JPS61117724A - 磁気記録体用基板 - Google Patents

磁気記録体用基板

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Publication number
JPS61117724A
JPS61117724A JP23835384A JP23835384A JPS61117724A JP S61117724 A JPS61117724 A JP S61117724A JP 23835384 A JP23835384 A JP 23835384A JP 23835384 A JP23835384 A JP 23835384A JP S61117724 A JPS61117724 A JP S61117724A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
base film
substrate
thermal expansion
base
Prior art date
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Pending
Application number
JP23835384A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroaki Okudaira
奥平 弘明
Hitoshi Oka
岡 齊
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS61117724A publication Critical patent/JPS61117724A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は磁気記憶装置に用いられる磁気ディスクなどの
磁気記録体用基板、特にクラックおよびふくれの発生防
止に好適な磁気記録体■基板に関するものである。
〔発明の背景〕
近年、磁気ディスクの高記録密度化をはかるために、連
続薄膜媒体を用いた磁気ディスクの開発が進められてい
る。この連続薄膜媒体の形成法としては、一般にメッキ
法とスパッタ法が広く知られている。
上記メッキ法による従来の磁気記録体用基板の構成を第
1図忙ついて説明する。
基体上は非磁性物質1例えば圧延後に切削加工されたア
ルミまたはアルミ合金からなる円板であり、この基体l
上く下地膜2、例えばニンケルーリン合金のメッキ膜を
形成し、この下地膜2の表面を機械的手段〈より研磨し
て平担で。
かつ平滑忙する。ついで、前記下地膜2上にコバルトー
ニッケルーリ/合金などの磁性媒体メッキ膜3を形威し
、このメッキ膜3とにこれを被覆する保護膜4を形成す
ることにより、磁気記録体用基板が構成される。
ところが、基体Iのアルミ材料と下地膜2のニッケルー
リン合金材料の双方の熱膨張率の差−が大きい場合には
、前記保護膜4を形成する工程で加熱されたときに、熱
膨張量の差によって下地膜2にクラックおよびふくれが
発生する恐れがある。このため、その下地膜2を肉厚に
形成することができないばかりでなく、下地膜2の材料
の選定範囲が制限される不都合を生ずる。
上記下地膜に関する先行技術1例えば特開昭56−51
024号公報には、下地膜の組成が平滑性であり、かつ
突起の減少に有益であることが記載されている。しかし
、この先行技術は基体と下地膜との熱膨張率の整合の問
題を認識していない不具合がある。
〔発明の目的〕
本発明は上記のような問題点を屏消し、加熱工程くおい
てもクラックおよびふくれを発生しない磁気記録体用基
板を提供することを目的とするものである。
〔発明の概要〕
本発明は上記目的を達成するために、非磁物質からなる
基体上に非磁性物質からなる下地膜を形成し、この下地
膜上に磁性媒体膜および保護潤滑膜を順次く形成してな
る磁気記録体において、前記基体と下地膜との間にこの
双方の物質の画然膨張率の中間の熱膨張率を有する物質
からなる緩衝膜を介設したことを特徴とする。
〔発明の実施例〕
以下1本発明の一実施例を図面について説明する。
f42図において、1はアルミ合金板をドーナツ状に打
抜き、その両面を平担に、かつ平滑に仕上げてなる基体
で、このアルミ製基体1の上面に脱脂と亜鉛置換を施し
た後、メッキにより肉厚30μmの銅製緩衝膜5が前記
基体1上に形成されている。2はその緩衝膜5上に無電
解メッキにより、肉厚が約40μ扉程度に形成されたニ
ッケルーリン合金からなる下地膜である。3は下地膜2
の表面を機械研磨により、その表面粗さが約0.01μ
扉程度になるまで平担く、かつ平滑に仕上げた後、硫酸
ニッケル、硫酸コバルトおよび次亜リン酸ナトリウムを
主成分とするメッキ液を用いて、肉厚が0.07μm程
度に形成されたコバA/トーニツケルーリン合金からな
