JPS61115048A - ブタジエンの3‐ペンテン酸へのヒドロカルボキシル化方法 - Google Patents

ブタジエンの3‐ペンテン酸へのヒドロカルボキシル化方法

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JPS61115048A
JPS61115048A JP60248147A JP24814785A JPS61115048A JP S61115048 A JPS61115048 A JP S61115048A JP 60248147 A JP60248147 A JP 60248147A JP 24814785 A JP24814785 A JP 24814785A JP S61115048 A JPS61115048 A JP S61115048A
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    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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    • C07C51/14Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by reaction with carbon monoxide on a carbon-to-carbon unsaturated bond in organic compounds

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、ロジウム含有触媒、よう化物促進剤及び塩
化メチレンのような特定の不活性八口炭素溶媒の存在下
で、ブタジェンを一酸化炭素及び水によってヒドロカル
ボキシル化する3−ペンテン酸の製造方法に関する。
[従来の技術] 米国特許第3,876.695号<1975年4月8日
付、 N1colaus Van  KtltepOW
)は、触媒系としてハロゲンを含まず又は結合ハロゲン
と共に特定のロジウムカルボニル錯体を用いブタジェン
、−酸化炭素及び水の反応によりアジピン酸を製造する
方法を開示している。特許権者は、この系でアジピン酸
に対して非溶媒である溶媒の使用の有利性を開示し、実
施可能なものとしてキシレン等の芳香族炭化水素、シク
ロヘキナン等の飽和脂環族炭化水素、飽和脂肪族炭化水
素、特に炭素原子数8−12のものを挙げている。特許
権者はこの方法を連続的に実施する場合水溶液中の触媒
の導入を示唆している。第1欄10−50行では特許権
者はカルボニル化を経由する酸及びエステルの製造につ
いて代表的な技術を論じている。
米国特許第4.172.087号(1979年10月2
3日付、 J、 F、 Knifton)は、とドロキ
シル化共反応体、二重作用パラジウム触媒及び第3窒素
含有塩基の存在下1.3−ブタジェン等のオレフィンの
カルボニル化及び同時に起こる二量体化により不飽和カ
ルボン酸のエステル誘導体及び酸を製造する方法を開示
している。ブタジェンの反応は3−ペンテン酸及び3.
8−ノナジェン酸及びそれらの対応するエステル誘導体
を製造することを教示している。特許権者はこの反応を
溶媒の存在下で行なうことの望ましさ及び/又は効果に
ついては論じていない、触媒系はパラジウム塩を安定化
するため第VB族の配位子の存在を必要とする。これら
の配位子に含まれるものにはビス(1,2−ジフェニル
フォスフイノ)エタン等の多くの燐含有化合物がある。
欧州特許第0075524号(1983年3月30日発
行、 Rhone−Poulenc  Chisie 
De3ase)は、パラジウム触媒とハライド促進剤を
用いて共役ジエンのカルボニル化して対応するエステル
を製造することによるベータ、ガンマ 不飽和カルボン
酸の製造方法を開示している。
3−ペンテン酸の製造はイミアニトフ等の論文(I m
yanitov et al、 Karbonilir
ovonie N enasyshchennykh 
IJ glevodorodov (1968)  2
25−32゜0A71ノ16484 )で論じられ、そ
の一部は英国特許第1.092,694号(1965年
2月4日発行)に示されている9反応はピリジン溶媒中
で120−500気圧の圧力下コバルト カルボニル触
媒について研究されている。著者は水に関するオーダー
が反応混合物が等モル量の水を含むときのOから13倍
過剰の水における−1まで変化することを指摘している
。コバルト触媒を用いる3−ペンテン酸のエステルの製
造はドイツ特許023040432号(1981年6月
19日発行)に開示されている。ロジウム触媒を用いる
ヒドロカルボキシル化は論文(MeCaniStiCp
athwaysin the  Catalysis 
of 0lefin Hydrocarboxylat
