JPS61111524A - 縦形半導体熱処理炉 - Google Patents
縦形半導体熱処理炉Info
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- JPS61111524A JPS61111524A JP23239784A JP23239784A JPS61111524A JP S61111524 A JPS61111524 A JP S61111524A JP 23239784 A JP23239784 A JP 23239784A JP 23239784 A JP23239784 A JP 23239784A JP S61111524 A JPS61111524 A JP S61111524A
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- Japan
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- shaft
- furnace
- vertical
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B9/00—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity
- F27B9/04—Furnaces through which the charge is moved mechanically, e.g. of tunnel type; Similar furnaces in which the charge moves by gravity adapted for treating the charge in vacuum or special atmosphere
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野］
本発明は縦形半導体熱処理炉の改良に関するものである
。
。
［従来の技術１
従来から拡散炉として知られている半導体熱処理炉には
、横形炉が多く用いられていたが、近時は第３図に示す
ような縦形炉も漸次用いられるようになってきた。同図
における１は略垂直に配置されて上端側がｒＩ′１Ｍ４
され下端側が開放された円筒状の炉体、２はこの炉体の
内壁に配設されたヒータ、３はこのヒータの内側に間隙
を隔てて配設された石英管で、この石英管の下端側は開
放され、上端側はガス導入口を残して閉鎖されている。
、横形炉が多く用いられていたが、近時は第３図に示す
ような縦形炉も漸次用いられるようになってきた。同図
における１は略垂直に配置されて上端側がｒＩ′１Ｍ４
され下端側が開放された円筒状の炉体、２はこの炉体の
内壁に配設されたヒータ、３はこのヒータの内側に間隙
を隔てて配設された石英管で、この石英管の下端側は開
放され、上端側はガス導入口を残して閉鎖されている。
４は炉体１の頂壁を貫通して石英管３の内部に連通ずる
ように該石英管に連結されたガス導入管である。以上に
より炉本体Ｆが構成されている。５は炉本体Ｆの下方に
配設されたボート駆動機ｊＩ４設置テーブル、６はこの
テーブル上に配設された駆動用モータ、７はテーブル５
に垂直の状態で回転自在に設置）られてモータ６により
減速器６ａを介して駆動されて回転する駆動軸であり、
この駆動軸の外周部には全長にわたり雄ねじが刻設され
ている。８は駆動軸７に平行にテーブル５上に立設され
たガイド軸である。９はアーム、９ａはアーム９の一端
に固着されてガイド軸８に上下動自在に遊嵌された嵌合
部材、９ｂはアーム９の中間部に固着され駆動軸７に螺
嵌されて駆動軸７の回転により上下動する螺合部材であ
る。９Ｃはアーム９の他端に固着された結合部材、１０
はこの結合部材にアーム９と直角に取付けられたボート
支持軸、１１はこの支持軸１０の上端に取付けられたボ
ート支持台、１２はこの支持台上に支持された石英ボー
ト、Ｗはこのボー下に設けられた複数の棚板上にＭ、置
された被加熱体としての半導体ウェハである。上記のモ
ータ６、駆動＠７、ガイド軸８、アーム９等によりボー
ト駆動装置りが構成されている。炉本体Ｆの下部とテー
ブル５との間の空間は、ボート１２に対して半導体ウェ
ハＷを出し入れする作業空間Ｓとなっている。１３はガ
イド軸８に近りラーーブル５の上に立設されて作業空間
Ｓに清浄空気を送るための嗜埃シ濾過器、１４はこのシ
濾過器の片側から送風する送風機である。
ように該石英管に連結されたガス導入管である。以上に
より炉本体Ｆが構成されている。５は炉本体Ｆの下方に
配設されたボート駆動機ｊＩ４設置テーブル、６はこの
テーブル上に配設された駆動用モータ、７はテーブル５
