JPS63112826A - 磁気ディスク基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はセラミック基板を磁気ディスクの支持体とした
磁気ディスク用基板に関するものである。

〔従来技術及びその問題点〕

磁気ディスク装置はコンピュータの情報処理システムの
中で情報記憶の中心的な役割を果しており、この磁気記
録は高密度化及び大容量化の傾向にあるためにその要求
に答えるような磁性媒体の研究開発が活発に行われてい
る。

例えば、この磁性媒体としてα−Ｆｅｚｅ３をスパッタ
リングなどの薄膜形成手段によって形成することが提案
されており、これによって磁気記録媒体の薄層化及び高
面積度化を行うことができる。

このような磁気記録媒体が形成される基板にはアルミニ
ウム合金が使用される。

しかしながら、アルミニウム製基板は、その表面が約２
μｍの厚みのアルマイト層が形成され、このアルマイト
層によって基板表面の硬度が大きくなっているが、その
反面、この硬質アルマイト層の厚みが小さく、且つアル
ミニウム合金とアルマイトの熱膨張係数が異なっており
、これにより、α−Ｆｅｘｅ３などの磁性媒体をスパッ
タリングするに当たって行われる３００℃以上の加熱処
理により基板歪みが発生し、その結果、高密度磁気記録
を阻害している。

アルミニウム製基板の表面にＮ１−Ｐメッキを施した基
板であれば、２００°Ｃ以上の温度で磁性を帯びるよう
になり、そのためにスパッタリングに適していない。

また、アルミニウム製基板を磁気ディスク装置に搭載し
た場合、１０００〜３０００ｒｐｍ位にまで高速回転さ
せるが、基板自体に加わる遠心力によって伸び易くなり
、更に基板表面にはボイドが存在しており、これら両者
の理由によっても高密度磁気記録を阻害している。

本出願人は、既に特開昭６０−１３８７３０号公報に上
述の問題点を解決することができた磁気ディスク用基板
を提案した。

即ち、セラミック基板を支持体として磁気記録媒体が被
着される面にグレーズ層が形成された磁気ディスク用基
板であれば、耐熱衝撃性及び剛性に優れ、且つ磁性媒体
の被着面のボイド欠陥を著しく小さくすることができる
ことを見い出した。

しかじなが゛ら、このような磁気ディスク用基板にα−
ＦｅｚＯ，、などをスパッタリングによって薄膜形成し
た場合、この磁気ディスクに磁気ヘッドがリード／ライ
トに空気力学的に浮上と当接を繰り返すに当たって、磁
気ヘッドが板面に静止した場合に付着するという現象（
以下、ステインク現象と言う）が発生する傾向があるこ
とが判った。

〔発明の目的〕

本発明者等は上記事情に鑑みて鋭意研究に努めた結果、
前記グレーズ層の表面をテクスチャリング加工し、これ
によって表面粗さを所定の大きさに設定し、スティック
現象が解消し得ることを見い出した。

従って本発明は上記　知見に基づいて完成されたもので
あり、その目的は磁気ディスク板面に対する磁気ヘッド
の付着力を小さくしてスティック現象の発生を抑えるこ
とができた磁気ディスク用基板を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明によれば、セラミック基板を支持体とし、磁気記
録媒体が被着される面にグレーズ層が形成された磁気デ
ィスク用基板において、前記グレーズ層の磁気記録媒体
用被着面に線条の溝を形成すると共に該被着面の中心線
平均粗さ（Ｒａ）を０．００３乃至０．０４μの範囲内
に設定したことを特徴とする磁気ディスク用基板が提供
される。

以下、本発明の詳細な説明する。

本発明の磁気ディスク用基板は、スティック現象の発生
を抑えるために線条の溝を形成するという点ではアルミ
ニウム製磁気ディスク用基板と軌を−にしているが、軟
質な金属に溝を形成するという従来の磁気ディスク用基
板に対して硬度が大きく且つクラックが発生して割れ易
いガラス板面に対して線条の溝を形成し得たという点は
予想外の成果であり、更にこの線条の溝を形成して中心
線平均粗さを所定の範囲内に設定し、これによってステ
ィック現象が解消し得たという点が重要である。

即ち、本発明者等が既に特開昭６０−１３８７３０号公
報にて提案した磁気ディスク用基板は、第１図に示すよ
うな基本的構成であってディスク形状のセラミック基板
１の両面にガラスを被覆してグレーズ層２が形成されて
おり、磁気ディスク用基板３の表面を研摩処理すると中
心線平均粗さ（Ｒａ）を０．００１にまで小さくするこ
とができ、これによって高密度磁気記録用媒体をスパッ
タリングなどによって薄膜形成したり、或いはメッキに
よって形成することができる。

このようにして得られた磁気ディスクの磁性媒体表面に
は顕著な表面平滑性があり、これによって前述したよう
なステインク現象が発生し易い傾向にあるが、そこで、
この問題を解消するためにグレーズ層２の磁性媒体用被
着面に対してテクスチャリング加工を行った。

このテクスチャリング加工はアルミニウム製磁気ディス
ク用基板に対して適当な溝を形成する方法であり、この
方法はアルミニウム等の軟質な金属体に対して用いられ
ている。

本発明者等はこのテクスチャリング加工を硬度が大きく
且つクラックが発生し易い性質のガラスに対して採用し
たところ、常識に反して適度な線条の溝が形成され、こ
れによってスティック現象を解消することができること
を見い出した。

更に本発明者等はこの線状の溝の中心線平均粗さ（Ｒａ
）を０．００３乃至０．０４ｐ、好適には０．００５乃
至６一 ０．０２μの大きさに設定すればスティック現象を解消
し得るということも見い出した。即ち、中心線平均粗さ
が０．００３　μ未満であれば、スティック現象の発生
を抑えることができず、また、０．０４μを超えるとク
ラックの発生が顕著となって線条溝には板面方向の凹凸
が目立つようになり、シャープな線条溝の形成が困難と
なり、これによって磁気記録媒体の磁性特性が低下する
。

