JPS61117128A - 光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents
光フアイバ母材の製造方法Info
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- JPS61117128A JPS61117128A JP23667884A JP23667884A JPS61117128A JP S61117128 A JPS61117128 A JP S61117128A JP 23667884 A JP23667884 A JP 23667884A JP 23667884 A JP23667884 A JP 23667884A JP S61117128 A JPS61117128 A JP S61117128A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、伝送特性に秀れかつ高強度を有する石英系光
ファイバ用母材の製造方法に関する。
ファイバ用母材の製造方法に関する。
特にコア部に含有される屈折率を上げるための添加物濃
度ができるだけ少なく或いは望ましくはコア部が細枠石
英ガラスからなり、クラッド部の屈折率をクラッド部に
弗素を添加することにより下げ、伝送特性を向上せしめ
だ光ファイぺの強度特性を向上せしめるための、光ファ
イバ母材の製造方法に関する。
度ができるだけ少なく或いは望ましくはコア部が細枠石
英ガラスからなり、クラッド部の屈折率をクラッド部に
弗素を添加することにより下げ、伝送特性を向上せしめ
だ光ファイぺの強度特性を向上せしめるための、光ファ
イバ母材の製造方法に関する。
〈従来技術〉
石英系光ファイバの伝送損失の要因の１つである、レイ
リー散乱損失は光ファイバ中に含有される。屈折率を高
める為の酸化物、（たとえばＧ ｅ ＯＨやτ”１ ｒ
Ａｌ２Ｏ２など）の濃度が高い程増加することが知ら
れている。即ち光ファイバの伝送損失を極限近くまで低
下せしめるためには、これら屈折率を高める為の酸化物
の含有量を極力抑え、望ましくは０とすることが効果的
である。
リー散乱損失は光ファイバ中に含有される。屈折率を高
める為の酸化物、（たとえばＧ ｅ ＯＨやτ”１ ｒ
Ａｌ２Ｏ２など）の濃度が高い程増加することが知ら
れている。即ち光ファイバの伝送損失を極限近くまで低
下せしめるためには、これら屈折率を高める為の酸化物
の含有量を極力抑え、望ましくは０とすることが効果的
である。
一方、光の伝送路として有意な屈折率差をコア部とクラ
ッド部を持たせる為には、クラッド部の屈折率をコア部
より下げる必要がある。石英ガラスの屈折率を下げる物
質としては従来よリッツ素或いはＢ、 ０３等が知られ
ているこの中でＢ２Ｏ３は波長１．５μｍ帯付近に吸収
帯を有するため光ファイバの低損失化の為にはＦを用い
ることが望ましい。
ッド部を持たせる為には、クラッド部の屈折率をコア部
より下げる必要がある。石英ガラスの屈折率を下げる物
質としては従来よリッツ素或いはＢ、 ０３等が知られ
ているこの中でＢ２Ｏ３は波長１．５μｍ帯付近に吸収
帯を有するため光ファイバの低損失化の為にはＦを用い
ることが望ましい。
ところで、フッ素をクラッド部に含有せしめた光ファイ
バの製造方法としては、すでに本発明者らは特願昭５８
−１９４１０４号明細書において、１つの新規な製法を
提案している。上記明細書に記載の方法は基本的には「
棒状の高純度石英ガラスの外側に純石英ガラス微粒子を
堆積させ次いで少なくともフッ素化合物を含む雰囲気に
おいて加熱処理することによシ該ガラス微粒子部にフッ
素を添加せしめる」ものである。
バの製造方法としては、すでに本発明者らは特願昭５８
−１９４１０４号明細書において、１つの新規な製法を
提案している。上記明細書に記載の方法は基本的には「
棒状の高純度石英ガラスの外側に純石英ガラス微粒子を
堆積させ次いで少なくともフッ素化合物を含む雰囲気に
