JPS61113134A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS61113134A JPS61113134A JP23374084A JP23374084A JPS61113134A JP S61113134 A JPS61113134 A JP S61113134A JP 23374084 A JP23374084 A JP 23374084A JP 23374084 A JP23374084 A JP 23374084A JP S61113134 A JPS61113134 A JP S61113134A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は非磁性支持体上に磁気記録層として斜方入射蒸
着法による強磁性金属薄膜を設けてなる磁気記録媒体の
製造方法に関し、とくに耐候性および耐久性が改良され
た磁気記録媒体の製造方法に関する。
着法による強磁性金属薄膜を設けてなる磁気記録媒体の
製造方法に関し、とくに耐候性および耐久性が改良され
た磁気記録媒体の製造方法に関する。
従来よシ磁気記録媒体としては、非磁性支持体上にＴ−
Ｆｅ２０３、ＣｏをドープしたｒＦｅ２Ｏ３、Ｆ ｅ
３０４、ＣｏｆドープしたＦ ｅ ３０４、γ−Ｆｅ２
Ｏ３とＦ ｅ ３０４のベルトライド化合物、ＣｒＯ２
等の磁性粉末あるいけ強磁性合金粉末等を粉末磁性材料
を塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタジ
ェン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有
機バインダー中に分散せしめたものを塗布し乾燥させる
塗布型のものが広く使用されてきている。近年高密度記
録への要求の高まシと共に真空蒸着、スパッタリング、
イオンブレーティング等のペーパーデポジション法ある
いけ電気メッキ、無電解メッキ等のメッキ法によシ形成
される強磁性金属薄膜を磁気記録層とする。バインダー
を使用しない、いわゆる非バインダー型磁気記録媒体が
注目を浴びてお如実用化への努力が種々性なわれている
。
Ｆｅ２０３、ＣｏをドープしたｒＦｅ２Ｏ３、Ｆ ｅ
３０４、ＣｏｆドープしたＦ ｅ ３０４、γ−Ｆｅ２
Ｏ３とＦ ｅ ３０４のベルトライド化合物、ＣｒＯ２
等の磁性粉末あるいけ強磁性合金粉末等を粉末磁性材料
を塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタジ
ェン共重合体、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有
機バインダー中に分散せしめたものを塗布し乾燥させる
塗布型のものが広く使用されてきている。近年高密度記
録への要求の高まシと共に真空蒸着、スパッタリング、
イオンブレーティング等のペーパーデポジション法ある
いけ電気メッキ、無電解メッキ等のメッキ法によシ形成
される強磁性金属薄膜を磁気記録層とする。バインダー
を使用しない、いわゆる非バインダー型磁気記録媒体が
注目を浴びてお如実用化への努力が種々性なわれている
。
従来の塗布型の磁気記録媒体では主として強磁性金属よ
シ飽和磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ているため、高密度記録に必要な薄形化が信号出力の低
下をもたらすため限界にきておシ、かつその製造工程の
複雑で、溶剤回収あるいは公害防止のための大きな附帯
設備を要するという欠点を有している。非バインダー型
の磁気記録媒体では上記酸化物より大きな飽和磁化を有
する強磁性金属をバインダーのごとき非磁性物質を含有
しない状態で薄膜として形成せしめるため、高密度記録
化のために超薄形にできるという利点を有し、しかもそ
の製造工程はより簡略化される。
シ飽和磁化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用し
ているため、高密度記録に必要な薄形化が信号出力の低
