JPS61110569A - Thermal head and manufacture thereof - Google Patents

Thermal head and manufacture thereof

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JPS61110569A
JPS61110569A JP23393584A JP23393584A JPS61110569A JP S61110569 A JPS61110569 A JP S61110569A JP 23393584 A JP23393584 A JP 23393584A JP 23393584 A JP23393584 A JP 23393584A JP S61110569 A JPS61110569 A JP S61110569A
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heating resistor
layer
substrate
glass layer
thermal head
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寺島 諒
Kenji Fujino
健治 藤野
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Yokogawa Hokushin Electric Corp
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    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/315Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
    • B41J2/32Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
    • B41J2/345Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads characterised by the arrangement of resistors or conductors

Abstract

PURPOSE:To facilitate manufacture of a thermal head, by a method wherein two substrates provided with respective electrode layers are adhered to each other through a glass layer, the resultant laminate is cut, and a heating resistor is provided on an end face of the cut piece. CONSTITUTION:The substrates 11, 12 provided with respective electrode layers 3, 4 are opposed to each other through the glass layer 5, and are fixed to each other through the glass layer 5. Thus, manufacture and wiring can be easily performed. In addition, by regulating the thickness of the glass layer 5 provided between the selective electrode layer 3 and the common electrode layer 4, it is possible to arbitrarily control the length of the heating resistor 2, and high resolution can be obtained irrespectively of the thicknesses of the substrates 11, 12. Further, since the heating resistor 2 is provided on the end face on which the electrode layers 3, 4 are exposed, the resistor 2 may be provided on only the end face, and there is no bend in the resistor 2, so that the heating resistor 2 with high reliability can be provided.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、基板の端面方向に発熱抵抗体を形成するよう
にしたサーマルヘッドおよびそのlll造次法関するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a thermal head in which a heating resistor is formed in the direction of an end face of a substrate, and a manufacturing method thereof.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、基板の端部に発熱抵抗体を形成したサーマルヘッ
ドとしては、例えば、特公昭40−6040号公報およ
び特公昭48−38265号公報などに示される如きサ
ーマルヘッドが知られている。第7図はこのようなサー
マルヘッドの概要を示す構成図である。図に示すサーマ
ルヘッドは、基板1の端部に発熱抵抗体2を形成すると
ともに、基板10両面にそれぞれ発熱抵抗体2と一部が
重なるように電極層3.4e積層形成したものである。
Conventionally, thermal heads such as those disclosed in Japanese Patent Publication No. 40-6040 and Japanese Patent Publication No. 48-38265 are known as thermal heads in which a heating resistor is formed at the end of a substrate. FIG. 7 is a block diagram showing an outline of such a thermal head. The thermal head shown in the figure has a heating resistor 2 formed at the end of a substrate 1, and electrode layers 3.4e laminated on both sides of the substrate 10 so as to partially overlap with the heating resistor 2.

このように形成されたサーマルヘッドにおいては、発熱
抵抗体2の発熱部分が記録紙等に確実に接触するので、
熱効率の良いサーマルヘッドを得ることができる。また
、基板1の端部は平面部に比べて平坦番こ加工すること
が容易であるので、複数の発熱抵抗体2を記録紙等に均
等に接触させることができ、高い印字品質を得ることが
できる。
In the thermal head formed in this way, the heat-generating portion of the heat-generating resistor 2 reliably contacts the recording paper, etc.
A thermal head with good thermal efficiency can be obtained. In addition, since the edges of the substrate 1 are easier to flatten than the flat parts, the plural heating resistors 2 can be brought into even contact with the recording paper, etc., and high printing quality can be obtained. I can do it.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

しかしながら、このようなサーマルヘッドにおいては、
電極層3,4を基板1の両面に形成しているために、次
のような欠点を有している。
However, in such a thermal head,
Since the electrode layers 3 and 4 are formed on both sides of the substrate 1, there are the following drawbacks.

(イ)基板1に対して片面づつ電極層を形成しなければ
ならないので、電極層3,4の位置合せなどが容易では
ない。
(a) Since electrode layers must be formed on one side of the substrate 1, alignment of the electrode layers 3 and 4 is not easy.

(ロ)基板1にセラミック基板等のスルーホール処理の
難しい基板を使用した場合には、リード配線などの配線
処理は別の基板で行なわなければならず、駆動用ICそ
の他の素子を内蔵さることが難かしい。
(b) If a ceramic substrate or other board that is difficult to process through holes is used as the substrate 1, wiring such as lead wiring must be done on a separate board, and the drive IC and other elements must be built in. is difficult.

