JPS61117243U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS61117243U JPS61117243U JP71585U JP71585U JPS61117243U JP S61117243 U JPS61117243 U JP S61117243U JP 71585 U JP71585 U JP 71585U JP 71585 U JP71585 U JP 71585U JP S61117243 U JPS61117243 U JP S61117243U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diffusion source
- vane plate
- semiconductor substrate
- rotary table
- rotating
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 1
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Description
第1図は本考案の一実施例を示し、aは平面図
、bは側断面図、第2図は従来の塗布装置を用い
た場合の半導体基板の断面図、第3図はその下面
図である。 1:回転台、2:回転軸、3:羽根板、7:整
流板、8:気流、11:半導体基板。
、bは側断面図、第2図は従来の塗布装置を用い
た場合の半導体基板の断面図、第3図はその下面
図である。 1:回転台、2:回転軸、3:羽根板、7:整
流板、8:気流、11:半導体基板。
Claims (1)
- 下側に垂直回転軸を備えた回転台上に載置され
た半導体基板の上方より液状拡散ソースを滴下し
、回転台の回転によつて半導体基板の上面に拡散
ソースを広げるものにおいて、回転台回転軸に固
定された羽根板と、羽根板と回転台の中間に羽根
板の基部の上から回転台の外周に向かう整流板と
を有することを特徴とする拡散ソース塗布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP71585U JPS61117243U (ja) | 1985-01-08 | 1985-01-08 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP71585U JPS61117243U (ja) | 1985-01-08 | 1985-01-08 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61117243U true JPS61117243U (ja) | 1986-07-24 |
Family
ID=30472806
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP71585U Pending JPS61117243U (ja) | 1985-01-08 | 1985-01-08 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61117243U (ja) |
-
1985
- 1985-01-08 JP JP71585U patent/JPS61117243U/ja active Pending