JPS61102036A - 間隔調整装置 - Google Patents

間隔調整装置

Info

Publication number
JPS61102036A
JPS61102036A JP59224923A JP22492384A JPS61102036A JP S61102036 A JPS61102036 A JP S61102036A JP 59224923 A JP59224923 A JP 59224923A JP 22492384 A JP22492384 A JP 22492384A JP S61102036 A JPS61102036 A JP S61102036A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
distance
focal length
optical system
tabular
space
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP59224923A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0525169B2 (ja
Inventor
Yoshibumi Nishimoto
義文 西本
Masahiko Okunuki
昌彦 奥貫
Takuo Kariya
刈谷 卓夫
Yasuo Kawai
河合 靖雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP59224923A priority Critical patent/JPS61102036A/ja
Priority to FR8515821A priority patent/FR2572515B1/fr
Priority to DE3538062A priority patent/DE3538062C2/de
Priority to GB08526374A priority patent/GB2167262B/en
Publication of JPS61102036A publication Critical patent/JPS61102036A/ja
Priority to US07/218,447 priority patent/US4830498A/en
Publication of JPH0525169B2 publication Critical patent/JPH0525169B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7003Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
    • G03F9/7023Aligning or positioning in direction perpendicular to substrate surface
    • G03F9/7026Focusing
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01CMEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
    • G01C3/00Measuring distances in line of sight; Optical rangefinders
    • G01C3/32Measuring distances in line of sight; Optical rangefinders by focusing the object, e.g. on a ground glass screen
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01SRADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S17/00Systems using the reflection or reradiation of electromagnetic waves other than radio waves, e.g. lidar systems
    • G01S17/02Systems using the reflection of electromagnetic waves other than radio waves
    • G01S17/06Systems determining position data of a target
    • G01S17/08Systems determining position data of a target for measuring distance only
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/28Systems for automatic generation of focusing signals
    • G02B7/30Systems for automatic generation of focusing signals using parallactic triangle with a base line
    • G02B7/32Systems for automatic generation of focusing signals using parallactic triangle with a base line using active means, e.g. light emitter