(ハ)印字ドツトの大きさく発熱抵抗体2の長さ)は基
板1の厚さによって決まるので、記録の高分解能化のた
めには基板1を薄くしなければならないが、その場合に
は、基板1の機械的強度が得られなくなり、製作が難か
しくなってしまう。
(c) The size of the printed dot (the length of the heating resistor 2) is determined by the thickness of the substrate 1, so in order to achieve high resolution recording, the substrate 1 must be made thinner. The mechanical strength of the substrate 1 cannot be obtained, and manufacturing becomes difficult.

(ニ)発熱抵抗体2が基板1の端部を包むように形成さ
れるために、基板1のエツジ部で発熱抵抗体2が直角に
折れ曲っており、このためこのエツジ部で発熱11℃抗
体2が断線する可能性がある。
(d) Since the heating resistor 2 is formed so as to wrap around the edge of the substrate 1, the heating resistor 2 is bent at right angles at the edge of the substrate 1. Therefore, the heating resistor 2 generates heat at 11°C at this edge. 2 may be disconnected.

本発明は、上記のような従来装置の欠点をなくし、製作
が容易であるとともに、高分解能化に適したサーマルヘ
ッドおよびその製造方法を実現することを目的としたも
のである。
An object of the present invention is to eliminate the drawbacks of the conventional apparatus as described above, to realize a thermal head that is easy to manufacture, and is suitable for high resolution, and a method for manufacturing the same.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明のサーマルヘッドおよびその製造方法は、それぞ
れ電極層が形成された2枚の基板を、その電極層により
ガラス層を挟むように対向させ、このガラス層を介して
接着するとともに、ガラス層を含む2枚の基板をその端
面に各電極層が露出するように直線状に切断し、この端
面に発熱抵抗体を形成するようにしたものである。
A thermal head and a method for manufacturing the same of the present invention include two substrates each having an electrode layer formed thereon, which are opposed to each other so that a glass layer is sandwiched between the two substrates, and are bonded together via this glass layer. Two substrates are cut in a straight line so that each electrode layer is exposed on the end face, and a heating resistor is formed on the end face.

(作 用〕 このように、それぞれに電極層の形成された2枚の基板
を、ガラス層を挟むように対向させ、このガラス層を介
して接着するように構成すると、各基板に対して、一連
の製造工程により全ての電極層を形成することができ、
製作が容易であるとともに、駆動用ICその他の素子を
搭載する場合に必要なりロスオーバ等のリード配線処理
も同時に、かつ同一基板内で行なうことができる。リー
ド配線パターンを2枚の基板で分担するようになるので
、リードパターンの自由度が高く、ドライバ素子の搭載
などに有利である。また、発熱抵抗体の長さは電極層間
に形成するガラス層の厚さにより決定されるので、この
厚さを調節することにより発熱抵抗体の長さを任意に制
御することができ、基板の強度などに影響を与えること
なく、高分解能のサーマルヘッドを実現することができ
る。
(Function) In this way, when two substrates each having an electrode layer formed thereon are arranged to face each other with a glass layer sandwiched therebetween and are bonded to each other via this glass layer, for each substrate, All electrode layers can be formed through a series of manufacturing processes,
It is easy to manufacture, and lead wiring processing such as loss-over required when mounting a driving IC and other elements can be performed simultaneously and within the same substrate. Since the lead wiring pattern is shared between two substrates, there is a high degree of freedom in the lead pattern, which is advantageous for mounting driver elements. In addition, the length of the heating resistor is determined by the thickness of the glass layer formed between the electrode layers, so by adjusting this thickness, the length of the heating resistor can be arbitrarily controlled. A high-resolution thermal head can be realized without affecting strength.

さらに、基板の端部を切断し、電極層の露出した端面に
発熱抵抗体を形成するようにしているので、発熱抵抗体
はその一つの而だけに形成されれば良く、折れ曲りがな
いために、信頼性の高い発熱抵抗体を得ることができる
Furthermore, since the end of the substrate is cut and the heating resistor is formed on the exposed end surface of the electrode layer, the heating resistor only needs to be formed on one of the ends, and there is no bending. Therefore, a highly reliable heating resistor can be obtained.