下をもたらすため限界にきておシ、かつその製造工程の
複雑で、溶剤回収あるいは公害防止のための大きな附帯
設備を要するという欠点を有している。非バインダー型
の磁気記録媒体では上記酸化物より大きな飽和磁化を有
する強磁性金属をバインダーのごとき非磁性物質を含有
しない状態で薄膜として形成せしめるため、高密度記録
化のために超薄形にできるという利点を有し、しかもそ
の製造工程はより簡略化される。
真密度記録用の磁気記録媒体に要求される条件の一つと
して、高抗磁力化、薄層化が理論的にも実験的にも提唱
されており、塗布型の磁気記録媒体よりも一桁小さい薄
膜化が容易で、飽和磁束密度も大きい非バインダー型磁
気記録媒体への期待は大きい０ ゛ とくに真空蒸着による方法はメッキの場合のような
排液処理を必要とせず製造工程も簡単で膜の析出連間も
大きくできるため非常にメリットが大きい。真空蒸着に
よって磁気記録媒体に望ましい抗磁力および角型比を有
する磁性膜を製造する方法としては、米国特許３３グコ
４３２号、同３３４ｔ２≦３３号等に述べられている斜
め蒸着法が知られている。
して、高抗磁力化、薄層化が理論的にも実験的にも提唱
されており、塗布型の磁気記録媒体よりも一桁小さい薄
膜化が容易で、飽和磁束密度も大きい非バインダー型磁
気記録媒体への期待は大きい０ ゛ とくに真空蒸着による方法はメッキの場合のような
排液処理を必要とせず製造工程も簡単で膜の析出連間も
大きくできるため非常にメリットが大きい。真空蒸着に
よって磁気記録媒体に望ましい抗磁力および角型比を有
する磁性膜を製造する方法としては、米国特許３３グコ
４３２号、同３３４ｔ２≦３３号等に述べられている斜
め蒸着法が知られている。
しかしながら、強磁性金属薄膜から成る磁気記録媒体に
かかわる大きな問題として腐蝕がある◇磁気記録媒体の
保存中に腐蝕等による経時変化によって記録された信号
の減少あるいは消失のないことが要求される。さらに非
バインダー型磁気記録媒体に係わる問題として耐久性が
ある。ＶＴＲでのスチル耐久性等について、蒸着による
磁気記録媒体は従来の塗布型磁気記録媒体に比し劣るた
めその改良が実用上強く望まれている。
かかわる大きな問題として腐蝕がある◇磁気記録媒体の
保存中に腐蝕等による経時変化によって記録された信号
の減少あるいは消失のないことが要求される。さらに非
バインダー型磁気記録媒体に係わる問題として耐久性が
ある。ＶＴＲでのスチル耐久性等について、蒸着による
磁気記録媒体は従来の塗布型磁気記録媒体に比し劣るた
めその改良が実用上強く望まれている。
真空蒸着による磁気記録媒体における耐候性を改良する
方法の一つとして従来のＣＯあるいはＣｏＮｉ系の磁性
薄膜にＣｒを適量添加する方法が特開昭ｒ７−／Ｊ−グ
θ７号、特開昭！７−コ／３０り号、特開昭！ターｔ１
０／Ｊ号、特開昭ｊデーぶ１０／４を号、特開昭よデー
４Ｉ１０ｒ号、特開昭！？−乙！９２７号、特開昭ｊ７
−６ぶ７０６号、特開昭！ターフ４ｔ４０ｊ号、特開昭
！デー７４ｔに０ｇ号、特開昭！ターフ４ｔ６号、特開
昭ｊ？−７ｊグー７ｊダ特開昭！？−′７お一７号号に
開示されている。しかしながらＣｒを添加する方法は耐
候性は改良されるものの耐久性が劣シ、耐久性を改良す
るためにＣｒに加え酸素を磁性膜中に含有させると耐候
性が劣化してしまうため実用上問題であシ、耐候性と耐
久性の両立するような蒸着法による磁気記録媒体が必要
とされてきた。
方法の一つとして従来のＣＯあるいはＣｏＮｉ系の磁性
薄膜にＣｒを適量添加する方法が特開昭ｒ７−／Ｊ−グ
θ７号、特開昭！７−コ／３０り号、特開昭！ターｔ１
０／Ｊ号、特開昭ｊデーぶ１０／４を号、特開昭よデー
４Ｉ１０ｒ号、特開昭！？−乙！９２７号、特開昭ｊ７
−６ぶ７０６号、特開昭！ターフ４ｔ４０ｊ号、特開昭
！デー７４ｔに０ｇ号、特開昭！ターフ４ｔ６号、特開
昭ｊ？−７ｊグー７ｊダ特開昭！？−′７お一７号号に
開示されている。しかしながらＣｒを添加する方法は耐
候性は改良されるものの耐久性が劣シ、耐久性を改良す
るためにＣｒに加え酸素を磁性膜中に含有させると耐候
性が劣化してしまうため実用上問題であシ、耐候性と耐