る磁性媒体で、この磁性媒体3は保護潤滑膜4により被
覆されている。
上記のように基体1と下地J12との間に介設された緩
衝膜5は、その熱膨張率が前記基体1の熱膨張率23.
9 X 10=と下地膜2の熱膨張率13×10−6の
はy中間の値を有するようく設定されている。
本実施例は上記のような構成からなり、緩衝膜5の熱膨
張率を基体1および下地膜2の双方の熱膨張率の中間の
値に設定したため、保護潤滑膜4の形成時における25
0℃で1時間の加熱において、昇温と冷却の各時間を3
0分に設定しても下地膜2にクラックおよびふくれの発
生する恐れは全くなかった。
これに対し先行技術のよう〈緩衝膜5を設けない場合に
、下地膜2にクラックおよびふ(れが発生するのを防止
するため忙は、昇温と冷却の各時間を2時間以上に設定
しなければならない不都合があった。
本実施例では上記のように、緩衝膜5を鋼により構成し
たが本発明はこれに限定されず、熱膨張率が18.4 
X io=の黄銅および熱膨張率が17BX10=の青
銅でも同様の効果をうろことができる。
一般的に基体1と下地膜2の熱膨張率をそれぞれαl、
α2とすれば、緩衝膜5の熱膨張率α3は下記(1)式
に示す値、すなわちαlとα2との中間の値であること
が望ましい。
α3=α1+α/2(たyしα=α2−α1) ・・・
・・・(1)ところが、と記α3が(α1+α/2)±
0.2αの範囲にあれば、同様の効果をうろことが可能
である。
一方、緩衝膜5の肉厚は下地膜2の肉厚の図から2倍が
好ましく、1/3以下では緩衝膜としての効果が小さく
、また2倍以上にしてもその効果は余り増大しない。
〔発明の効果〕 以と説明したように1本発明によれば基体と下地膜との
熱膨張率の差を緩衝膜が吸収するので5加熱と冷却忙よ
り下地膜にクラックおよびふくれが発生するのを防止す
るばかりでなく。
加熱工程における昇温と冷却の各時間を大幅に短縮する
ことができる。また、加熱温度を高温にすることが可能
となるため、保護潤滑膜の材料の選定および形成条件の
範囲の拡大により。
保護潤滑膜の信頼性を向上させろことができる。
さら(、下地膜を肉厚く形成することが可能となるから
、磁気ディスクの信頼性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1因は従来の磁気記録体用基板の構成を示す断面図、
第2因は本発明の磁気記録体用基板の一実施例の構成を
示す断面図である。 1・・・基体、       2・・・下地膜5・・・
緩衝膜。 、/″′−:” 、、′

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、非磁性物質からなる基体上に非磁性物質からなる下
    地膜を形成し、この下地膜上に磁性媒体膜および保護潤
    滑膜を順次に形成してなる磁気記録体において、前記基
    体と下地膜との間に、この双方の物質の両熱膨張率の中
    間の熱膨張率を有する物質からなる緩衝膜を介設したこ
    とを特徴とする磁気記録体用基板。 2、上記緩衝膜の熱膨張率を、基体と下地膜の双方の熱
    膨張率の中間の値に設定したことを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載の磁気記録体用基板。
JP23835384A 1984-11-14 1984-11-14 磁気記録体用基板 Pending JPS61117724A (ja)

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JP23835384A JPS61117724A (ja) 1984-11-14 1984-11-14 磁気記録体用基板

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JP23835384A JPS61117724A (ja) 1984-11-14 1984-11-14 磁気記録体用基板

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JPS61117724A true JPS61117724A (ja) 1986-06-05

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ID=17028930

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JP23835384A Pending JPS61117724A (ja) 1984-11-14 1984-11-14 磁気記録体用基板

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