(実施例〕 以下、本発明のサーマルヘッドおよびその製造方法の一
実施例を図面を使用して説明する。図において、前記第
7図と同様のものは同一符号を付して示す。
(Embodiment) Hereinafter, an embodiment of the thermal head and its manufacturing method of the present invention will be described with reference to the drawings.In the drawings, the same parts as those in FIG. 7 are designated by the same reference numerals.

第1図〜第5図に本発明のサーマルヘッドの製造工程の
一実施例を示す。第1図において、Lはその表面に金(
Au) 、銀パラジウム、白金、銅などの導電体により
第1のWL電極層(以下、選択電極層3という)が形成
された第1の基板、1.は同様に第2の電極層4(以下
、共通電極層4という)が形成された第2の基板、5は
高融点カラス等よりなり、選択電極層3と共通電極層4
との間に積層されて電気絶縁層および熱抵抗層となるガ
ラス層である。図に示す如く、まず第1の基板1.の選
択電極層3の土にガラス層5を印刷した後、このガラス
層5の上にこれを共通電極層4側で挟み込むように第2
の基板1.を重ね合わせ、ガラス層5を焼成して第1お
よび第2の基板1. 、 Lを一体に固着する。ここで
、第1の基板1.」二に形成された選択電極層3は、エ
ツチングにより図示の如きパターンに形成されたもので
あるが、エツチングにより微細パターンの加工を行なう
のは、10本/llll11以上の電極密度を得る場合
であり、これが比較的低密度の場合には、印刷により直
接図のような電極パターンを形成することも可能である
。なお、選択電極層3および共通電極層4の膜厚は、一
般的に3〜5μm程度である。
An embodiment of the manufacturing process of the thermal head of the present invention is shown in FIGS. 1 to 5. In Figure 1, L has gold (
1. A first substrate on which a first WL electrode layer (hereinafter referred to as selection electrode layer 3) is formed of a conductor such as Au), silver palladium, platinum, or copper; Similarly, 5 is a second substrate on which a second electrode layer 4 (hereinafter referred to as common electrode layer 4) is formed, and 5 is made of high melting point glass or the like, and the selective electrode layer 3 and the common electrode layer 4 are
This is a glass layer that is laminated between the two to form an electrically insulating layer and a thermally resistant layer. As shown in the figure, first a first substrate 1. After printing a glass layer 5 on the soil of the selected electrode layer 3, a second layer is placed on top of this glass layer 5 so as to sandwich it between the common electrode layer 4 side.
Substrate 1. are stacked on top of each other, and the glass layer 5 is fired to form the first and second substrates 1. , L are fixed together. Here, the first substrate 1. The selective electrode layer 3 formed in the second step is formed into a pattern as shown in the figure by etching. However, etching is used to form a fine pattern when obtaining an electrode density of 10 lines/llll11 or more. If the density is relatively low, it is also possible to directly form the electrode pattern as shown in the figure by printing. Note that the thickness of the selective electrode layer 3 and the common electrode layer 4 is generally about 3 to 5 μm.

第2図はガラス層5の焼成後の状態を示すもので、次の
工程では第1および第2の基板1. 、1.をその端部
で、図中の線aに沿って直線状に切断し、発熱抵抗体2
を被着すべき端面を形成する。
FIG. 2 shows the state of the glass layer 5 after firing, and in the next step, the first and second substrates 1. , 1. Cut the end of the heating resistor 2 in a straight line along the line a in the figure.
form the end surface to which the material is to be applied.

この結果、切断された端面には、第3図に示す如く、選
択電極層3および共通電極層4が露出するようになり、
しかも、これらの各電極層3,4はガラス層5を介して
対向している。ここで、第2の基板1.が第1の基板1
.に比べて短かく形成されているのは、第1の基板1.
(選択電極層3)よりのリードの取出しを容易にするた
めである。
As a result, the selective electrode layer 3 and the common electrode layer 4 are exposed on the cut end face, as shown in FIG.
Moreover, these electrode layers 3 and 4 are opposed to each other with a glass layer 5 in between. Here, the second substrate 1. is the first substrate 1
.. The first substrate 1. is formed shorter than the first substrate 1.
This is to make it easier to take out the leads from the (selective electrode layer 3).