久性の両立するような蒸着法による磁気記録媒体が必要
とされてきた。
本発明の目的は、すぐれた耐候性および耐久性を有する
金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法を提供するにある。
金属薄膜型磁気記録媒体の製造方法を提供するにある。
本発明は、移動する非磁性基体上に連続斜方蒸着法によ
シ強破性薄膜を形成したのち、該基体を移動させつつ該
強磁性薄膜表面を分圧１００．ｔ１７ｊＴｏｒｒの水蒸
気を含む雰囲気中にさらすことを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法、に関する。
シ強破性薄膜を形成したのち、該基体を移動させつつ該
強磁性薄膜表面を分圧１００．ｔ１７ｊＴｏｒｒの水蒸
気を含む雰囲気中にさらすことを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法、に関する。
本発明において連続斜方入射蒸着法とは基体表面の法線
に対し膜形成金属材料の蒸気流をある入射角θで入射さ
せ基体表面上に蒸着薄膜を析出させる方法である。本発
明においては斜方入射蒸着法によシ磁性薄膜を形成せし
める際、入射角θｍａｘにて斜方入射蒸着を開始し、基
体の移動と共に入射角θを連続的に減少させるように変
化させて入射角θｍｉｎにて磁性薄膜の析出を停止させ
るものである。
に対し膜形成金属材料の蒸気流をある入射角θで入射さ
せ基体表面上に蒸着薄膜を析出させる方法である。本発
明においては斜方入射蒸着法によシ磁性薄膜を形成せし
める際、入射角θｍａｘにて斜方入射蒸着を開始し、基
体の移動と共に入射角θを連続的に減少させるように変
化させて入射角θｍｉｎにて磁性薄膜の析出を停止させ
るものである。
本発明に用いられる磁性金属材料とし、ては、Ｆｅ１Ｃ
ｏ、Ｎｉ等の金属あるいはＦ ｅ −Ｃｏ 。
ｏ、Ｎｉ等の金属あるいはＦ ｅ −Ｃｏ 。
Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ。
Ｆ ｅ −Ｒｈ 、 Ｆ ｅ −Ｃｕ 、 Ｃｏ −Ｃ
ｕ 、 Ｃｏ −Ａｕ、ＩＣｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ１Ｃｏ
−Ｐｒ、Ｃ。
ｕ 、 Ｃｏ −Ａｕ、ＩＣｏ−Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ１Ｃｏ
−Ｐｒ、Ｃ。
−Ｇｄ゛、Ｃｏ−８ｍ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｎｉ−Ｃｕ。
Ｆｅ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｒ、Ｆｅ −Ｃｏ−
Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｒ１Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等の
強磁性合金である◇特に好ましいのはＣＯあるいはＣｏ
を７０重量％以上含有するような合金である。磁性金属
蒸着薄膜形成を酸素のような反応性ガスを含む雰囲気中
で行なってもよい。
Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｒ１Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ等の
強磁性合金である◇特に好ましいのはＣＯあるいはＣｏ
を７０重量％以上含有するような合金である。磁性金属
蒸着薄膜形成を酸素のような反応性ガスを含む雰囲気中
で行なってもよい。
本発明における蒸着とは、上記米国特許第３３タコご３
−２号の明細書等に述べられている通常の真空蒸着の他
、電界、磁界あるいは電子ビーム照射等によシ蒸気流の
イオン化、加速化等を行って蒸発分子の平均自由行程の
大きい雰囲気にて支持基体上に薄膜を形成させる方法を
も含むものであって、例えば特開昭タ／−／グ９００？