おいて加熱処理することによシ該ガラス微粒子部にフッ
素を添加せしめる」ものである。
ところで上記明細書記載の方法によれば、ガラス微粒子
部にはほぼ均一にフッ素が添加され結果的に得られる屈
折率分布としては、第２図のようになり母材外周部まで
Ｆが添加されている。ところが弗素を含有した石英ガラ
スは純粋石英ガラスに比べわずかに軟く傷がつき易い傾
向かあシ、第２図に示した構造の光ファイバはわずかで
はあるが純粋石英ガラスが外周部に存在する光ファイバ
（たとえば第３図に示した構造のもの）に比べ強度的に
劣る場合がある。そこで、非常に高い強度が要求される
場合には第２図に示した構造をもつ母材を第３図に示す
構造にするため所定径に延伸し純石英ガラス管中に挿入
し一体化する或いは該母材外周部に純石英ガラス層を合
成する等の余分な工程が必要となる。
部にはほぼ均一にフッ素が添加され結果的に得られる屈
折率分布としては、第２図のようになり母材外周部まで
Ｆが添加されている。ところが弗素を含有した石英ガラ
スは純粋石英ガラスに比べわずかに軟く傷がつき易い傾
向かあシ、第２図に示した構造の光ファイバはわずかで
はあるが純粋石英ガラスが外周部に存在する光ファイバ
（たとえば第３図に示した構造のもの）に比べ強度的に
劣る場合がある。そこで、非常に高い強度が要求される
場合には第２図に示した構造をもつ母材を第３図に示す
構造にするため所定径に延伸し純石英ガラス管中に挿入
し一体化する或いは該母材外周部に純石英ガラス層を合
成する等の余分な工程が必要となる。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は、フッ素をクラッド部に含有し、コア部の屈折
率を上げる為の酸化物含有量を極力低減せしめ、伝送特
性を向上させ、かつ強度的にも優れた光ファイバ母材を
、上記の如き最外層にフッ素を含まない石英ガラス層を
形成するための余分な工程を用いずに作製し得る手段を
提供せんとするものである。
率を上げる為の酸化物含有量を極力低減せしめ、伝送特
性を向上させ、かつ強度的にも優れた光ファイバ母材を
、上記の如き最外層にフッ素を含まない石英ガラス層を
形成するための余分な工程を用いずに作製し得る手段を
提供せんとするものである。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、ガラス微粒子集合体に、フッ素或いはフッ素
化合物を含む雰囲気中でかつガラス微粒子集合体が完全
に透明ガラス化しない温度域にて、第１の加熱処理によ
シフッ素を含有せしめた後、該ガラス微粒子集合体をフ
ッ素を含まない雰囲気中で第２の加熱処理することによ
り、該ガラス微粒子集合体外周部からフッ素が揮散する
現象を見出し、これを利用し、母材外周部に含有される
フッ素量を内層部に比べ低減させることにより、ファイ
バの高強度化を達成せしめるものである。
化合物を含む雰囲気中でかつガラス微粒子集合体が完全
に透明ガラス化しない温度域にて、第１の加熱処理によ
シフッ素を含有せしめた後、該ガラス微粒子集合体をフ
ッ素を含まない雰囲気中で第２の加熱処理することによ
り、該ガラス微粒子集合体外周部からフッ素が揮散する
現象を見出し、これを利用し、母材外周部に含有される
フッ素量を内層部に比べ低減させることにより、ファイ
バの高強度化を達成せしめるものである。
すなわち、本発明は酸化硅素を主成分とするガラス微粒
子集合体を加熱処理して透明ガラス体とする工程を含む
光ファイバ用母材の製造方法において、少なくとも、（
１）７ツ素或いはフッ素化合物を含む雰囲気中で上記ガ
ラス微粒子集合体にフッ素を添加せしめるための第１の
加熱処理および、（２）該ガラス微粒子の外周部に含有
されていたフッ素を外部に揮散させるための第２の加熱
処理、とを該ガラス微粒子集合体に施すことを特徴とす
る、光ファイバ母材の製造方法である。
子集合体を加熱処理して透明ガラス体とする工程を含む