本発明においては、この電極層3.4の露出した端面に
発熱抵抗体2を形成するものであるが、切断後の端面の
表面粗度が所定の基準より低い場合には、表面を研磨仕
上げして、発熱抵抗体2の付着を良くすることが望まし
い。第4図は端面な研磨するとともに、記録紙等との接
触面積を小さくして、印字の全圧力を小さくするために
、面取り加7[を施した場合を例示したものである。
In the present invention, the heating resistor 2 is formed on the exposed end face of the electrode layer 3.4, but if the surface roughness of the end face after cutting is lower than a predetermined standard, the surface is polished and finished. It is desirable to improve the adhesion of the heating resistor 2 by doing so. FIG. 4 shows an example of a case in which the end surface is polished and chamfered 7[ is applied in order to reduce the contact area with recording paper, etc., and to reduce the total printing pressure.

このように形成された端面には、窒化タンタル(Ta、
N)  、 ニクロム(N+−Cr )などの抵抗材料
がスパッタまたは蒸着により被着され、発熱抵抗体2を
形成する。この場合の発熱抵抗体2の膜厚は、その抵抗
(fl+との関連で決定されるものであるが、概1?!
0.1#Lm程度である。
The end face formed in this way is coated with tantalum nitride (Ta,
A resistive material such as N), nichrome (N+-Cr) is deposited by sputtering or vapor deposition to form the heating resistor 2. The film thickness of the heating resistor 2 in this case is determined in relation to its resistance (fl+, and is approximately 1?
It is about 0.1#Lm.

さて、上記の工程により、発熱抵抗体2は選択電極3お
よび共通電極層4の露出した端面に一様に被着され、こ
れらの電極と導通状態となっているので、次に発熱抵抗
体2を各選択電極3毎に分離する必要がある。
By the above process, the heat generating resistor 2 is uniformly deposited on the exposed end surfaces of the selection electrode 3 and the common electrode layer 4 and is in electrical continuity with these electrodes. needs to be separated for each selection electrode 3.

第5図は発熱抵抗体2を選択電極3に対応した形状に分
離した状態を示すものである。図示の例は、レーザカッ
トを利用して発熱抵抗体2を分離したもので、6はレー
ザカットの軌跡である。レーザカットの幅(軌跡6の線
幅)はレーザビームのスポットげで決まるもので、最小
幅は30μm程度まで可能であるので、高密度の発熱抵
抗体形成が容易である。
FIG. 5 shows a state in which the heating resistor 2 is separated into shapes corresponding to the selection electrodes 3. In the illustrated example, the heating resistor 2 is separated using laser cutting, and 6 is the locus of the laser cutting. The width of the laser cut (the line width of the locus 6) is determined by the spot of the laser beam, and the minimum width can be up to about 30 μm, making it easy to form a high-density heating resistor.

上記のようにして発熱抵抗体2が分1l11されると、
発熱抵抗体2の保護およびW14摩耗層として酸化ケイ
素(SjO,) 、五霞化タンタル(Ta、O,)  
、窒化ホウ素(BN)、炭化ケイ素(SjC)などの絶
縁層がスパッタまたは蒸着により被着される。また、熱
伝導性を考慮すれば、酸化ケイ素などで絶縁した後、分
融メッキにより耐摩耗金属層を被着してもよい。この場
合、金属膜には主にニッケルが使用され、分散剤として
酸化アルミニウム、窒化ホウ素、ダイヤモンドなどを添
加することにより、熱伝導性ならびに耐摩耗性を向上さ
せることができる。第6図はこのiiJ摩耗層7の被着
状態を示す断面図である。
When the heating resistor 2 is divided into 1l11 as described above,
Silicon oxide (SjO,), tantalum pentoxide (Ta, O,) as protection for heating resistor 2 and W14 wear layer
, boron nitride (BN), silicon carbide (SjC), etc., are deposited by sputtering or evaporation. Furthermore, in consideration of thermal conductivity, a wear-resistant metal layer may be applied by split-dip plating after insulating with silicon oxide or the like. In this case, nickel is mainly used for the metal film, and by adding aluminum oxide, boron nitride, diamond, etc. as a dispersant, thermal conductivity and wear resistance can be improved. FIG. 6 is a sectional view showing the state in which this iiJ wear layer 7 is adhered.