に垂直の状態で回転自在に設置）られてモータ６により
減速器６ａを介して駆動されて回転する駆動軸であり、
この駆動軸の外周部には全長にわたり雄ねじが刻設され
ている。８は駆動軸７に平行にテーブル５上に立設され
たガイド軸である。９はアーム、９ａはアーム９の一端
に固着されてガイド軸８に上下動自在に遊嵌された嵌合
部材、９ｂはアーム９の中間部に固着され駆動軸７に螺
嵌されて駆動軸７の回転により上下動する螺合部材であ
る。９Ｃはアーム９の他端に固着された結合部材、１０
はこの結合部材にアーム９と直角に取付けられたボート
支持軸、１１はこの支持軸１０の上端に取付けられたボ
ート支持台、１２はこの支持台上に支持された石英ボー
ト、Ｗはこのボー下に設けられた複数の棚板上にＭ、置
された被加熱体としての半導体ウェハである。上記のモ
ータ６、駆動＠７、ガイド軸８、アーム９等によりボー
ト駆動装置りが構成されている。炉本体Ｆの下部とテー
ブル５との間の空間は、ボート１２に対して半導体ウェ
ハＷを出し入れする作業空間Ｓとなっている。１３はガ
イド軸８に近りラーーブル５の上に立設されて作業空間
Ｓに清浄空気を送るための嗜埃シ濾過器、１４はこのシ
濾過器の片側から送風する送風機である。
上記の装置においては、モータ６により駆動軸７を回転
させることにより、アーム９が上下動して、ボート支持
台１１に支持されたボート１２が炉本体Ｆの下部開放端
から炉内に出し入れされる。
させることにより、アーム９が上下動して、ボート支持
台１１に支持されたボート１２が炉本体Ｆの下部開放端
から炉内に出し入れされる。
［発明が解決しようとする問題点］
しかしながら、上記のような半導体熱処理炉においては
、ボート駆動装置りにおけるモータ６の回転、駆動軸７
と螺合部材９ｂとの螺合、及びガイド＠８と嵌合部材９
ａとのＦｊｌｌ等により生ずる四埃が作業空間Ｓに侵入
するという問題がある。
、ボート駆動装置りにおけるモータ６の回転、駆動軸７
と螺合部材９ｂとの螺合、及びガイド＠８と嵌合部材９
ａとのＦｊｌｌ等により生ずる四埃が作業空間Ｓに侵入
するという問題がある。
従って、折角シ濾過器１３により清浄空気を送っても、
上記の卵埃により作業空間Ｓの雰囲気が汚染されること
になる。
上記の卵埃により作業空間Ｓの雰囲気が汚染されること
になる。
本発明の目的は、ボート駆動時に生ずる塵埃が作業空間
に侵入しないように改良した縦形半導体熱処理炉を提供
することにある。
に侵入しないように改良した縦形半導体熱処理炉を提供
することにある。
［問題点を解決するための手段］
上記の目的を達成するための本発明の構成を、実施例に
対応する第１図及び第２図を用いて以下に説明する。本
発明は、上端側が閉鎖され下端側が開放された筒状をな
し内壁にヒータ２を備えて略垂直に配置された縦形の炉
本体Ｆと、熱処理すべき半導体Ｗを載置するボート１２
を支持するボート支持台１１と、該ボート支持台に連結
される連結部材Ｃを介して該ボート支持台を上・下に駆
動して前記炉本体Ｆの下方から炉内に出し入れするボー
ト駆動装＠Ｄとを有して、前記炉本体Ｆの下方の空間部
を前記ボート１２に対して前記半導体Ｗを載Ｕ降ろしす
るための作業空間Ｓとする縦形半導体熱処理炉において
、炉本体Ｆの下部開放端に対応する開口部１５ａを有し
該炉本体の下側に配設されて該炉本体周辺の空間と前記
作業空間Ｓとを隔てる隔離板１５を有し、前記ボート駆
動装置りは前記隔離板１５を隔てて前記作業空間Ｓの外
側に配設され、前記連結部材Ｃは前記隔離板１５を可動
に貫通しているものである。
対応する第１図及び第２図を用いて以下に説明する。本
発明は、上端側が閉鎖され下端側が開放された筒状をな
し内壁にヒータ２を備えて略垂直に配置された縦形の炉
本体Ｆと、熱処理すべき半導体Ｗを載置するボート１２
を支持するボート支持台１１と、該ボート支持台に連結
される連結部材Ｃを介して該ボート支持台を上・下に駆
動して前記炉本体Ｆの下方から炉内に出し入れするボー
ト駆動装＠Ｄとを有して、前記炉本体Ｆの下方の空間部
を前記ボート１２に対して前記半導体Ｗを載Ｕ降ろしす
るための作業空間Ｓとする縦形半導体熱処理炉において
、炉本体Ｆの下部開放端に対応する開口部１５ａを有し
該炉本体の下側に配設されて該炉本体周辺の空間と前記
作業空間Ｓとを隔てる隔離板１５を有し、前記ボート駆
動装置りは前記隔離板１５を隔てて前記作業空間Ｓの外
側に配設され、前記連結部材Ｃは前記隔離板１５を可動
に貫通しているものである。
［発明の作用］
本発明は上記の手段により、ボート駆動装置りにより生
ずる塵埃が隔離板１５により遮断されて作業空間Ｓに侵
入するのが防止される。これにより、作業空間Ｓの雰囲
気が十分清浄に保たれるので、半導体Ｗを熱処理するた
