JP2528790B2 - 異なつた対象物平面における２つの対象物の光学的模写装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、少なくとも１つの対物レンズが調整駆動部
によつて対象物平面に対して相対的に調整可能であるよ
うな、異なつた対象物平面に配置された２つの対象物を
光センサ上に光学的に模写するための装置に関する。

半導体技術においては、マスクによつて微細なパター
ンが半導体ウエーハ上に転写されるが、その場合にはか
かる半導体ウエーハに対するマスクの高精度調節が要求
されている。それゆえたとえば、Ｘ線リソグラフイによ
つてサブミクロンの範囲でパターンを転写する場合に
は、0.1μｍ以下の精度にて半導体ウエーハに対してマ
スクを調節することが必要である。

〔従来の技術〕

特開昭54−152975号公報によれば、ホトレジストによ
つて被覆された半導体ウエーハとマスクとにそれぞれ設
けられた直交形調節パターン（たとえば、十字形もしく
は四角形など）をそれぞれ用いて、連続するマスクの調
節を行うことが公知である。半導体ウエーハの調節パタ
ーンは半導体ウエーハ表面の最初のパターン化工程にお
いてたとえばエツチングにより作られ、それゆえ、すべ
ての後続のパターン化工程においては当該マスク上に作
成される調節パターンはこの最初の調節パターンに揃え
ることができる。自動マスク調節を行うために、マスク
上の調節パターンと半導体ウエーハ上の調節パターンと
はそれらの縁に対して平行な方向に光センサによつて走
査され、電子光学的走査によつて作られた像信号の強度
は行ごとにまたは行の一部ごとに積分され、この結果得
られたアナログ的な積分値がデイジタル的な灰色等級に
変換されて記憶される。連続する行の灰色等級の差分算
出および結果得られた差分信号の評価によつて、調節パ
ターンの中心軸の位置を検出することができ、その後半
導体ウエーハおよびマスクは位置調節のために中心線の
検出偏差に応じて互いに移動および回動される。

適切な調節パターンのパターン識別および像処理を基
本とする公知のマスク調節装置においては、達成可能な
識別精度および調節精度はマスクと半導体ウエーハとの
間のプロキシミテイ間隔によつて制限される。顕微鏡的
模写を行う際に、たとえば焦点位置がマスク平面と半導
体ウエーハ平面との間に位置せしめられる場合には、か
かる両平面の調節パターンは光センサ上に不鮮明に模写
される。マスクと半導体ウエーハとの相対位置を測定す
るために、このように拡大された電子光学的縁信号を用
いて評価することは好ましくなく、すなわち位置識別の
精度が低下する。

光センサ上にマスクの調節パターンと半導体デイスク
の調節パターンとを光学的に模写するための公知の装置
においては、模写する光学系の光路の２つの異なつた光
路長によつてマスク平面または半導体ウエーハ平面が光
センサ上に鮮明に模写され得るようにした２平面光学系
が使用される。しかしながらマスクと半導体ウエーハと
の間のプロギシミテイ間隔の変動、半導体ウエーハ表面
の非平坦性、および半導体ウエーハ表面上のホトレジス
トの厚さの不均一性によつて、個々の対象物平面の縁部
の像の鮮明度が損なわれてしまうおそれがある。それに
対して像検出の際にマスクの調節パターンと半導体ウエ
ーハの調節パターンとが光センサ上に明白に鮮明に模写
される場合には、電子光学的灰色値の像処理が最良にな
る。

刊行物「シーメンス研究・開発報告書」（Siemens Fo
rshungs−und Entwicklungsberichte）第13巻（1984
年）第２号、第43頁〜第47頁においては、Ｘ線リソグラ
フイのために自動マスク調節を行う際にマスクとウエー
ハとの間のプロキシミテイ間隔が変動するという問題が
既に提起されている。この問題は、調節パターンを光学
的に模写するために、対物レンズアパーチヤに比較して
小さい照明アパーチヤを使用することによつて解決され
る。この解決方法によれば、対物レンズは圧電形調整駆
動部によつて、最初にマスクの調節パターンが光センサ
上に鮮明に模写され、次に半導体ウエーハの調節パター
ンが光センサ上に模写されるように調節される。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながらこの場合に、対物レンズをまつたくずれ
を生じないように調整することが極めて重要になつてく
る。

そこで本発明は、焦点調節を行うために少なくとも対
物レンズを調整駆動部によつて対象物平面に対してまつ
たくずれを生じることなくかつ非常に高い位置決め再現
性でもつて調整することができるような、異なつた対象
物平面に配置された２つの対象物を光センサ上に光学的
に模写するための装置を提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