号明細書に示されているような電界蒸着法、特公昭グ３
−／／６．２ｊ号、特公昭４ｔ≦−コ０グ♂ダ号、特公
昭グロー２乙！７り号、特公昭ゲタ−４ｔｊ’１．３り
号、特開昭ダ９−ｊｊＪ’り０号、特開昭グ９−３４ｔ
４ｔｒＪ号、特開昭ダツー！３ｊ号公報に示されている
ようなイオン化蒸着法も本発明に用いられる。
−２号の明細書等に述べられている通常の真空蒸着の他
、電界、磁界あるいは電子ビーム照射等によシ蒸気流の
イオン化、加速化等を行って蒸発分子の平均自由行程の
大きい雰囲気にて支持基体上に薄膜を形成させる方法を
も含むものであって、例えば特開昭タ／−／グ９００？
号明細書に示されているような電界蒸着法、特公昭グ３
−／／６．２ｊ号、特公昭４ｔ≦−コ０グ♂ダ号、特公
昭グロー２乙！７り号、特公昭ゲタ−４ｔｊ’１．３り
号、特開昭ダ９−ｊｊＪ’り０号、特開昭グ９−３４ｔ
４ｔｒＪ号、特開昭ダツー！３ｊ号公報に示されている
ようなイオン化蒸着法も本発明に用いられる。
本発明に用いられる基体としてはポリエチレンテレフタ
レート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、三
酢酸セルロース、ポリカポネート、ポリエチレンナフタ
レートのようなプラスチックベースが好ましい。
レート、ポリイミド、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、三
酢酸セルロース、ポリカポネート、ポリエチレンナフタ
レートのようなプラスチックベースが好ましい。
本発明の方法による磁気記録媒体の強磁性薄膜上に潤滑
剤層を設けてもよい。潤滑剤としては、炭素数７２〜／
♂個の脂肪ｆＪ（ＲｔＣＯＯＨ，Ｒｔは炭素数／／〜／
７のアルキルまたはアルケニル基）；前記脂肪酸の金属
塩；シリコンオイル炭素数２〜２０個の−塩基性脂肪酸
と炭素数３〜／コ個の一価のアルコールから成る脂肪酸
エステル類から選ばれた少なくとも７種を含有するもの
が特に好ましい。
剤層を設けてもよい。潤滑剤としては、炭素数７２〜／
♂個の脂肪ｆＪ（ＲｔＣＯＯＨ，Ｒｔは炭素数／／〜／
７のアルキルまたはアルケニル基）；前記脂肪酸の金属
塩；シリコンオイル炭素数２〜２０個の−塩基性脂肪酸
と炭素数３〜／コ個の一価のアルコールから成る脂肪酸
エステル類から選ばれた少なくとも７種を含有するもの
が特に好ましい。
上記潤滑剤は、磁性膜上に０ 、 ｊ 〜２０ ｔｎｙ
７ｍ２塗役せしめるのがよく、潤滑剤の塗布は、必要
に応じて磁性膜上、あるいは支持体裏面に塗布して潤滑
剤を磁性膜上へ転写させるようにしても良い。
７ｍ２塗役せしめるのがよく、潤滑剤の塗布は、必要
に応じて磁性膜上、あるいは支持体裏面に塗布して潤滑
剤を磁性膜上へ転写させるようにしても良い。
本発明の方法による磁気記録媒体においては、必要に応
じ支持体裏面にいわゆるパック層を設けてもよい。
じ支持体裏面にいわゆるパック層を設けてもよい。
また、磁性金属蒸着膜と支持体との間、あるいは磁性蒸
着膜間に有機あるいは無機物からなる層を設けてもよい
。
着膜間に有機あるいは無機物からなる層を設けてもよい
。
以下に実施例によシ本発明を具体的に説明する。
本発明がこれらに限定されるものではないことはいうま
でもない。
でもない。
実施例−１
第１図に示す巻取シ式蒸着装置を用いて、実験を行なっ
た。
た。
高分子基体２／として２３μｍ厚ＰＥＴ（ポリエチレン
テレフタレート）ベースを用い、送出しローラλにセッ
トした。グロー室／／を３ Ｘ ／ ｙ３Ｔｏｒｒの真
空度に保ち、グロー放電電極／２ａに／ｋＶの直流電圧
を印加してベースコ０の表面にグロー放電処理を行なっ
た後、回転ドラム１０上で磁性金属材料Ｍを４ｔＯＯの
入射角でルツボ／３から斜方蒸着した。入射角はマスク
／！Ｉ／Ｃよシ設定した。磁性金属材料ＭとしてＣｏ・
８Ｎｉ・２ を用い、酸素導入口／７から酸素ガスを導
入して酸素分圧／×／θ−’Ｔｏｒｒで高分子基体−〇
に真空蒸着した。材料Ｍの加熱は電子ビーム照射装置／
ダにより行なわれる。
テレフタレート）ベースを用い、送出しローラλにセッ
