JPS60127532A - 磁気ディスク基板とその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 連続薄膜媒体の磁気ディスク用基板に係ｂ１特に表面欠
陥の無い高精度、高硬度表面の磁気ディスク基板に関す
る。

〔発明の背景〕

従来、高記録密度化を目的とした磁性媒体をスパッタリ
ング等によって形成する薄膜ディスクは、表面精度（た
とえば粗さやうねり）が良く、また硬く、耐摩耗性に秀
れた基板表面が要求され、第１図に示すようにアルミニ
ウム合金１を陽極酸化処理（アルマイト処理）した基板
が用いられている。（特開昭５１−４８３０５　）また
、アルマイト皮膜の超精密研磨面には、第２図、第３図
に示すように素材に含有する金属間化合物より成る不純
物に起因する３μｍ以上の多くのくぼみ３や１００〜４
００大径の多数の小孔５が生じるため、アクリル系樹脂
とエポキシ系樹脂の混合した樹脂の層４を被着したり、
Ｃ”　ｅ　Ａｆ　＋　Ｎｒ−Ｐ、Ｍｏ等の非磁性体６を
電解処理により被着させたりしてくぼみや小孔を充填し
、研磨することによって欠陥の少ない基板が用いられて
いる。・（＃開明５４−２１３０７　、５３−２１９０
３　）しかしながら、薄膜形成前の表面研磨処理は、一
般にアルミナ砥粒を用いたボリシングを採用し、表面粗
さ０．１μｑ　ｌ（、ｗ程度に仕上げているが、高密度
化に従い、磁気ヘッドと磁気ディスク面とのスペーシン
グが狭小化となり、さらに表面粗さを高度化する必要が
ある。従来の遊離砥粒によるーメカニカルボリシングを
用いて、前記樹脂層を研磨すると微細なスクラッチが多
数形成され、また樹脂層をアルマイト表面まで研磨する
と、樹脂層とアルマイト層の硬度の違いから加工段差が
生じ高精度力研磨面を得ることが困難であった。また非
磁性体による被着層に対しても、微細なスクラッチが生
じやすく、また結晶方位の違いによる硬度の差や粒界の
影響によって凹凸や加工欠陥が生じやすい問題があった
。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をなくシ、表
面欠陥の極めて少ない磁気ディスク基板およびその製造
方法を提供することにある。

〔発明の概要〕

上記目的を達成するため、本発明においては、アルミニ
ウムもしくはアルミニウム合金製の基板の表面に陽極酸
化皮膜を形成し、その表面にガラス質の被膜を形成する
ことを特徴とする。

〔発明の実施例」 以下、本発明の一実施例を図を用いて説明する０ 第４図は、本発明による磁気ディスク基板である。アル
ミニウム合金基板１、アルマイト層２、ガラス質層３、
の多層構造からなる基板である。

第５図は、本発明による磁気ディスク基板の製造方法を
示す。

〜外径φ２１Ｏ朋、内径φ１００ｍＪ板厚１．９關のア
ルミニウム合金基板をアルミナ砥粒（粒径１μｆｆ＋）
を水溶性研削液に分散させた研磨剤により両面同時研磨
し、表面粗さ０，１μｍ　Ｒｍｇ、平面度１μｍ以下に
仕上げ、アルマイト皮膜（アルマイト処理条件：１５％
硫酸浴、液温２０℃、電流密度１Ａ／ｄ７７０を厚さ１
〜５μｍ（望ましくは２μｍ以内）に形成する。つぎに
、アルミニウム合金基板と同様に両面同時研磨する。こ
の研磨面は、ｔ４６図に示すように表面の断面曲線から
、表面には３〜１０μｍ径の欠陥８が多数存在し、また
０、０１〜０．０５μｍ高さの突起９が多く存在する。

つぎに、　温度６００〜３５０℃の高温炉中にて基板を
回転させ、溶融ガラスを基板内周部に滴下し、基板表面
に塗布する。炉冷した基板を、前記と同様の研磨方法で
、研磨剤にアルカリ性（ＰＨ中１０）のコロイダルシリ
カ（粒径００２μｍ）を用いてメカノケミカルボリジン
グした。研磨面は、表面粗さ００１μｍＲＪ陣以下のス
クラッチフリー面であり、表面欠陥の大きさは２〜３μ
ｍ以下、まだ欠陥数も大巾に低減した。さらに、基板表
面がガラス単一層であるので、従来のように、粒界欠陥
や、段差等が無く、また研磨後の洗浄が容易となり表面
清浄度が非常ｔこ向上した。

また、ガラス被膜を形成する他の方法として、。

溶融ガラス中にアルマイト基板をディップした。。

この場合には、アルマイト皮膜に微細なりラックが生じ
、溶融ガラスが欠陥部やクラック溝を充填し、ガラス質
層の厚さは１０μｍ以上となつた。この基板を前記と同
様にコロイダルシリカを用いたメカノケミカルボリジン
グし、表面粗さ０．０１μｍｌ（ｍｍ以下のスクラッチ
フリーの加工面を得た。

〔発明の効果〕

本発明によれば、陽極酸化処理したアルミニウム合金基
板にガラス質層を被着１２、超精密ωＦ磨したので、表
面粗さ００１μｍ　Ｒ＋ｎｏ＋ｃ以下のスクラッチフリ
ー、かつ表面欠陥の非常に少ない表面を得ることができ
た。また、表面がガラス単一層であるので、研磨後の洗
浄が容易であり、高い清浄度を得た。このため、高性能
な薄膜媒体を形成できた。さらに、陽極酸化皮膜の欠陥
（あるいはクラック溝）はガラス質で充填されるととも
に、ガラス層と基板との接着強度を向−ヒさせることが
できるなどの効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は、従来の磁気ディスク基板の断面図、第２図お
よび第６図は、従来の改良した磁気ディスク基板の断面
図、第４図は、本発明の磁気ディスクの断面図、第５図
は、本発明の磁気ディスク基板の製造プロセスを示す工
程図、第６図は、陽極酸化皮膜の研磨面の断面曲線を示
す特性図である。 １・・・アルミニウム合金基板、 ２・陽極酸化処理皮膜、３・・・表面欠陥、７・・・ガ
ラス層、　８・・・表面欠陥、９　突起。 第１図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　表面に陽極酸化皮膜を形成したアルミニウムもしく
   はアルミニウム合金製の基板の表面にガラス質の皮膜を
   形成したことを特徴とする磁気ディスク基板。 ２゜　アルミニウムもしくはアルミニウム合金製の基板
   の表面に、陽極酸化皮膜を形成し、この陽極酸化皮膜の
   表面を研磨したのち、陽極酸化皮膜上に溶融ガラスを塗
   布し、ガラスが冷却固化したのち、ガラスの表面を研磨
   することを特徴とする磁気ディスク基板の製造方法。