ion  by   Rhodiu−、I  rldi
ul、  and  Cobalt  Co5plex
es、  D、  Forster  et  al、
  Catal、  Rev、−3ci、 Eno。2
3 (12) p 89−105 (1981) )で
論じられている。
米国特許第3.579.552号は、ロジウム触媒とよ
う化物促進剤とを使用してオレフィン及び他のエチレン
性不飽和化合物からカルボン酸を製造することを開示し
ている。第8欄31−42行に、特許権者は、過剰の水
は、特許の教示によれば、オレフィン自体又はカルボン
酸を溶媒として用いて行なう反応にとって有利であるこ
とを開示している1例9はブタジェンの反応に対して溶
媒として酢酸の使用を示している。全ての場合において
生成物の重要なパーセントはわかれている。
[発明の概要] この発明は、ロジウム含有触媒、よう化物促進剤及び塩
化メチレン等の炭素原子数1−2の特定のハロ炭素溶媒
の存在下、100−220℃の範囲の温度及び2O−2
00at■の範囲の圧力で。
ブタジェン、−酸化炭素及び水の反応により3−ペンテ
ン酸を製造する方法である9反応媒体における水の壷は
、触媒活性を維持し高収率を確保するために反応媒体の
重量を基準にして約4.5%以下好ましくは3.5%よ
り少なく維持する。
[発明の構成] オレフィンのヒドロカルボキシル ブタジェンから直接にアジピン酸及びアジピン酸エステ
ルの製造が強調されてきた。これらの化合物がナイロン
重合体の中間体であるからである。
アジピン酸等の所望の線状最終製品の収量は反応を2工
程で行なうと改善されることが発見された.第一工程で
3−ペンテン酸が製造され,次いで第二工程でアジピン
酸にヒドロカルボキシル化する。この出願は第一工程即
ち比較的温和な条件で非常に高い収率での3−ペンテン
酸の製造に関する.更に,線状3−ペンテン酸の選択性
はこの反応においては極めて高く,主要なカルボニル化
副産物として2−メチル−3−ブテン酸を伴いほとんど
の場合95−97%を超える。
この方法の反応体源は特に臨界的ではない.市場で入手
できるグレードの一酸化炭素及びブタジェンで全く充分
である。
反応はかなり広い温度範囲に厘っで行なえるが。
比較的温和な条件が好ましい.満足な収率は100−2
20℃好ましくは1 00−1 60℃の範囲の温度で
得られる.この範囲の上端以上の温度はブタジェンの3
−ペンテン酸への変換の重要な減少をもたらし.この範
囲の下端以下の温度では反応はおそすぎて経済的でない
比較的温和な圧力,即ち20−200好ましくは2 5
 − 7 5 at+gの範囲が申し分ない.−酸化炭
素の分圧は通常は10−2008t■好ましくは13−
70atm(7)範囲t.:m持する。
使用する触媒先駆体は妨害配位子特にピデンテート フ
ォスフイン及び窒素配位子を含まない任意のロジウム錯
体を用いることができる.ロジウム錯体は例えば次のも
のがある.塩化ロジウム(III)−RhCI3・3H
20,よう化ロジウム(III)−Rh夏s,ロジウム
 カルボニルアイオダイド−Rh (Go)ルI3(N
−2−3)、硝酸ロジウム(I I I)−Rh (N
O3 )s・2H2 0,ドデカカルボニルテトラロジ
ウム(0)−Rh+  (Coat 2 、アセチルア
セトナートジカルボニルロジウム( 1 )−R h(
Go>。
(C5 H7 02 ) 、りOロビス(エチレン)ロ
ジウム(1)ダイマー[Rh (C2 H4 )2 C
 l ]、。
アセチルアセトナート(1.5−シクロオクタジエン)
ロジウム(1) −Rh (Go Ht 2 )(Cs
 Hy 02 ) 、クロロカルボニルビス(トリフェ
ニルフォスフイン)ロジウム(1)−RhCI (Co
)(PPhヨ)2,ヘキサデカカルボニルへキサロジウ
ム(0)−Rhs  (Go)r s 。
トリス(アセチルアセトナート)ロジウム(Ill)−
Rh (CS H7 02 )3 、ロジウム(I I
)tクトt−ト ダイ? −Rh2 [CO2 (CH
2 )。
CH3]4.クロロジカルボニルロジウム(I)ダイマ
ー[Rh (Go)2 ClF2 、クロロ(1.5−
クロロオクタジエン)ロジウム(1)ダイマー[Rh 
(Cg Hr 2 )ClF3 、アセチルアセトナー
トビス(エチレン)ロジウム(1)−Rh (C2 H
4 )2  (C5 Hy 02 )及びロジウム(I
 I)アセテート ダイマーRhz(CotCHコ)4
触媒先駆体の濃度は臨界的ではないが,反応媒体の重量
を基準にしてロジウム金属0.04−0、16%の範囲
に維持するのが通常である.触媒は,予め形成してお(
こともできるし、その場で形成することもできるが.満
足できる反応速度を得るには好ましくはよう化物によっ
て促進しなければならない.よう化水素は好ましいよう
化物源であるが.よう化メチルのような炭素原子数1−
10のよう化アルキルは.特に高い反応温度において適
した促進剤である.他の適当な促進剤には.イオドエタ