トした。グロー室／／を３ Ｘ ／ ｙ３Ｔｏｒｒの真
空度に保ち、グロー放電電極／２ａに／ｋＶの直流電圧
を印加してベースコ０の表面にグロー放電処理を行なっ
た後、回転ドラム１０上で磁性金属材料Ｍを４ｔＯＯの
入射角でルツボ／３から斜方蒸着した。入射角はマスク
／！Ｉ／Ｃよシ設定した。磁性金属材料ＭとしてＣｏ・
８Ｎｉ・２ を用い、酸素導入口／７から酸素ガスを導
入して酸素分圧／×／θ−’Ｔｏｒｒで高分子基体−〇
に真空蒸着した。材料Ｍの加熱は電子ビーム照射装置／
ダにより行なわれる。
真空蒸着後、直ちに、該基体は処理室２λに通される。
処理室、２２に分圧２ｏＯＴｏｒｒとなるよう水蒸気を
導入した。
導入した。
処理室２２と蒸着室ダおよび巻取り室！は差圧室、２ｊ
、、２＆、コ！、λ６を介して連結している。
、、２＆、コ！、λ６を介して連結している。
処理室２−２の気圧調整は調整管３／を通して行なった
。処理後蒸着フィルムは巻取シローラ３に巻取られる。
。処理後蒸着フィルムは巻取シローラ３に巻取られる。
蒸着室グ、グロー室／コ、巻取り室！、差圧室コグ、コ
！、コイは排気ロアｇ、／♂、コ／１Ｊ？、３０によシ
真空排気される。
！、コイは排気ロアｇ、／♂、コ／１Ｊ？、３０によシ
真空排気される。
上記の水蒸気処理を施した後、該基体はグロー室／２を
経て、巻き取りローラー３で巻き取られた。
経て、巻き取りローラー３で巻き取られた。
こうして得られた磁気テープの耐候性をよび耐久性を測
定した。耐候性は発露型ウェザ−メーター（山崎精機研
究所Ｅ−／２ＷＧ型）中ｉ１？：、２４を時間保存後の
錆の発生状況を！段階評価により判定した。耐久性につ
いてはＶＨ８型ＶＴＲにてテープを７０分間スチルモー
ドにかけた後、磁性膜面のヘッドの傷発生状況を顕微鏡
観察し、これも！段階評価によシ判定した。
定した。耐候性は発露型ウェザ−メーター（山崎精機研
究所Ｅ−／２ＷＧ型）中ｉ１？：、２４を時間保存後の
錆の発生状況を！段階評価により判定した。耐久性につ
いてはＶＨ８型ＶＴＲにてテープを７０分間スチルモー
ドにかけた後、磁性膜面のヘッドの傷発生状況を顕微鏡
観察し、これも！段階評価によシ判定した。
実施例−２
実施例−１と同様にＣｏｏ・５Ｎｉｏ・２合金を真空蒸
着し、その後水蒸気処理を実施せず、グロー処理のみを
行なって巻き取ったロールを再び、直ちに送シ出しロー
ラーλから送シ出し、クーリングキャン／／を通した後
、差圧室−コにおいて水蒸気処理のみを実施した。
着し、その後水蒸気処理を実施せず、グロー処理のみを
行なって巻き取ったロールを再び、直ちに送シ出しロー
ラーλから送シ出し、クーリングキャン／／を通した後
、差圧室−コにおいて水蒸気処理のみを実施した。
上記処理は、基体を水蒸気分圧４ｔ！θＴｏ’ｒｒの雰
囲気中を１０ｍ／ｍｉｎの搬送速度で通すことにより行
なった。
囲気中を１０ｍ／ｍｉｎの搬送速度で通すことにより行
なった。
このようにして得られたサンプルを実施例−１と同様に
評価した。
評価した。
比較例−１
実施例−１と同様にＣｏｏ・８Ｎｉｏ・２合金を真空蒸
着した後、グロー処理のみを実施して巻き取った。この
ようにして得られたサンプルを実施例−１と同様に評価
した。
着した後、グロー処理のみを実施して巻き取った。この
ようにして得られたサンプルを実施例−１と同様に評価
した。
これらの結果を表に示した。
＊！段階評価による（ｊが最良）
このように本発明による方法で製造した磁気記録媒体は
耐候性ならびに耐久性にすぐれることが明らかである。
耐候性ならびに耐久性にすぐれることが明らかである。
なお、実施例−２では蒸着後水蒸気処理を蒸着機を用い
て行なったが、処理専用機を用いてもよい。
て行なったが、処理専用機を用いてもよい。
このように本発明による製造方法によυ得られる磁気記
録媒体は耐候性および耐久性の改良された金属薄膜型磁
気記轍媒体で、本タイプの磁気記録媒体の実用上のメリ
ットは大である。
録媒体は耐候性および耐久性の改良された金属薄膜型磁
気記轍媒体で、本タイプの磁気記録媒体の実用上のメリ
ットは大である。
第１図は本発明方法を実施する装置の一例を示す概略図