光ファイバ用母材の製造方法において、少なくとも、（
１）７ツ素或いはフッ素化合物を含む雰囲気中で上記ガ
ラス微粒子集合体にフッ素を添加せしめるための第１の
加熱処理および、（２）該ガラス微粒子の外周部に含有
されていたフッ素を外部に揮散させるための第２の加熱
処理、とを該ガラス微粒子集合体に施すことを特徴とす
る、光ファイバ母材の製造方法である。
たとえば、ｖＡＤ法等で作成した棒状のガラス微粒子集
合体に均一にフッ素を添加する第１の加熱処理を施した
のち、フッ素を含まない雰囲気中にガラス微粒子集合体
を入れ、第２の加熱処理をすると、第２の加熱処理の際
母材外周部のフッ素が外部へ揮散しガラス微粒子集合体
中に含まれるフッ素濃度分布は第１図ｒａ）のようにな
る。もしガラス微粒子集合体が元々純粋石英ガラスのみ
から形成されていればその屈折率分布は第１図（１）の
ようになる。本発明はこの現象を利用し光７アイパ用母
材を作成し、ファイバの高強度化を図るものである。
合体に均一にフッ素を添加する第１の加熱処理を施した
のち、フッ素を含まない雰囲気中にガラス微粒子集合体
を入れ、第２の加熱処理をすると、第２の加熱処理の際
母材外周部のフッ素が外部へ揮散しガラス微粒子集合体
中に含まれるフッ素濃度分布は第１図ｒａ）のようにな
る。もしガラス微粒子集合体が元々純粋石英ガラスのみ
から形成されていればその屈折率分布は第１図（１）の
ようになる。本発明はこの現象を利用し光７アイパ用母
材を作成し、ファイバの高強度化を図るものである。
本発明方法におけるフッ素添加のための第１の加熱処理
は、例えば８Ｆ６ 、 （！０ｔ２Ｆ２ 、 Ｃ！Ｆ４
、 Ｃｘｌ’ｓ ＋ＳｉＦ４等のフッ素系ガス含有雰
囲気において、温度１０００〜１２５０℃に加熱する。
は、例えば８Ｆ６ 、 （！０ｔ２Ｆ２ 、 Ｃ！Ｆ４
、 Ｃｘｌ’ｓ ＋ＳｉＦ４等のフッ素系ガス含有雰
囲気において、温度１０００〜１２５０℃に加熱する。
またフッ素を揮散させるための第２の加熱処理は、Ｈθ
等の不活性ガスのみ、あるいは必要に応じて０２な
どを含有したＨ、等の不活性ガスの雰囲気において、温
度１４００〜１７００℃に加熱する。
等の不活性ガスのみ、あるいは必要に応じて０２な
どを含有したＨ、等の不活性ガスの雰囲気において、温
度１４００〜１７００℃に加熱する。
以下実施例に従い説明する。
（実施例）
実施例１
ＭＡＤ法により作成した純粋石英ガラス棒を抵抗炉を用
いて１０■φに延伸した。この延伸した純粋石英棒（長
さ〜４００ ｔｍ ）の外周部に、第４図に示す装置に
より純粋石英ガラス微粒子層を堆積させ、外径〜１４（
１ｍφの純粋石英棒と純粋石英ガラス微粒子層の複合体
（１）を形成した。
いて１０■φに延伸した。この延伸した純粋石英棒（長
さ〜４００ ｔｍ ）の外周部に、第４図に示す装置に
より純粋石英ガラス微粒子層を堆積させ、外径〜１４（
１ｍφの純粋石英棒と純粋石英ガラス微粒子層の複合体
（１）を形成した。
第４図において４３はガラス微粒子合成用バーナーであ
りバーナー４５に石英ガラス原料として５ｉｃｔ４を６
００ＣＣ／分、ａ、を２５Ｌ／分、０□を５０ｔ／分供
給した。４１は１０■φに延伸した上記の純粋石英棒で
あり、回転引上装置４６によυ回転しつつ上方に４０
Ｗ ／ ｈｒ の速度で移動させ、ガラス微粒子を石
英棒４１の上部から除々に軸方向下部へ堆積させガラス
微粒子層４２を形成させていった。４４は反応容器４５
は石英棒４１の支持棒である。
りバーナー４５に石英ガラス原料として５ｉｃｔ４を６
００ＣＣ／分、ａ、を２５Ｌ／分、０□を５０ｔ／分供
給した。４１は１０■φに延伸した上記の純粋石英棒で
あり、回転引上装置４６によυ回転しつつ上方に４０
Ｗ ／ ｈｒ の速度で移動させ、ガラス微粒子を石
英棒４１の上部から除々に軸方向下部へ堆積させガラス
微粒子層４２を形成させていった。４４は反応容器４５
は石英棒４１の支持棒である。
以上により作成した複合体（Ｉ）の構造を第５図に示す