また、第5図および第6図に示されるように、発熱抵抗
体2の長さは選択電極3と共通電極層4との間に介在す
るガラス層5の厚さにより決まっており、ガラス層5の
膜厚を調節することにより、発熱抵抗体2の長さを任意
にIt11制御することができる。例えば、ガラス層5
の膜厚を制御する手段としては、粒度、形状の一定した
球状のアルミナ粉末や径の一定した円柱状のファイバグ
ラスなどをガラス層5に混入させて、第1および第2の
基板1、 、1.間のスペーサとして作用させることに
より、一定の間隔を保ったままでガラス層5を焼成する
ことができる。
Further, as shown in FIGS. 5 and 6, the length of the heating resistor 2 is determined by the thickness of the glass layer 5 interposed between the selection electrode 3 and the common electrode layer 4. By adjusting the film thickness of the heating resistor 5, the length of the heating resistor 2 can be arbitrarily controlled by It11. For example, glass layer 5
As a means of controlling the film thickness of the first and second substrates 1, spherical alumina powder with a constant particle size and shape, cylindrical fiberglass with a constant diameter, etc. are mixed into the glass layer 5. 1. By acting as a spacer between the glass layers 5, the glass layer 5 can be fired while maintaining a constant spacing.

−1−記のような工程により本発明のサーマルヘッドが
形成されるが、このようなサーマルヘッドにおいては、
それぞれ電極層3,4が形成された基板1. 、1.を
ガラス層5を介して対向させ、一体に固着するようにし
ているので、製作および配線処理が容易であるとともに
、選択電極層3と共通電fIiA”J4との間に介在す
るガラス層5の膜厚を調節することにより、発熱抵抗体
2の長さを任意に制御することができ、基板1. 、1
.の厚さ等に左右されずに、高い分解能を得ることがで
きる。また、電極層3.4の露出した端面に発熱抵抗体
2を形成するので、発熱抵抗体2はその端面のみに被着
されればよく、折れ曲りがないために、信頼性の高い発
熱抵抗体2を形成することができる。さら−10〜 に、基板1. 、1.の端面に発熱抵抗体2をスパッタ
または蒸着する工程は、基板1. 、1.を立て、端面
なスパッタターゲットに対向させた状態で行なわれるの
で、基板1. 、1.をスパッタ装置内などに数多く装
顛することができ、量産化が可能となる。
The thermal head of the present invention is formed by the steps described in -1-, but in such a thermal head,
A substrate 1 on which electrode layers 3 and 4 are formed, respectively. , 1. are made to face each other with the glass layer 5 interposed therebetween and are fixed together, which facilitates manufacturing and wiring processing, and also reduces the need for the glass layer 5 interposed between the selection electrode layer 3 and the common electrode fIiA''J4. By adjusting the film thickness, the length of the heating resistor 2 can be arbitrarily controlled.
.. High resolution can be obtained regardless of the thickness etc. In addition, since the heating resistor 2 is formed on the exposed end surface of the electrode layer 3.4, the heating resistor 2 only needs to be attached to the end surface, and since there is no bending, the heating resistor 2 is highly reliable. body 2 can be formed. Furthermore, substrate 1. , 1. The step of sputtering or vapor depositing the heating resistor 2 on the end face of the substrate 1. , 1. The substrate 1. , 1. A large number of them can be installed in sputtering equipment, etc., making mass production possible.