である。 ／・・・・・・蒸着装置 コ・・・・・・送出
しローラ３・・・・・・捲取シローラ ダ・・・・
・・蒸着室よ・・・・・・巻取室 ／／・・・・
・・回転ドラム／２・・・・・・グロー室 ／２
３・・・・・・グロー放１！電極／３・・・・・・ルツ
ボ ／４ｔ・・・・・・電子ビーム照射装置 ／！・・・
・・・マスク／呂・・・・・・排気口 ／７・・・
・・・酸素導入口Ｍ・・・・・・磁性金属材料 ２／・
・・・・・基 体２２・・・・・・処理室
である。 ／・・・・・・蒸着装置 コ・・・・・・送出
しローラ３・・・・・・捲取シローラ ダ・・・・
・・蒸着室よ・・・・・・巻取室 ／／・・・・
・・回転ドラム／２・・・・・・グロー室 ／２
３・・・・・・グロー放１！電極／３・・・・・・ルツ
ボ ／４ｔ・・・・・・電子ビーム照射装置 ／！・・・
・・・マスク／呂・・・・・・排気口 ／７・・・
・・・酸素導入口Ｍ・・・・・・磁性金属材料 ２／・
・・・・・基 体２２・・・・・・処理室
Claims (1)
- 移動する非磁性基体上に連続斜方蒸着法により強磁性薄
膜を形成したのち、該基体を移動させつつ該強磁性薄膜
表面を分圧１００〜４７５Ｔｏｒｒの水蒸気を含む雰囲
気中にさらすことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23374084A JPS61113134A (ja) | 1984-11-06 | 1984-11-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23374084A JPS61113134A (ja) | 1984-11-06 | 1984-11-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61113134A true JPS61113134A (ja) | 1986-05-31 |
Family
ID=16959831
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23374084A Pending JPS61113134A (ja) | 1984-11-06 | 1984-11-06 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61113134A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5440361A (en) * | 1993-09-03 | 1995-08-08 | The Walt Disney Company | Method for flattening acetate-based films using steam |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60236118A (ja) * | 1984-05-08 | 1985-11-22 | Sony Corp | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 |
-
1984
- 1984-11-06 JP JP23374084A patent/JPS61113134A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60236118A (ja) * | 1984-05-08 | 1985-11-22 | Sony Corp | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5440361A (en) * | 1993-09-03 | 1995-08-08 | The Walt Disney Company | Method for flattening acetate-based films using steam |
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