。図中４１は純粋石英ガラス、４２は純粋石英ガラス微
粒子層であり、イは１０瓢φ、口は１３０！φをあられ
す。
。図中４１は純粋石英ガラス、４２は純粋石英ガラス微
粒子層であり、イは１０瓢φ、口は１３０！φをあられ
す。
該複合体（１）を温度１６００℃の炉中へ１．５瓢／分
の速度で挿入していき透明ガラス化を行ったこの際炉内
へは８１’＠ ４００ ＣＣ７分、Ｈｅ２０ｔ／分を供
給し透明ガラス化と同時にフッ素を複合体のガラス微粒
子層の部分に均一に含有せしめた。
の速度で挿入していき透明ガラス化を行ったこの際炉内
へは８１’＠ ４００ ＣＣ７分、Ｈｅ２０ｔ／分を供
給し透明ガラス化と同時にフッ素を複合体のガラス微粒
子層の部分に均一に含有せしめた。
得られた透明ガラス体（１）の構造及び径方向の屈折率
分布を第６図に示す。図中６１は純粋石英ガラス、６２
はフッ素含有石英ガラス、図中ハは１０ｍ＋φ、二は３
８＋ｍφを示し、中心部６１と外周部６２との比屈折率
差は〜Ｑ、５％であった。
分布を第６図に示す。図中６１は純粋石英ガラス、６２
はフッ素含有石英ガラス、図中ハは１０ｍ＋φ、二は３
８＋ｍφを示し、中心部６１と外周部６２との比屈折率
差は〜Ｑ、５％であった。
この透明ガラス体（１）を再度１０＋ｍφに延伸しさら
に第４図に示す装置で延伸した透明ガラス体の外周部に
ガラス微粒子層を堆積させ複合体■を作成した。
に第４図に示す装置で延伸した透明ガラス体の外周部に
ガラス微粒子層を堆積させ複合体■を作成した。
第７図に複合体（Ｕ）の構造を示す。図中７１は純粋石
英ガラス、７２はフッ素含有石英ガラス、７５は純粋石
英ガラス微粒子層であシ、ホは１０鱈φ、へば１５０晒
φであった。
英ガラス、７２はフッ素含有石英ガラス、７５は純粋石
英ガラス微粒子層であシ、ホは１０鱈φ、へば１５０晒
φであった。
次に桟合体（Ｉ［）はまず、８１１６４ＱＱＣｒ、７分
、Ｈｅ２０ｔ／分を流している１２００℃の炉内へ、４
１ｍ／分の速度で挿入してゆき、複合体（Ｕ）のガラス
微粒子層の部分に均一にフッ素を添加した（第１加熱処
理）。前記第１加熱処理の後肢複合体（Ｉ［）をＨｅ
のみの雰囲気、１６００℃の炉内へ２ ｎｍ ７分の
速度で挿入していき複合体（Ｉ［）のガラス微粒子層の
部分を透明ガラス化すると同時に外周部に含有されてい
たｙを揮散させた。
、Ｈｅ２０ｔ／分を流している１２００℃の炉内へ、４
１ｍ／分の速度で挿入してゆき、複合体（Ｕ）のガラス
微粒子層の部分に均一にフッ素を添加した（第１加熱処
理）。前記第１加熱処理の後肢複合体（Ｉ［）をＨｅ
のみの雰囲気、１６００℃の炉内へ２ ｎｍ ７分の
速度で挿入していき複合体（Ｉ［）のガラス微粒子層の
部分を透明ガラス化すると同時に外周部に含有されてい
たｙを揮散させた。
得られた光ファイバ母材の構造と屈折率分布の関係を第
８図に示す。図中８１は純粋石英ガラス、８２および８
３はフッ素含有石英ガラスであり、トは２．６瓢φ、チ
は１０＋ｍφ、すは３８醪φ、中心部８１と最外周部以
外の周辺部８２との比屈折率差はＱ、３チ、また中心部
８１と最外周部分の比屈折率差は０．０４％であった。
８図に示す。図中８１は純粋石英ガラス、８２および８
３はフッ素含有石英ガラスであり、トは２．６瓢φ、チ
は１０＋ｍφ、すは３８醪φ、中心部８１と最外周部以
外の周辺部８２との比屈折率差はＱ、３チ、また中心部
８１と最外周部分の比屈折率差は０．０４％であった。
すなわち最外層においてはフッ素が殆んど揮散しており
、その屈折率値は−０，０４％となっている。
、その屈折率値は−０，０４％となっている。
本母材を単一モードファイバ用プリフォームとして１２
５μｍ外径に線引し４００μｍφ径まで紫外線硬化型エ
ポキシアクリレート樹脂を被覆したのち２％張力による
スクリーニングテストを行った結果平均のスクリーニン
グ通過長は１α５に＋ｎと非常に高強度であった。
５μｍ外径に線引し４００μｍφ径まで紫外線硬化型エ