ン,1ーイオドプタン,2−イオドプロバン,1ーイオ
ドプロバン及びイオドヘブタンが含まれる.上記のこと
から明らかであると信じられるが,促進剤及びロジウム
はよう化ロジウムのように同一化合物に存在することも
できる。
一般には.促進剤の濃度は反応媒体の重量を基準にして
よう化物0.1−1.01量%の間であり。
少なくとも3.0/1のロジウムに対するモル比である
反応は、溶媒の存在下で行われる。溶媒の選択はこの発
明にとって臨界的である。ピリジン、ジメチルフォルム
アミド及びジメチルスルフオキシド等の配位性溶媒及び
N−メチルピロリドンはロジウムの□活性点を封鎖する
ので避けるべきである。
水溶液中の酢酸のような溶媒も好ましくない、シクロヘ
キセン及びトルエン等の非極性溶媒は好ましくない、ブ
タジェンのブテンへの還元を生じるシフト反応を促進す
るからである。一般に、溶媒は反応体に本質的に不活性
で加水分解抵抗性でなければならない、好ましい溶媒に
は、塩化メチレン、1.1.2.2−テトラクロロタン
、1.1゜2−トリクロロエタン、1.1−ジクロロエ
タン。
クロσフォルム及び四塩化炭素等の炭素原子数1−2の
飽和ハロ炭素溶媒が含まれる6塩化メチレンが好ましい
、テトラクロロエチレンのような不飽和八口炭素溶媒は
ブタジェンの消費は極めて高いが非常に低い収率で3−
ペンテン酸を生成する。
使用する溶媒の量は1反応混合物の重量を基準にして5
0−99重量%のように広い範囲に亙って変わり得るが
通常は80−99%好ましくは85−95%である。
反応媒体における水の量はこの発明にとって臨界的であ
り、溶媒の重量を基準にして4.5重量%を超えてはな
らない、好ましくは水の水準は同一基準で3.5%より
少なく維持する0反応はバッチ式でも連続式でも行なう
ことができる。
[実施例1 次にあげる例はこの発明を説明するためのものであり、
限定するためのものではない9部及びパーセントは特に
指摘しない限り重量基準のものである。
例1 ハステロイ−C製の300ント機械攪拌反応器を窒素で
次いで高純度の一酸化炭素でフラッシュし。
次いでクロO(1,5−シクロオクトジエン)ロジウム
(1)  ダイア0.37gを含む塩化メチレン130
mを仕込んだ6反応器を閉じ、ドデカン(内部標準とし
て)10g及び2.6−ジーを一ブチルー4−メチルフ
エノル(重合禁止剤)10IIgを含むブタジェン14
.2Q及び塩化メチレン10dの溶液を5.4atmの
圧力で反応器に注入した。ブタジェンの導入後2反応器
中の圧力を一酸化炭素で4001)Siに上げ、内容の
温度が140℃に上がるまで加熱し9反応器に水5.4
3Q中よう化水素0.57gの溶液を注入した。この注
入が完了した後1反応器の圧力を一酸化炭素で47.5
atmに上げヒドロカルボキシル化中この圧力と140
℃の温度に維持した。約8分後−酸化炭素の消費が始ま
り貯蔵シリンダ内の圧力低下を測定して監視した。5時
間後反応が終了し一酸化炭素の吸収が停止した。−酸化
炭素の理論量の84.7%に当たる0反応器を約20℃
に冷却し反応器を徐々に大気圧に排気して反応器の内容
を回収した0反応器の内容を取出し9反応器を110℃
に加熱したテトラヒドロフラン200ateで先ず洗浄
し2次いで室温においてテトラヒドロフラン150dで
洗浄した。仕込みブタジェンを基準にして3−ペンテン
酸への変換79゜0%及び2−メチル−3−ブテン酸0
.5%未満が得られた。−酸化炭素消費から計算した変
換(84,7%)を基準にすると、3−ペンテン酸の収
率は93.3%であった8分析によると。
少量のアジピン酸(1,49%変換)及びアルファーメ
チルグルタル酸(1,30%変換)をも示した6反応器
の蒸気空間の分析は、ブタジェンの当初濃度7゜43容
量%を示し、0.11% 1−ブテン、0.27% 2
−ブテン及び2.1%二酸化炭素の生成と共に1.45
%の最終濃度を示した。この結果は約5.6%のブタジ
ェンからブテンへの還元に対応する。気相及び液相分析
によって他の生成物は検出しなかった。一般的な結果は
表に示しである。
例2−7 表に示すようにブタジェンの量を減らし温度及び圧力を
変えた他は9例1を繰返した。
例8−11 表に示すようによう化水素促進剤と共に導入すろ水の口
を変えた他は1例1を繰返した。
例12 塩化メチレンを1.1.2.2−テトラクロロエタンで
置換えた他は1例1を繰返した、結果は表に示しである
、 例13−15 触媒先駆体、クロロ(1,5−シクロオクトジエン)ロ
ジウム(I)ダイマの代わりに表示した触媒先駆体を用
いた他は2例1を繰返した。結果は表に示しである。
例番号      触媒先駆体 13  メトキシ(1,5−シクロオクタジエン)ロジ
ウム(I)  ダイマー [Rh (COD ) 0M8 ] 214  ヘキサ
ロジウム へキサデカカルボニル− Rhs  (Go)1G 15  クロロカルボニルビス(トリフェニルフォスフ