め作業空間Ｓにおいて該半導体をボート１２に載せ降ろ
しする作業時に、該半導体に塵埃が付着するのが有効に
防止される。
ずる塵埃が隔離板１５により遮断されて作業空間Ｓに侵
入するのが防止される。これにより、作業空間Ｓの雰囲
気が十分清浄に保たれるので、半導体Ｗを熱処理するた
め作業空間Ｓにおいて該半導体をボート１２に載せ降ろ
しする作業時に、該半導体に塵埃が付着するのが有効に
防止される。
［実施例］
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。第１
図において、第３図の装置と同一部分には同符号を付し
てその説明を省略する。第１図の１５は、塵埃濾過器１
３の上端部に一端側を当接さＵて炉本体Ｆの下端部に近
接して配設されて、炉本体「の設置側と作業空間Ｓとを
隔てる隔離板である。１５ａはこの隔離板に石英管３の
直径と略同径に設けられた開口部で、この開口部の周縁
部は石英管３の下端部に接している。隔離板１５の上に
は、第３図におけると同様の駆動用モータ６、減速器６
ａ、駆動軸７、ガイド軸８、及びアーム９等からなるボ
ート駆動装置りが配設されている。１６は駆動軸７に平
行させて上端部がアーム９の一端に取付けられて隔離板
１５を上下動自在に貫通する垂直移動軸である。垂直移
動軸１６が隔離板１５を貫通する部分には、所謂○リン
グ１５ｂを配して気密状態を保つようにしである。
図において、第３図の装置と同一部分には同符号を付し
てその説明を省略する。第１図の１５は、塵埃濾過器１
３の上端部に一端側を当接さＵて炉本体Ｆの下端部に近
接して配設されて、炉本体「の設置側と作業空間Ｓとを
隔てる隔離板である。１５ａはこの隔離板に石英管３の
直径と略同径に設けられた開口部で、この開口部の周縁
部は石英管３の下端部に接している。隔離板１５の上に
は、第３図におけると同様の駆動用モータ６、減速器６
ａ、駆動軸７、ガイド軸８、及びアーム９等からなるボ
ート駆動装置りが配設されている。１６は駆動軸７に平
行させて上端部がアーム９の一端に取付けられて隔離板
１５を上下動自在に貫通する垂直移動軸である。垂直移
動軸１６が隔離板１５を貫通する部分には、所謂○リン
グ１５ｂを配して気密状態を保つようにしである。
１７は垂直移動軸１６の下端側に一端が固着され他端が
石英管３の直下に至る支持アームである。
石英管３の直下に至る支持アームである。
このアームの他端側には第３図と同様に結合部材１７ｃ
を介して、ボート支持軸１０１ボート支持台１１、及び
半導体ウェハＷを載置する石英ボート１２等が取付けら
れている。前記の垂直移動軸１６、支持アーム１７、及
び支持軸１０は、ボート駆動袋ＨＤとボート支持台１１
を連結する連結部材Ｃを構成している。
を介して、ボート支持軸１０１ボート支持台１１、及び
半導体ウェハＷを載置する石英ボート１２等が取付けら
れている。前記の垂直移動軸１６、支持アーム１７、及
び支持軸１０は、ボート駆動袋ＨＤとボート支持台１１
を連結する連結部材Ｃを構成している。
以上の構成になる本実施例の装置では、駆動用モータ６
により減速器６ａを介して駆動軸７を回転駆動すること
により、アーム９及び垂直移動軸１６が上下動して、ボ
ート支持台１１に支持されたボート１２が石英管３の下
部開放端から炉内に出し入れされる。この場合のボート
駆動装置りにより生ずる塵埃は、隔離板１５により遮断
されて作業空間Ｓに侵入することがなく、作業空間Ｓの
雰囲気は清浄に保たれる。
により減速器６ａを介して駆動軸７を回転駆動すること
により、アーム９及び垂直移動軸１６が上下動して、ボ
ート支持台１１に支持されたボート１２が石英管３の下
部開放端から炉内に出し入れされる。この場合のボート
駆動装置りにより生ずる塵埃は、隔離板１５により遮断
されて作業空間Ｓに侵入することがなく、作業空間Ｓの
雰囲気は清浄に保たれる。
第２図は本発明におけるボート駆動装置りの変形例を示
したもので、同図における第１図と同一部分には同符号
を付してその説明を省略し、また塵埃濾過手段の図示は
省略しである。第２図における１８は垂直移動軸１６の
上方に配設された回転自在のプーリ、１９は該プーリの
側方に配設された巻取ローラ、２０は一端が該巻取ロー
ラに固るされて該巻取ローラに巻き付けられ、巻き解か
れた部分がプーリ１８に掛けられて先端部が垂直移ｖＪ
軸１Ｇの上端部に固着されたワイヤである。
したもので、同図における第１図と同一部分には同符号
を付してその説明を省略し、また塵埃濾過手段の図示は
省略しである。第２図における１８は垂直移動軸１６の
上方に配設された回転自在のプーリ、１９は該プーリの
側方に配設された巻取ローラ、２０は一端が該巻取ロー
ラに固るされて該巻取ローラに巻き付けられ、巻き解か
