JPS61117272A

JPS61117272A - 発光膜形成装置

Info

Publication number: JPS61117272A
Application number: JP23724884A
Authority: JP
Inventors: Koji Taniguchi; 浩司谷口; Takashi Ogura; 隆小倉; Koichi Tanaka; 康一田中; Masaru Yoshida; 勝吉田
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1984-11-09
Filing date: 1984-11-09
Publication date: 1986-06-04
Also published as: JPS6354069B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（イ）発明の目的（産業上の利用分野）この発明は、電子衝撃型蒸着装置に関する。特にその蒸
発源の改良に関する。

（従来の技術）現在、電子（ｈ撃型蒸着装置としては、電場偏向型や磁
場偏向型の装置が知られているが、いずれも、電子を薄
膜材料の一部分に集中してぶつけて加熱、蒸発させ、薄
膜形成するものである。そして低蒸気圧材料、蒸発源か
らの不純物の混入等の点で、従来の抵抗加熱型蒸着装置
に比して優れているため、半導体工業等で広く利用され
ている。

（発明が解決しようとする問題点）しかしながら、現在用いられている電子衝撃型蒸着装置
は、電子ビームを直径数ｎ以下に集束しており、更に加
速電圧も高いので、かなり多くの薄膜材料をイオン化し
てしまう。特に薄膜材料が化合物や混合物である場合、
イオン化により、蒸発源上で化学反応が生じてしまい、
もとの薄膜材料の組成のままの薄膜を蒸着することが困
難になるという問題点がある。たとえば、式Ａｓ−ｘＢ
ＸＣ（式中、Ａ、　Ｂは周期律表における■族元素、Ｃ
は■族元素、ＸはＱ＜ｘ＜ｌ）なる薄膜を蒸着しようと
する場合、電子衝撃型蒸着装置における通常の電子ビー
ム照射により上記Ａｌ−ＸＢＸＣなる薄膜材料は、加熱
され、分解し、イオン化されて化合物ＡＣ，ＢＣが生成
される。ここでＡＣの蒸気圧に比べてＢＣの蒸気圧が低
い場合は、ＢＣはほとんど付着面に達することができず
、その結果ＡＩ−、＜ＢｘＣの薄膜は得られにくいとい
う問題が生じる。

（ロ）発明の構成この発明は、真空容器中に、電子銃、薄膜材料蒸発源及
び付着面を備えてなる電子衝撃型蒸着装置において、真
空容器と薄膜材料蒸発源の間に所定の電位差を発生させ
る電位差設定手段を、薄膜材料蒸発源に電気的に接続す
ることを特徴とする電子衝撃型蒸着装置である。

（実施例）以下、図と共に本発明を詳説するが、これによってこの
発明は限定されるものではない。

第１図に本発明の電子衝撃型蒸着装置（１）を示す。

図において、電子衝撃型蒸着装置（１）は、略つり鐘状
の金属製真空容器（２）をその本体とし、かがる真空容
器（２）は、その底部（３）の一部に設けられた排気口
（４）から真空ポンプ（図示省略）で、１ｏ−４〜１ｏ
−２Ｔｏｒｒの真空に保たれている。

一方、底部（３）のほぼ中央に、ＷＩ＃膜材料蒸発源（
５）が設けられている。この薄膜材料蒸発源（５）上に
薄膜材料が載置され、その薄膜材料蒸発源（５）付近に
設けられた電子銃（６）からの電子ビームをマグネット
等の電子ビーム偏向用手段（７）により磁場を使って曲
げ、薄膜材料の一部に当たるようにしている。

なお、本発明の電子衝撃型蒸着装置（１１は、前記薄膜
材料蒸発源（５）に直流可変電圧電源（８）のマイナス
側が接続されている６また電子ビームの照射された薄膜材料は蒸発し、真空容
器（２）上方に設置されている付着面（９）に蒸着され
る。

かかる付着面（９）は通常、適当な基板支持体αのに係
止されており、更に支持棒（１１）で真空容器（２）上
部に設置されている。なお前記基板支持体αΦに直流可
変電圧電源（１２）のプラス側が接続されている。

このように構成された電子衝撃型蒸着装置（１）を用い
、式Ｚｎ１−ｘＭｎｘｓ（式中、ＸはＱ＜ｘ＜１である
）からなる薄膜材料で薄膜の蒸着を行なった。以下、そ
の工程を具体的に説明する。

たとえば、Ｚｎ、−ＸＭｎｘＳは薄膜エレクトリックル
ミネッセンス発光層としての重要な材料で、特に式中の
Ｘ値の制御は、素子特性、とりわけ発光輝度に関係する
ため、特に重要である。

かような薄膜材料を、前記薄膜材料蒸発源（５）内に入
れ、電力１ｔｌ〜１ｏｏｏｏｗの電子ビームを照射する
。このとき、Ｚｎｔ−ｘＭｎｘＳは加熱、分解されて化
合物ＺｎＳ、ＭｎＳを生じる。しかも更に電子ビームが
照射されるため、化合物ＺｎＳ、ＭｎＳが負イオン化さ
れる。ここで化合物ＺｎＳに比べて化合物ＭｎＳの蒸気
圧が低いため、化合物Ｍ　ｎ　Ｓがほとんど付着面（９
）に到達しない。しかしながら本発明の電子衝撃型蒸着
装置（１）では、薄膜材料蒸発源（５）と真空容器（２
）に“１〜１００ＯＶの電位差が生じるよう、直流可変
電圧電源（８）から薄膜材料蒸発源（５）に印加してい
るため、薄膜材料蒸発源（５）が負に帯電しているため
、主原料であるＺｎＳの分解及びイオン化によって生じ
た化学的に活性な硫黄イオンは、蒸発源から急速に離れ
る。

このため薄膜材料表面でＭｎＳの形成は、はとんど生じ
ず、有効にＭｎが付着面に到達し得る。したがって所望
のＺｎ１−ｘＭｎｘＳの薄膜を得ることができた。

（ハ）発明の効果この発明は、電子衝撃型蒸着装置において、薄膜材料蒸
発源に電位差設定手段を電気的に接続しているので、真
空容器と薄膜材料蒸発源の間に所定の電位差を発生させ
ことができ、それによって、化合物や混合物などのイオ
ン化しやすい組成を有する薄膜材料を、その組成のまま
薄膜として蒸着することができる優れたものである。ま
た、薄膜材料蒸発源に交流電圧を印加すれば、正、負イ
オンを有効に利用するため、均一な蒸着もできるという
副次的な効果も有している。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この発明に係る電子衝撃型蒸着装置の一実施
例を示す縦断面図である。（１）・−電子衝撃型蒸着装置、（２）・−・真空容器
、（５）・−薄膜材料蒸発源、（６）・−電子銃、（８
）・・−直流可変電圧電源、（（ＩＬ−・付着面。

Claims

【特許請求の範囲】

１、真空容器中に、電子銃、薄膜材料蒸発源及び付着面
を備えてなる電子衝撃型蒸着装置において、真空容器と
薄膜材料蒸発源の間に所定の電位差を発生させる電位差
設定手段を、薄膜材料蒸発源に電気的に接続することを
特徴とする電子衝撃型蒸着装置。