ポキシアクリレート樹脂を被覆したのち２％張力による
スクリーニングテストを行った結果平均のスクリーニン
グ通過長は１α５に＋ｎと非常に高強度であった。
実施例２
ＶＡＤ法で作成した外径１４０！φ長さ６００■の棒状
のガラス微粒子堆積体に実施例１において複合体（ｎ）
に施したのと同様の第１の加熱処理及び第２の加熱処理
を施した。その結果第９図に示すように中心部比屈折率
差０．３％、最外周部分比屈折率差０．０４ ％の屈折
率分布構造を持った透明ガラス母材９２を得た。透明ガ
ラス母材９２の外径又は６０瓢φ、長さは２５０瓢であ
った。この透明ガラス母材の中心に超音波研削機により
５■φの穴をあけたのちｖＡＤ法で作成した純粋石英棒
を抵抗炉により４ｍｒφにまで延伸したものを挿入し一
体化することにより、第１０図に示す屈折率分布をもつ
単一モード光ファイバ用プリフォームを得た。図中ルは
４ｆｉφ、ヲは５９ｍｍφであった。
のガラス微粒子堆積体に実施例１において複合体（ｎ）
に施したのと同様の第１の加熱処理及び第２の加熱処理
を施した。その結果第９図に示すように中心部比屈折率
差０．３％、最外周部分比屈折率差０．０４ ％の屈折
率分布構造を持った透明ガラス母材９２を得た。透明ガ
ラス母材９２の外径又は６０瓢φ、長さは２５０瓢であ
った。この透明ガラス母材の中心に超音波研削機により
５■φの穴をあけたのちｖＡＤ法で作成した純粋石英棒
を抵抗炉により４ｍｒφにまで延伸したものを挿入し一
体化することにより、第１０図に示す屈折率分布をもつ
単一モード光ファイバ用プリフォームを得た。図中ルは
４ｆｉφ、ヲは５９ｍｍφであった。
このプリフォームを実施例１と同様の条件にて線引、被
覆したのち、２％張力のスクリ＝ングテストを行ったそ
の結果、平均スクリーニング通過長が１１．２ｋｍと非
常に高い強度を有していた。
覆したのち、２％張力のスクリ＝ングテストを行ったそ
の結果、平均スクリーニング通過長が１１．２ｋｍと非
常に高い強度を有していた。
比較例１
実施例１における複合体（Ｉｎの加熱処理において本発
明によらず８Ｆ８４０ＱＣ１１，７分、Ａｔ２０ｔ／分
を供給した。１６００℃の炉中に２ ｍｍ ７分で挿入
する方法によシフッ素を添加し透明化した。得られた母
材の屈折率分布を第１１図に示す。図中ワは２．６駕φ
、力は３８鵡φであった。
明によらず８Ｆ８４０ＱＣ１１，７分、Ａｔ２０ｔ／分
を供給した。１６００℃の炉中に２ ｍｍ ７分で挿入
する方法によシフッ素を添加し透明化した。得られた母
材の屈折率分布を第１１図に示す。図中ワは２．６駕φ
、力は３８鵡φであった。
該母材を実施例１，２と同様に線引、被覆したのちスク
リーニングテストを行った結果、平均スクリーニング通
過長は４６ ｋｍとなり、本発明を用いた実施例１，２
に比べ強度的に劣っていた。
リーニングテストを行った結果、平均スクリーニング通
過長は４６ ｋｍとなり、本発明を用いた実施例１，２
に比べ強度的に劣っていた。
比較例２
比較例１で作成した母材をさらに延伸し、市販の天然石
英管に挿入一体化し第１２図に示す屈折率分布構造をも
つ母材を作成した。図中ヨは４１１１Ｉφ、夕は５９ｍ
φであった。これを実施例１，２、比較例２と同様の条
件で線引被覆したのちスクリーニングテストを行った結
果、平均スクリーニング通過長は＆２ｋｍであった。
英管に挿入一体化し第１２図に示す屈折率分布構造をも
つ母材を作成した。図中ヨは４１１１Ｉφ、夕は５９ｍ
φであった。これを実施例１，２、比較例２と同様の条
件で線引被覆したのちスクリーニングテストを行った結
果、平均スクリーニング通過長は＆２ｋｍであった。
比較例３
比較例２で使用した天然石英管の代シに合成石英管を使
用した場合平均スクリーニング通過長は１ａ３ｋＩＩ１
１であった。
用した場合平均スクリーニング通過長は１ａ３ｋＩＩ１
１であった。
以上の実施例、比較例から明らかなように、本発明を利
用して作成した光ファイバは非常に高い強度を持つ。