れた部分がプーリ１８に掛けられて先端部が垂直移ｖＪ
軸１Ｇの上端部に固着されたワイヤである。
なお、このワイヤの代りに適宜のベルトを用いてもよい
。本変形例では、モータ６、巻取ローラ１９、ワイヤ２
０．及びプーリ１８等がボート駆動装置りを構成してい
る。
。本変形例では、モータ６、巻取ローラ１９、ワイヤ２
０．及びプーリ１８等がボート駆動装置りを構成してい
る。
第２図の装置では、駆動用モータ６により減速器６ａを
介して巻取ローラ１９を回転駆動することにより、ワイ
ヤ２０がローラ１９に対して巻き取り又は巻き解かれて
、垂直移動軸１６を上・下に駆動する。
介して巻取ローラ１９を回転駆動することにより、ワイ
ヤ２０がローラ１９に対して巻き取り又は巻き解かれて
、垂直移動軸１６を上・下に駆動する。
［発明の効果］
上記のように本発明に係る縦形半導体熱処理炉は、炉本
体の下側に炉本体周辺の空間と作業空間とを隔てる隔離
板を設け、該隔離板を隔てて作業空間の外側にボート駆
ｉ１１装置を配設し、該ボート駆動装置とボート支持台
を連結する連結部材は前記の隔離板を可動に貫通させた
ので、ボート駆動装置により生ずる塵埃が隔離板により
遮断されて作業空間に侵入するのを防止することができ
る。
体の下側に炉本体周辺の空間と作業空間とを隔てる隔離
板を設け、該隔離板を隔てて作業空間の外側にボート駆
ｉ１１装置を配設し、該ボート駆動装置とボート支持台
を連結する連結部材は前記の隔離板を可動に貫通させた
ので、ボート駆動装置により生ずる塵埃が隔離板により
遮断されて作業空間に侵入するのを防止することができ
る。
これにより、作業空間の雰囲気を十分清浄に保つことが
できて、作業空間において被処理半導体に塵埃が付着す
るのを有効に防止することができる。
できて、作業空間において被処理半導体に塵埃が付着す
るのを有効に防止することができる。
第１図は本発明の実施例を示す縦断面図、第２図は本発
明の変形例を示す説明図、第３図は従来の縦形半導体熱
処理炉の一例を示す縦断面図である。 Ｆ・・・炉本体、１１・・・ボート支持台、１２・・・
ボート、Ｗ・・・半導体ウェハ、Ｓ・・・作業空間、１
５・・・隔離板、１６・・・垂直移動軸、Ｃ・・・連結
部材、Ｄ・・・ボ第１図 乙 達烏ｔＰ朴
明の変形例を示す説明図、第３図は従来の縦形半導体熱
処理炉の一例を示す縦断面図である。 Ｆ・・・炉本体、１１・・・ボート支持台、１２・・・
ボート、Ｗ・・・半導体ウェハ、Ｓ・・・作業空間、１
５・・・隔離板、１６・・・垂直移動軸、Ｃ・・・連結
部材、Ｄ・・・ボ第１図 乙 達烏ｔＰ朴
Claims (3)
- （１）上端側が閉鎖され下端側が開放された筒状をなし
内壁にヒータを備えて略垂直に配置された縦形の炉本体
と、熱処理すべき半導体を載置するボートを支持するボ
ート支持台と、該ボート支持台に連結される連結部材を
介して該ボート支持台を上・下に駆動して前記炉本体の
下方から炉内に出し入れするボート駆動装置とを有して
、前記炉本体の下方の空間部を前記ボートに対して前記
半導体を載せ降ろしするための作業空間とする縦形半導
体熱処理炉において、前記炉本体の下部開放端に対応す
る開口部を有し該炉本体の下側に配設されて該炉本体周
辺の空間と前記作業空間とを隔てる隔離板を有し、前記
ボート駆動装置は前記隔離板を隔てて前記作業空間の外
側に配設され、前記連結部材は前記隔離板を可動に貫通
していることを特徴とする縦形半導体熱処理炉。 - （２）前記連結部材は前記炉本体の側方に略垂直に配設
されて前記隔離板を上下動自在に貫通する垂直移動軸と
、該垂直移動軸の下端側に固着されて前記ボート支持台
を支持する支持部材とからなり、前記ボート駆動装置は
前記隔離板上に配設された駆動用モータと、外周部に略
全長にわたりねじが刻設され前記隔離板上に立設されて
前記モータにより回転駆動される駆動軸と、該駆動軸に
並設されたガイド軸と、一端側が該ガイド軸に上下動自
在に嵌合され、中間部が前記駆動軸に螺合し他端側が前
記垂直移動軸の上端部に係合されたアームとで構成され
た特許請求の範囲第１項に記載の縦形半導体熱処理炉。 - （３）前記連結部材は前記炉本体の側方に略垂直に配設
されて前記隔離板を上下動自在に貫通する垂直移動軸と
、該垂直移動軸の下端側に固着されて前記ボート支持台
を支持する支持部材とからなり、前記ボート駆動装置は
前記垂直移動軸の上方に配設されたプーリと、該プーリ
の側方に配設された巻取ローラと、前記巻取ローラに巻
き付けられ巻き解かれた部分が前記プーリに掛けられて
先端部が前記垂直移動軸の上端部に固着されたワイヤ又
はベルトと、前記巻取ローラを回転駆動するモータとで
構成された特許請求の範囲第１項に記載の縦形半導体熱
