JPH02143916A - アルミニウム磁気ディスク基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、コンピュータやその周辺機器において記憶
媒体として用いられる磁気ディスクを構成するためのア
ルミニウム磁気ディスク基板、特に磁性膜をスパッタリ
ング法等により薄膜状に付着形成せしめた形式の磁気デ
ィスクに好適な磁気ディスク基板に関する。

従来の技術 昨今、高記録密度化を可能とする磁気ディスクとじて、
アルミニウム製のディスク基板の表面にスパッタリング
法等により磁性媒体を薄膜状に付着せしめた形式のもの
が提供されている。

このようなアルミニウム磁気ディスクでは、表面硬度の
向上、磁性膜との密着性の向上等を目的として、一般に
、磁性膜の付着処理前にアルミニウム基材表面に下地皮
膜を被覆形成し、この下地皮膜を介して磁性膜を被覆す
ることが行われている。しかも、磁気ディスクの評価の
１つであるＣＳＳ　（Ｃｏｎｔａｃｔ　　５ｔａｒｔＳ
ｔｏｐ）特性を向上させるため、形成した下地皮膜の表
面を適度に粗面化しておくことが行われている。

従来、上記のような下地皮膜としては、無電解Ｎ１−Ｐ
メツキ膜が一般に採用されており、また該皮膜表面の粗
面化は、皮膜表面にＡΩ２０３研磨テープによるテクス
チャリング加工を実施することによって行われていた。

ところが、下地皮膜がＮ１−Ｐメツキ膜では、約２００
℃以上の加熱により結晶化が進み磁性を有するようにな
ることから、磁気ディスクへの適用範囲が限られるとい
う欠点があり、このため最近ではＮ１−Ｐメツキ膜に代
わる下地皮膜として陽極酸化皮膜を採用したアルミニウ
ム磁気ディスク基板が提案されている。

発明が解決しようとする課題 しかるに、陽極酸化皮膜を形成したアルミニウム磁気デ
ィスク基板に、Ｃ８Ｓ特性改善のために従来と同様のへ
ρ２０３研磨テープによるテクスチャリング加工を行っ
ても、皮膜表面の凹凸が不規則となりＮ１−Ｐメツキ膜
の場合はどＣ８Ｓ特性の改善効果が得られないことが発
明者らの研究により判明した。

この発明は、かかる技術的背景に鑑みてなされたもので
あって、陽極酸化皮膜を形成した磁気ディスク基板であ
って、かっＣ８Ｓ特性を向上しうるアルミニウム磁気デ
ィスク基板の提供を目的とする。

課題を解決するための手段 上記目的を達成するために、発明者は鋭意研究の結果、
研磨テープによるテクスチャリング加工に代えて湿式エ
ツチング法を採用することでＣ８Ｓ特性を向上しうるこ
とを知見するとともに、この場合表面粗さを一定範囲に
規定することによりさらにＣ８Ｓ特性を改善しうろこと
を見出し、かかる知見に基いてこの発明を完成しえたも
のである。

即ちこの発明は、図面の符号を用いて示すと、アルミニ
ウム基材（２）の表面に陽極酸化皮膜（３）が形成され
るとともに、この陽極酸化皮膜（３）の表面が湿式エツ
チングにより表面粗さにおいてＲａ（中心線平均粗さ）
＝１０〜２００人に粗面化されてなることを特徴とする
アルミニウム磁気ディスク基板（１）を要旨とするもの
である。

アルミニウム基材（２）の組成は特に限定されるもので
はないが、好ましい組成のものとして純度９９．９９％
以上の高純度アルミニウムをベースとして、これに強化
元素であるＭｇを４〜５ｖｔ％程度添加含有せしめた合
金を用いるのが良い。もとよりＪＩＳ５０８６アルミニ
ウム合金を用いても良い。またアルミニウム基材の板厚
は、−殻内には１〜３＃程度に設定される。

アルミニウム基材（２）の表面に被覆された陽極酸化皮
膜（３）の種類は特に限定されないが、好ましくは蓚酸
法による陽極酸化処理によって形成される蓚酸皮膜とす
るのが良い。この理由は、蓚酸皮膜が他の陽極酸化皮膜
に較べ、耐熱性、硬度に優れているからである。蓚酸法
による処理条件の一例として、液組成：１．５％、液温
：１５〜３０℃、電流密度：１．５Ａ／ｄｍを挙げうる
。陽極酸化皮膜の膜厚は１０〜２０μｍ程度に設定する
のが良い。また、この陽極酸化皮膜の表面粗さはＲａ　
：　３０〜３０００人程度である度板お、陽極酸化皮膜
（３）の被覆形成は、所定形状のアルミニウム基材（２
）にダイヤモンド旋削、ボリシング加工、グラインディ
ング加工、荒旋削加工等を施すことにより、所期する板
厚、チャンファ−形状、表面精度に加工したのち行われ
るものである。