本発明の磁気ディスク用基板を製作するに当たって用い
られるテクスチャリング加工は、第２図及び第３図に示
す通りであり、第３図は第２図中矢印へ方向から見た図
である。

即ち、磁気ディスク用基板３がスピンドル４に装着され
ており、このスピンドル４の中心軸が基板３の中心に位
置され、基板３がスピンドル４によって回動駆動される
。そして、ホワイトアランダム、炭化珪素又はダイヤモ
ンドなどから成る研摩用粒子がテープに付着されて成る
研摩用テープ５がウレタンゴムから成るコンタクトロー
ル６の半周面に圧接し、コンタクトロール６が回転され
ると共に別に設けた駆動源（図示せず）によって研摩用
テープ５が矢印Ｂ方向に示されるように移動する。更に
、コンタクトロール６の中心軸には中心棒７が貫設され
、この中心棒７の両端部には押圧棒８が付設され、押圧
棒８が基板へ向けて押圧する。このようにして基板３が
回転されると共に研摩用テープ５が移動し、それによっ
て研摩用チー１５が基板面を摺動し、その結果、第４図
に示すようにグレーズ層の表面に線条の溝が同心円状に
形成される。尚、第３図においてスピンドル４及び研摩
用テープ５の一部は省かれている。

〔実施例〕

次に本発明の実施例を述べる。

（テクスチャリング加工用基板の製作法）アルミナ粉末
に焼結助剤を加えてプレス形成し、１２００℃以上の温
度にて焼成し、外径２１０ｍｍ　、内径１００ｍｍの大
きさの中空状円板で厚み１　、８５ｍｍの多結晶アルミ
ナ基板を作り、次いで、この基板をダイヤモンド砥石で
平面度１５μ以下になるまで研摩し、その後、この基板
の両面に高融点ガラス（軟他点：５００°Ｃ以上）を被
覆し、６００　’Ｃ以上でガラス溶融し、１００　μの
厚みにグレーズした。然る後、このグレーズ層の表面を
研摩し、中心線平均粗さ（Ｒａ）を０．００１　μの大
きさに設定し、これをテクスチャリング加工用基板とし
た。

（テクスチャリング加工及び評価） テクスチャリング加工用基板を前述した第２図及び第３
図によりダイヤモンド研摩材又は炭化珪素研摩材によっ
て２０秒間全仮面をテクスチャリング加工したところ、
その結果は第１表に示す通りとなった。

この加工によれば、研摩材の種類及びその砥粒径などに
よって線条の溝の大きさを変えることができ、この大き
さを中心線平均粗さによって表わす。

（以下余白） ＝８− 第１表 第１表中の評価は走査型電子顕微鏡による目視並びにス
ティック現象の有無により◎印、○印及び×印に区分し
ており、◎印及び○印は第５図に示すような線条の溝が
形成されており、スティック現象が発生し難く、特に◎
印のものはスティック現象が全く生じなかった場合を表
わし、これに対してＸ印は第６図のように線条溝の板面
方向に凹凸が目立ち、且つステインク現象が生じ易い場
合を表わす。

第１表より明らかな通り、本発明の試料ｌＩ＆１２乃至
階６によれば、スティック現象の発生が抑制されており
、特に試料隘３及び隘４では全く発生しなかった。然る
に、試料！１ｋＬ１においてはスティック現象が生じて
おり、試料阻７においては線条溝が不揃いで磁気特性の
低下が認められた。

〔比較例〕

本例においては従来のアルミニウム製磁気ディスク基板
を本実施例と同様にテクスチャリング加工した場合、線
条の溝の状態を走査型電子顕微鏡により目視しこところ
、第７図又は第８図に示す通りとなった。

第７図によれば、溝の両サイドが盛り上がっており、第
８図においては切り層が脱落せずに基板面上に突起とし
て残り、両者ともこれらの欠陥部を取り除くために研摩
（クリーニング工程と呼ばれる）が不可欠となる。

〔発明の効果〕

以上の通り、本発明の磁気ディスク用基板によれば、こ
の基板上に薄膜形成技術によって形成された磁性媒体に
対して磁気ヘッドの付着力が著しく小さくなり、これに
よってスティック現象が発生せず、その結果、高性能且
つ高信頼性の磁気ディスクと成り得る磁気ディスク用基
板が提供される。

また、本発明の磁気ディスク用基板によれば、テクスチ
ャリング加工するに当たって基板自体何等塑性変形をお
こさず、これによってクリーニング工程を不要とする磁
気ディスク基板が提供される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気ディスク用基板の拡大断面図、第
２図及び第３図はテクスチャリング加工を表わす説明図
、第４図はテクスチャリング加工後のディスク用基板面
を表わす平面図、第５図は本発明の磁気ディスク用基板
のグレーズ層に形成された線条溝を示す拡大図、第６図
は比較例のグレーズ層に形成された線条溝を示す拡大図
、第７図及び第８図はテクスチャリング加工後のアルミ
ニウム製磁気ディスク用基板に形成された線条溝を示す
拡大図であ。 １・・・セラミック基板 ２・・・グレーズ層

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. セラミック基板を支持体とし、磁気記録媒体が被着され
   る面にグレーズ層が形成された磁気ディスク用基板にお
   いて、前記グレーズ層の磁気記録媒体用被着面に線条の
   溝を形成すると共に該被着面の中心線平均粗さ（Ｒａ）
   を０．００３乃至０．０４μの範囲内に設定したことを
   特徴とする磁気ディスク用基板。