処理炉。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23239784A JPS61111524A (ja) | 1984-11-06 | 1984-11-06 | 縦形半導体熱処理炉 |
| US06/686,231 US4610628A (en) | 1983-12-28 | 1984-12-26 | Vertical furnace for heat-treating semiconductor |
| US06/871,683 US4695706A (en) | 1983-12-28 | 1986-06-09 | Vertical furnace for heat-treating semiconductor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23239784A JPS61111524A (ja) | 1984-11-06 | 1984-11-06 | 縦形半導体熱処理炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61111524A true JPS61111524A (ja) | 1986-05-29 |
Family
ID=16938597
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23239784A Pending JPS61111524A (ja) | 1983-12-28 | 1984-11-06 | 縦形半導体熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61111524A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63147811U (ja) * | 1987-03-18 | 1988-09-29 | ||
| JPH01175228A (ja) * | 1987-12-29 | 1989-07-11 | Tel Sagami Ltd | 縦型熱処理炉 |
| JPH0214520A (ja) * | 1988-06-08 | 1990-01-18 | Tel Sagami Ltd | 縦型熱処理装置及び縦型熱処理装置による処理方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56165317A (en) * | 1980-05-26 | 1981-12-18 | Fujitsu Ltd | Manufacture of semiconductor device |
| JPS5757544B2 (ja) * | 1974-11-05 | 1982-12-04 | Tokyo Shoketsu Kinzoku Kk | |
| JPS5875840A (ja) * | 1981-10-30 | 1983-05-07 | Fujitsu Ltd | 半導体用加熱処理炉 |
-
1984
- 1984-11-06 JP JP23239784A patent/JPS61111524A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5757544B2 (ja) * | 1974-11-05 | 1982-12-04 | Tokyo Shoketsu Kinzoku Kk | |
| JPS56165317A (en) * | 1980-05-26 | 1981-12-18 | Fujitsu Ltd | Manufacture of semiconductor device |
| JPS5875840A (ja) * | 1981-10-30 | 1983-05-07 | Fujitsu Ltd | 半導体用加熱処理炉 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63147811U (ja) * | 1987-03-18 | 1988-09-29 | ||
| JPH0534108Y2 (ja) * | 1987-03-18 | 1993-08-30 | ||
| JPH01175228A (ja) * | 1987-12-29 | 1989-07-11 | Tel Sagami Ltd | 縦型熱処理炉 |
| JPH0214520A (ja) * | 1988-06-08 | 1990-01-18 | Tel Sagami Ltd | 縦型熱処理装置及び縦型熱処理装置による処理方法 |
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