イン)ロジウム(1)− RhCI (Co)(PPh3 >2 例16 例1の方法を次のように変更してよう化メチル促進剤を
用いた6反応器によう化メチル4.26q、ドデカン(
内部GC標準)10q、ブタジェン8.3Q、水6.O
Q及び塩化メチレン溶媒140d!を仕込んだ0反応器
を一酸化炭素で48atIlに加圧し前述したように1
40℃に加熱した。
塩化メチレン10III中0.37Qのり00 (1゜
5−シクロオクタジエン)ロジウム(1)ダイマの溶液
を添加して反応が開始した。約2時間後。
−酸化炭素の消費が始まった9反応は5時間後に終了し
た。生成物は例1のように回収した。結果は表にまとめ
である。
例17 反応を水6.0d!中0.40(7)RHo 13 ・
3H20の溶液を添加して開始した他は1例16を繰返
した。−酸化炭素の吸収が理論値の50%に達するまで
に約3.5時間を要した、−酸化炭素の吸収が停止した
後に反応が終了した。生成物は例1に示したように回収
した。結果は表にまとめである。
−一ミi 1      140     47.6     1
9        14.22           
          1.4          &3
3             684)       
           7.94          
    27                  8
.65             204      
           8.16      100 
    47ty                 
 8B7      160            
            8f19         
           1.8         84
10                     42
         8.111           
  #      53(d)       2BA1
2                      1.
4          8.115         
                         
 8.1(al−添加ブタノエフ1モル当シ生成する生
成物のモル数(bl−溶媒重量基準。
(c) −当初容It−4’−セントブタジェンのパー
七ンテージ(d)−反応当初に約40%添加し残部を一
定速度で2時間に79.0       2B    
    S、6      2.164.7     
  0.9       3.7      1.08
0.1       21       2.1   
   0.558゜7       8.6     
  349      2石34.0       5
.7       9.9      2954石  
     0        1JII       
O,356,3453,1 63,47,06B       1.638J3  
     0        54      1.1
674       1.4       4.0  
    2.157J3       5.7    
   34      1.2635       0
        31       3.15S0  
     0        33      335
1.7        0        12.1 
      2371.6       2J    
    2D       2D54β       
 lj         IJ        1.8
X  100゜ 互りて添加。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)炭素原子数1−2の不活性ハロ炭素溶媒中で、ブ
    タジエンと一酸化炭素及び水を、ロジウム含有触媒及び
    よう化物促進剤の存在下100−220℃の範囲の温度
    で20−200atmの範囲の圧力下水の量を溶媒の重
    量を基準にして約4.5重量より少なく維持しながら接
    触させることを包含する3−ペンテン酸の製造方法。
  2. (2)水を約3.5%より少なく維持する特許請求の範
    囲第1項記載の方法。
  3. (3)よう化物化合物がよう化水素である特許請求の範
    囲第1項記載の方法。
  4. (4)溶媒が塩化メチレンである特許請求の範囲第1項
    記載の方法。
  5. (5)溶媒が塩化メチレンである特許請求の範囲第2項
    記載の方法。
  6. (6)溶媒が塩化メチレンである特許請求の範囲第3項
    記載の方法。
  7. (7)温度を100−160℃の範囲に維持し、かつ、
    圧力を25−70atmに維持する特許請求の範囲第5
    項記載の方法。
  8. (8)温度を100−160℃の範囲に維持し、かつ、
    圧力を13−70atmに維持する特許請求の範囲第5
    項記載の方法。
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