用して作成した光ファイバは非常に高い強度を持つ。
冑、実施例では、コアが純粋石英からなる単一モードフ
ァイバの母材製法のみを記しているが、コア部に必要に
応じて他の酸化物等を含有させても所望の伝送特性上問
題とならないかぎυなんら支障はない。またガラス微粒
子集合体部の合成を容易にする為等の理由でフッ素を添
加すべき部分にＰ２Ｏ５等が含有されていても問題はな
い。
ァイバの母材製法のみを記しているが、コア部に必要に
応じて他の酸化物等を含有させても所望の伝送特性上問
題とならないかぎυなんら支障はない。またガラス微粒
子集合体部の合成を容易にする為等の理由でフッ素を添
加すべき部分にＰ２Ｏ５等が含有されていても問題はな
い。
（発明の効果）
本発明方法は、クラッド部にはフッ素を含有するが、最
外層部にはフッ素を含まない石英ガラス層を簡単確実に
、かつ従来法よシ少ない工程で形成でき、有利である。
外層部にはフッ素を含まない石英ガラス層を簡単確実に
、かつ従来法よシ少ない工程で形成でき、有利である。
さらに得られたファイバの強度は優れたものである。
第１図（ａ）と（ｂ）は本発明の方法により得られる棒
状石英ガラスの７濃度分布と屈折率分布例を示す概念図
、第２図および第３図は本発明によらない母材の屈折率
分布例を示す概念図、第４図は実施例１で用いられたガ
ラス微粒子層合成装置を示す概念図、第５図ないし第１
２図は実施例１，２、比較例１，２、での光ファイバ用
プリフォームの中間製品の構造および又は屈折率分布を
示す概念図であって、 第５図：実施例１の複合体（Ｉｌｌの構造図。 第６図：実施例１の透明ガラス体（１）の構造及び屈折
率分布図。 第７図：実施例１の複合体（ｎ）の構造図。 第８図：実施例１で得た光ファイバ母材の構造及び屈折
率分布図。 第９図：実施例２の透明ガラス母材の構造及び屈折率分
布図。 第１０図：実施例２で得た単一モード光ファイバ用プリ
フォームの屈折率分布図。 第１１図：比較例１で得だ光ファイバ母材の屈折率分布
図、 第１２図：比較例２で得た光ファイバ母材の屈折率分布
図。
状石英ガラスの７濃度分布と屈折率分布例を示す概念図
、第２図および第３図は本発明によらない母材の屈折率
分布例を示す概念図、第４図は実施例１で用いられたガ
ラス微粒子層合成装置を示す概念図、第５図ないし第１
２図は実施例１，２、比較例１，２、での光ファイバ用
プリフォームの中間製品の構造および又は屈折率分布を
示す概念図であって、 第５図：実施例１の複合体（Ｉｌｌの構造図。 第６図：実施例１の透明ガラス体（１）の構造及び屈折
率分布図。 第７図：実施例１の複合体（ｎ）の構造図。 第８図：実施例１で得た光ファイバ母材の構造及び屈折
率分布図。 第９図：実施例２の透明ガラス母材の構造及び屈折率分
布図。 第１０図：実施例２で得た単一モード光ファイバ用プリ
フォームの屈折率分布図。 第１１図：比較例１で得だ光ファイバ母材の屈折率分布
図、 第１２図：比較例２で得た光ファイバ母材の屈折率分布
図。
Claims (1)
- １）酸化硅素を主成分とするガラス微粒子集合体を加熱
処理して、透明ガラス体とする工程を含む光ファイバ用
母材の製造方法において少なくとも、（１）フッ素或い
はフッ素化合物を含む雰囲気中で上記ガラス微粒子集合
体にフッ素を添加せしめるための第１の加熱処理および
、（２）該ガラス微粒子の外周部に含有されていたフッ
素を外部に揮散させるための第２の加熱処理、とを該ガ
ラス微粒子集合体に施すことを特徴とする、光ファイバ
母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23667884A JPS61117128A (ja) | 1984-11-12 | 1984-11-12 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23667884A JPS61117128A (ja) | 1984-11-12 | 1984-11-12 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61117128A true JPS61117128A (ja) | 1986-06-04 |