また、陽極酸化皮膜は必ずしもアルミニウム基材（２）
の両面に形成される必要はなく、片面のみに被覆されて
いても良い。

陽極酸化皮膜表面（３）を粗面化するためのエツチング
は、エツチング液を用いた湿式の化学的エツチングであ
る。かかるエツチングにより均一微細な粗面（３ａ）が
得られる。エツチング液の種類は特に限定されないが、
ＮａＯＨ等のアルカリ系溶液では局部ピットの発生の恐
れがあり均一な粗面が実現できにくいことから、好まし
くは酸系溶液を用いるのが良い。エツチング液の具体例
としては、Ｈ２ＳＯ４：１５％、ＨＮＯ３：１５％、ホ
ウ酸ナトリウム＝１％、スルファミン酸：１〜１０％の
各水溶液とかリン酸３５ＣＣ／ρとクロム酸２０ｇ／Ω
との混合溶液等を挙げうる。処理時間は１〜６０分程度
程度い。

エツチング後の表面粗さがＲａ（中心線平均粗さ）にお
いて１０〜２００人に規定されるのは、エツチングによ
るＣ８Ｓ特性の改善効果と相俟ってさらに優れたＣ５Ｓ
特性を実現できるからである。即ち、Ｒａが１０人未満
では平滑すぎてヘッドが磁気ディスク表面に吸着し易く
なるためにＣ８Ｓ特性が悪化する。逆にＲａが２００人
を超えるとヘッドが磁気ディスク表面の凸部に衝突し易
くなるためにやはりＣ８Ｓ特性が悪化する。特に好まし
いＲａの範囲は２０〜１００人である。

上記のアルミニウム磁気ディスク基板（１）はその後ス
パッタリング法等により、陽極酸化皮膜（３）の表面に
磁性膜を付着されたのち、−殻内にはさらに潤滑膜ない
しは保護膜を被覆されて磁気ディスクとなされる。なお
、陽極酸化皮膜形成後エツチング処理前に、膜厚５〜１
５μｍ　ｓ　Ｒ８５〜５０人程度度板るように皮膜にボ
リシング加工を実施して皮膜を一旦平滑化し、もって次
段のエツチングによるＲａ：１０〜２００人の範囲への
規制を容易にすることも推奨される。

実施例 純度９９．９９％のアルミニウムをベースとするドーナ
ツ状のアルミニウム基材（外径９５ｍ１内径２５ｍ、板
厚１．３ｔｔｍ）を複数組用意し、該基材の表面を平滑
仕上げしたのち、非浸食性洗浄剤で洗浄した。

次に、蓚酸濃度：１．５ｗｔ％、液温：３０℃の蓚酸電
解液中にて、電流密度：　１．　５Ａ／ｄゴの条件で直
流電解処理による陽極酸化処理を実施し、各アルミニウ
ム基材の表面に厚さ１５μｍの蓚酸皮膜を被覆形成した
。

次いで、蓚酸皮膜の表面をボリシング加工したのち、下
記第１表中試料Ｎｏ１〜７に示すアルミニウム基材につ
いては同表に示す条件で湿式エツチングを実施し、また
試料Ｎｏ８についてはエツチングを実施することなく、
各種のアルミニウム磁気ディスク基板を製作した。

上記により得た各磁気ディスク基板につき、蓚酸皮膜表
面の表面粗さ（Ｒａ）’を調べた。続いて、各基板の皮
膜表面に常法に従うスパッタリング法により厚さ１５０
０人のＣｒ層と厚さ５００人のＣｏ合金層を順次的に付
着させて磁性膜を形成したのち、さらにカーボン系の保
護膜を同じくスパッタリング法により被覆して磁気ディ
スクとなし、これらのＣ８Ｓ特性を調べた。結果を第１
表に示す。

［以下余白］ 第１表の結果から、エツチングを施さずポリシング加工
のみを施した比較品（Ｎｏ８）は、蓚酸皮膜の表面粗さ
は本発明範囲内であるにもかかわらず、エツチングを施
した本発明品に較べて磁気ディスクのＣ８Ｓ特性が悪い
ことがわかる。また、エツチングを施したものでも皮膜
の表面粗さが本発明の範囲を逸脱する比較品（Ｎ。

７）はやはりＣ８Ｓ特性が悪いことがわかる。

従って、本発明に係る磁気ディスク基板を用いるとＣ８
Ｓ特性に優れた磁気ディスクとなしうろことを確認しえ
た。

発明の詳細 な説明したように、この発明に係るアルミニウム磁気デ
ィスク基板は陽極酸化皮膜表面の粗面化が湿式エツチン
グにより行われたものであり、かつ表面粗さがＲａｄｉ
ｏ〜２００人の範囲に規定されたものであるから、皮膜
表面が均一微細な粗面状態となっており、下地皮膜とし
て陽極酸化皮膜を採用するものでありながらも磁気ディ
スクのＣ８Ｓ特性を向上することができる。また、湿式
エツチングによれば多量の基板を同時処理することがで
き、従来のテープ研磨法に較べて磁気ディスク基板の量
産化が可能となるという効果もある。

【図面の簡単な説明】

図面はこの発明の実施例を示すもので、第１図はアルミ
ニウム磁気ディスク基板の拡大断面図、第２図は陽極酸
化皮膜表面の説明的拡大断面図である。 （１）・・・アルミニウム磁気ディスク基板、（２）・
・・アルミニウム基材、（３）・・・陽極酸化皮膜。 以上

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. アルミニウム基材の表面に陽極酸化皮膜が形成されると
   ともに、この陽極酸化皮膜の表面が湿式エッチングによ
   り表面粗さにおいてＲａ（中心線平均粗さ）：１０〜２
   ００Åに粗面化されてなることを特徴とするアルミニウ
   ム磁気ディスク基板。