なお、上記の説明においては、それぞれ基板13゜1、
の表面に直接第1の電極層3および第2の電極層4を形
成する場合を例示したが、基板1. 、1.の表面の平
滑度によっては、基板1. 、1.と電極層3゜4の間
にそれぞれガラス層を設け、電極層3.4の下地を平滑
化するようにしてもよい。また、発熱抵抗体2の分離手
段として、レーザカットを例示したが、発熱抵抗体2を
分離する手段には、この他にもフォトリソグラフによる
エツチングやブレードによる機械的な切断、サンドブラ
スト法などがあり、必要に応じて使い分けることができ
るものである。さらに、発熱抵抗体2の上に形成するH
摩耗層7は、金属膜に限られるものではなく、ガラス層
を使用することもできる。また、曲記第6図において、
電極層3.4の間に介在させるガラス層5の長さQを変
えると、この部分の熱伝導率が変化するので、ヘッドの
熱応答特性を任意に変化させることができる。
In addition, in the above description, the substrates 13°1,
Although the first electrode layer 3 and the second electrode layer 4 are formed directly on the surface of the substrate 1. , 1. Depending on the surface smoothness of the substrate 1. , 1. A glass layer may be provided between the electrode layer 3.4 and the electrode layer 3.4 to smooth the base of the electrode layer 3.4. Furthermore, although laser cutting has been exemplified as a means for separating the heating resistor 2, there are other means for separating the heating resistor 2, such as etching by photolithography, mechanical cutting with a blade, and sandblasting. , which can be used as needed. Furthermore, H formed on the heating resistor 2
The wear layer 7 is not limited to a metal film, and a glass layer can also be used. Also, in Figure 6 of the song,
By changing the length Q of the glass layer 5 interposed between the electrode layers 3.4, the thermal conductivity of this portion changes, so the thermal response characteristics of the head can be changed as desired.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明のサーマルヘッドおよびそ
の!!造方法では、それぞれに電極層の形成された2枚
の基板を、電気絶縁層および熱抵抗層となるガラス層を
挟むように対向させ、このカラス層を介して一体に固着
するとともに、基板を含む各層を直線状に切断し、各電
極層の露出した端面に発熱抵抗体を形成するようにして
いるので、クロスオーバ等のリード配線処理が可能であ
り、ドライバを含めたヘッドとして、小形化や共通化に
よる部品数の減少、接続点数の減少、さらに、低価格と
信!l’l+1のn1が実現できる。また、発熱抵抗体
の長さの制御が容易であり、製作が容易であるとともに
、高分解能化に適したサーマルヘッドおよびその製造方
法を実現することができる。
As explained above, the thermal head of the present invention and its! ! In the manufacturing method, two substrates each having an electrode layer formed thereon are placed facing each other with a glass layer serving as an electrical insulating layer and a thermal resistance layer sandwiched between them, and are fixed together via this glass layer. Each layer is cut in a straight line and a heating resistor is formed on the exposed end face of each electrode layer, making it possible to perform lead wiring such as crossovers, making the head including the driver more compact. Reducing the number of parts and connection points through common use, and lower prices! n1 of l'l+1 can be realized. Further, it is possible to easily control the length of the heating resistor, to easily manufacture the thermal head, and to realize a thermal head suitable for high resolution and a method for manufacturing the same.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図〜第6図は本発明のサーマルヘッドおよびその製
造方法の実施例を示す構成図、第7図は従来のサーマル
ヘッドの一例を示す構成図である。 1.1..1.・・・基板、2・・・発熱抵抗体、3・
・・選択電極層、4・・・共通電極層、5・・・ガラス
層、6・・・レーザカット、7・・・In4摩耗層。 第1図 第3図 第  4 図 第2図 第5図 第6図
1 to 6 are block diagrams showing embodiments of a thermal head and a method for manufacturing the same according to the present invention, and FIG. 7 is a block diagram showing an example of a conventional thermal head. 1.1. .. 1. ...Substrate, 2...Heating resistor, 3.
...Selection electrode layer, 4...Common electrode layer, 5...Glass layer, 6...Laser cut, 7...In4 wear layer. Figure 1 Figure 3 Figure 4 Figure 2 Figure 5 Figure 6

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)電気絶縁層および熱抵抗層となるガラス層と、そ
れぞれ一方の面に電極層が形成されるとともにこれらの
電極層により前記ガラス層を挟むように対向配置された
第1および第2の基板と、前記複数の電極層が露出した
端面に形成された発熱抵抗体とを具備してなるサーマル
ヘッド。
(1) A glass layer serving as an electrical insulating layer and a heat resistance layer, and a first and second glass layer each having an electrode layer formed on one surface thereof and facing each other so as to sandwich the glass layer between the electrode layers. A thermal head comprising: a substrate; and a heating resistor formed on an end face where the plurality of electrode layers are exposed.
(2)それぞれ一方の面に電極層が形成された2枚の基
板をガラス層を介して対向させ一体に固着する工程と、
基板を含む各層をその端部において直線状に切断する工
程と、この切断工程により複数の電極層が露出した端面
に発熱抵抗体を形成する工程とを含むサーマルヘッドの
製造方法。
(2) a step of facing two substrates each having an electrode layer formed on one side with a glass layer interposed therebetween and fixing them together;
A method for manufacturing a thermal head, comprising the steps of: cutting each layer including a substrate into a straight line at its end; and forming a heat generating resistor on an end surface where a plurality of electrode layers are exposed by the cutting step.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS635963A (en) * 1986-06-26 1988-01-11 Rohm Co Ltd Thermal head
JPH01267059A (en) * 1988-04-20 1989-10-24 Mitani Denshi Kogyo Kk Thermal head device
JPH01163140U (en) * 1988-05-06 1989-11-14

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