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Remote Sensing (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は間隔:A整装置に関し、特に光学的位置検知手
段により間隔調整を行う間隔調整装置に関する。
従来この種の間隔調整装置としては、2重態点レンズを
用いる方法(特開昭56−130922参照)等が知ら
れているが固定焦点であるために、(1)位置合わせ間
隔が固定であり、位置合わせ間隔を変更するためには光
学系の交換もしくは再調整が必要、(2)デフォーカス
量がある値以下にならないと、位置合わせ動作を開始で
きず、位置合わせ時間が長い、等の欠点があった。
本発明の目的は、上述した従来技術による問題点を改良
した間隔調整装置を提供することにある。
以下、添付の図面を参照して本発明の好ましい実施例に
ついて説明する。第1図および第2図は本発明の間隔調
整装置を概略的に示した図である0図中1は焦点距離可
変レンズ、2,3はそれぞれ間隔調整すべき第1の物体
、第2の物体、4は投影状態検知手段、5はステージ、
6は処理装置、M1〜M3は位置合わせマークである。
第1図を参照して本発明の間隔調整装置の動作を説明す
る。
まず、第1の板状体の位置検知を行う際には、投影状態
検知手段4より得られる出力により、板状体2にピント
が合うように焦点距離可変レンズ1の焦点距離を調節し
、その時のマークM2゜M3の位置情報を得る0次に同
様の方法で板状体3にピントが合うように焦点距離可変
レンズ1の焦点距離を調節し、その時のマークM1の位
置情報を得る0以上の方法により得られたM1〜M3の
位置情報に従い、ステージが駆動され、所定の位置合わ
せが行われる。
第2図は本発明の間隔調整装置の他の実施例を示したも
のであり、3組の光学系を通して得られる3組の位置情
報に従い、6自由度を持つステージ5により立体的位置
合わせを行う。
第3図は板状体位置と、光学系を通して得られる像の投
影状態を示す合焦信号であり、信号がほぼ線形となる点
線に囲まれた部分が位置検知範囲である。この範囲内で
合焦信号より位置を知ることができる。       
             (第4図は本発明の間隔調
整装置により得られる信号である。ピント位置をA、B
、Cと変化させることにより、位置検知範囲A、B、C
が発生する。となり合う検知範囲が接するか、もしくは
若干型なり合うように光学系を設定しておけば、・ピン
ト位置を変化させることにより、単一のピント位置に固
定された場合よりも、広い検知範囲を得ることが可能と
なる。また、検知範囲の広さと検知感度は相反する関係
にあり、通常、検知範囲を広くとると検知感度は低下す
る。しかしながら、本発明によれば、高い検知感度を保
ったまま、広い検知範囲を実現することが可能となる。
またピント位置の変化は焦点距離可変レンズの焦点距離
を変化させることにより行われる。
焦点距離可変レンズ1に関しては、既に本件出願人によ
り出願された特開昭57−157213、特開昭58−
118618.特願昭58−119180等に詳しく開
示されている。
他の変形例を以下に説明する。まず(1)光学系を焦点
距離可変レンズのみでなく1通常の固定焦点レンズと組
合わせて使用することもでき。
(2)2つの板状体の位置合わせの用途のみならず、1
個又は3個以上の物体の位置合わせも可能、(3)投影
状態の検知方法としては合焦状態のみならず、他の方法
例えば反射ビームの角度の検知等によっても実現できる
以上説明したとおり本発明の間隔調整装置においては、
機械的動作を必要とせずに広い範囲で高精度の位置合わ
せが可能で、位置合わせ間隔の設定値の自由度が高く、
位置合わせ時間が短縮できる等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図はそれぞれ本発明の好ましい実施例
を示した図である。 第3図は投影状態と位置の関係を示した図である。 第4図は本発明による投影状態と位置の関係を示した図
である。 l−一一一焦点距離可変レンズ、2 、3−−−一板状
体、4−一一一投影状態検知手段、5−一一一ステージ
、6−−−−処理装置。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、第1の物体と第2の物体の間隔を任意の設定値に調
    整するための装置であって、電気的手段により焦点距離
    を変化させることができる少なくとも1つの焦点距離可
    変レンズを備えた光学系を有し、前記光学系により投影
    された像の投影状態を検知することにより、第1の物体
    と第2の物体の間隔を調整することを特徴とする間隔調
    整装置。 2、前記焦点距離可変レンズの焦点距離を変化させるこ
    とによって、第1の物体と第2の物体の間隔の設定値を
    変化させることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    の間隔調整装置。 3、焦点距離可変レンズを備えた光学系を少なくとも3
    つ有し、前記光学系により投影された像の投影状態を示
    す少なくとも3つの信号により、第1の物体と第2の物
    体の間隔調整を行うことを特徴とする特許請求の範囲第
    1項又は第2項記載の間隔調整装置。 4、前記光学系により投影された像の合焦状態を光軸方
    向距離に対応させることにより、間隔調整すべき物体ま
    での距離を検知し、 更に前記焦点距離可変レンズの第1の焦点距離における
    有限の距離検知範囲と、第2の焦点距離における距離検
    知範囲とからなる距離検知範囲において、間隔調整すべ
    き物体までの距離を検知することにより、第1の物体と
    第2の物体の間隔を調整することを特徴とする前記特許
    請求の範囲のうちのいずれか1項に記載の間隔調整装置
JP59224923A 1984-10-25 1984-10-25 間隔調整装置 Granted JPS61102036A (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59224923A JPS61102036A (ja) 1984-10-25 1984-10-25 間隔調整装置
FR8515821A FR2572515B1 (fr) 1984-10-25 1985-10-24 Dispositif de detection de position
DE3538062A DE3538062C2 (de) 1984-10-25 1985-10-25 Positionserfassungsgerät
GB08526374A GB2167262B (en) 1984-10-25 1985-10-25 A position detecting device
US07/218,447 US4830498A (en) 1984-10-25 1988-07-12 Position detecting device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59224923A JPS61102036A (ja) 1984-10-25 1984-10-25 間隔調整装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61102036A true JPS61102036A (ja) 1986-05-20
JPH0525169B2 JPH0525169B2 (ja) 1993-04-12

Family

ID=16821285

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59224923A Granted JPS61102036A (ja) 1984-10-25 1984-10-25 間隔調整装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61102036A (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0525169B2 (ja) 1993-04-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3181050B2 (ja) 投影露光方法およびその装置
EP0110937B1 (en) Apparatus for measuring the dimensions of cylindrical objects by means of a scanning laser beam
JPH0122977B2 (ja)
GB2259361A (en) Picture processing method in optical measuring apparatus
US4482803A (en) Optical sensor for focusing control
JPH0381082A (ja) レーザビーム径の制御方法とその装置
JPS61102036A (ja) 間隔調整装置
JPS6161178B2 (ja)
JPH1058175A (ja) レーザ加工装置の光軸の較正方法
US20190094701A1 (en) Exposure method and exposure device
JPS6372115A (ja) アライメント装置
JPH06117799A (ja) 赤外線撮像器の焦点調整及び光軸補正装置
JP2671784B2 (ja) 投影露光装置
JP2528790B2 (ja) 異なつた対象物平面における2つの対象物の光学的模写装置
JP2936635B2 (ja) 焦点調整撮像方式
JPS6135450A (ja) 投影露光方法及びその装置
KR100585454B1 (ko) 라인 촬상센서를 이용한 작업물의 정렬 시스템
JP2973017B2 (ja) 焦点検出装置
JPS6359159A (ja) 固体走査素子の位置調整方法及び位置調整装置
JPH04118194A (ja) レーザ光倣い装置
JPS6160288A (ja) レ−ザ加工装置
JP2001148337A (ja) 縮小投影露光装置
JPS6370105A (ja) マスク・ウエハ間隙設定方法
JPH05164860A (ja) Z−ティルトステージ装置
JPS62149128A (ja) 露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term