| JPS6256093B2 JPS6256093B2 (ja) | 1987-11-24 |
Family
ID=17004157
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23667884A Granted JPS61117128A (ja) | 1984-11-12 | 1984-11-12 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61117128A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1181253A1 (en) * | 1999-03-30 | 2002-02-27 | Corning Incorporated | Method of controlling fluorine doping in soot preforms |
| JP2002148465A (ja) * | 2000-08-28 | 2002-05-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバ、光ファイバ母材の製造方法、及び光ファイバの製造方法 |
| EP1221430A2 (en) * | 2001-01-05 | 2002-07-10 | Lucent Technologies Inc. | Process of manufacturing fluorine-doped preforms for optical fibres |
-
1984
- 1984-11-12 JP JP23667884A patent/JPS61117128A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1181253A1 (en) * | 1999-03-30 | 2002-02-27 | Corning Incorporated | Method of controlling fluorine doping in soot preforms |
| EP1181253A4 (en) * | 1999-03-30 | 2004-12-15 | Corning Inc | METHOD FOR REGULATING FLUORINE DOPING IN SOOT PREFORMS |
| JP2002148465A (ja) * | 2000-08-28 | 2002-05-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 光ファイバ、光ファイバ母材の製造方法、及び光ファイバの製造方法 |
| EP1221430A2 (en) * | 2001-01-05 | 2002-07-10 | Lucent Technologies Inc. | Process of manufacturing fluorine-doped preforms for optical fibres |
| EP1221430A3 (en) * | 2001-01-05 | 2003-01-08 | Lucent Technologies Inc. | Process of manufacturing fluorine-doped preforms for optical fibres |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6256093B2 (ja) | 1987-11-24 |
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