 상기 보조전극은, 상기 가스공급부에 부착되어 상기 기판의 방향에 향하여 연설된 원통부와, 이 원통부의 선단개구부의 주위에지에 배설된 콜러부로 이루어지는 것을 특징으로 하는 열CVD장치의 클리닝용 전극유니트.
- 청구항 1에 있어서, 상기 보조전극의 재료가 내식성 금속재료인 것을 특징으로 하는 열CVD장치의 클리닝용 전극유니트.
- 청구항 3에 있어서, 상기 보조전극의 상기 원통부의 반경이 상기 기판의 반경 이하인 것을 특징으로 하는 열CVD장치의 클리닝용 전극유니트.
- 청구항 2에 있어서, 상기 보조전극의 상기 콜러부의 경방향의 길이는, 상기 기판지지체 및 상기 실드부재에 부착한 상기 막의 경방향의 부착범위 이상의 길이인 것을 특징으로 하는 열CVD장치의 클리닝용 전극유니트.
- 청구항 1에 있어서, 상기 보조전극은, 상기 막에 대향하는 링부와, 이 링부를 지지하는 지주(支柱)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 열CVD장치의 클리닝용 전극유니트.
- 청구항 6에 있어서, 상기 링부와 상기 지주의 내부에, 냉각수가 흐르는 냉각 통로가 배설되는 것을 특징으로 하는 열CVD장치의 클리닝용 전극유니트.
- 청구항 6에 있어서, 상기 링부와 상기 지주의 재료가 내식성 금속재료인 것을 특징으로 하는 열CVD장치의 클리닝용 전극유니트.
- 청구항 6에 있어서, 상기 링부의 내경이 상기 기판의 반경 이하인 것을 특징으로 하는 열CVD장치의 클리닝용 전극유니트.
- 청구항 6에 있어서, 상기 링부는 경방향의 길이는, 상기 기판지지체 및 상기 실드부재에 부착한 상기 막의 경방향의 부착범위 이상의 길이인 것을 특징으로 하는 열CVD장치의 클리닝용 전극유니트.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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