この目的は本発明によれば、特許請求の範囲第１項に
記載された構成により達成される。

〔作 用〕

本発明は、対物レンズがこの対物レンズの強固に固定
されたケースセクションと共に調整される場合には、対
物レンズのまつたくずれない調整が要求された高い位置
決め再現性でもつて達成され得るという認識に基づいて
いる。その場合本発明においては、そのケースセクシヨ
ンの調整を可能にするために必要なばねカツプリングは
ケースの弾性的に変形可能な軟弱部によつて形成され
る、すなわち調整可能なケースセクシヨンは他の位置固
定のケースにかかるばねカツプリングを介して一体的に
結合されなければならないということが主要な前提とな
つている。このようにケースからばねカツプリングを一
体的に作り出すこと、つまりケースとばねカツプリング
とを一体成形することによつてのみ、すべてのばねカツ
プリングに同じ特性を保証することができる。

〔実施態様〕

本発明の特に優れた実施態様によれば、調整可能なケ
ースセクシヨンの両側には、対で配置された少なくとも
４つのばねカツプリングが備えられる。少なくとも４つ
のばねカツプリングをこのように対に配置することによ
つて、調整可能なケースセクシヨンの要求されたずれの
ない調整を特に簡単に実現することができる。

さらに、各ばねカツプリングが互いにある間隔を持つ
て配設された２つの軟弱部によつて形成され、その場合
に各軟弱部がケースの壁の対向する面に設けられた溝に
よつて形成されるようにすると特に有利である。最高精
度の溝をケースの壁に設けることによつて、ばねカツプ
リングのばね長および有効断面積には同じような高精度
を持たせることができ、このことにより調整可能なケー
スセクシヨンには力−変位特性の高い再現性を生ぜしめ
ることができる。かかる溝は特に半円形断面を有する
が、このような断面形状を有することによつて曲げ応力
が局部的に集中するのが回避される。

本発明の他の実施態様によれば、調整可能なケースセ
クシヨンとその他の位置固定のケースとの間には、２つ
のばねカツプリング間にそれぞれ延在する分離スリツト
が設けられる。このような分離スリツトを設けることに
より、特に簡単に調整可能なケースセクシヨンを移動さ
せることができる。

調整可能なケースセクシヨンに作用する調整駆動部は
特に位置固定のケースによつて支持される。調整駆動部
は調整可能なケースセクシヨン内に配置され、位置固定
のケースの調整可能なケースセクシヨン内に突入してい
るリブにより支持されるようにすることによつて、調整
駆動部を特に簡単に配置することができ、装置全体をコ
ンパクトに構成することができる。

調整可能なケースセクシヨンをサプミクロンの範囲で
調整するために、調整駆動部として圧電形調整駆動装置
を用いることは特に目的に適うことである。このような
圧電形調整駆動装置においては、たとえば1Vの調整電圧
によつて1/100μｍの調整が可能である。

本発明の他の特に優れた実施態様によれば、無限の焦
点距離を持つ対物レンズが備えられ、この対物レンズの
後には位置固定のケースによつて支持された鏡筒レンズ
が配置される。無限の焦点距離を持つ対物レンズを使用
することの利点は、対物レンズと鏡筒レンズとの間に平
行光が得られることである。特にその場合には、対物レ
ンズを調整しても装置の全長が変化しない。

最後に、自動マスク調節を行うために、２つの空間的
に離間されている視野内に在る対象物を２つの対物レン
ズによつて２つの光センサ上に模写可能にし、その場合
に調整駆動部が光軸間の中央で両対物レンズを支持する
調整可能なケースセクシヨンに作用するようにすること
は、特に好ましいことである。マスク調節は並進運動的
な位置移動および回転運動的な位置移動を必要とするの
で、互いにある間隔を持つて配置された２つの視野に分
割することは多大な利点をもたらす。さらに、調整駆動
部を対物レンズの光軸間に配置できるようにすると、装
置全体を特にコンパクトに構成することができる。

〔実施例〕

次に本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明す
る。

第１図は自動マスク調節装置の原理的機能ブロツク図
を示す。この第１図には、Ｘ線リソグラフイによつて微
細パターンがサブミクロン範囲に転写される半導体ウエ
ーハHsが図示されている。このパターン転写のために必
要なマスクＭは半導体ウエーハHsに対して0.1μｍ以下
の精度にて調節されなければならず、その場合にこの種
の精度調節はビジユアルではなく、自動的に行われる。
半導体ウエーハHsに対してマスクＭを相互に整列させる
ために、直交形調節パターンが備えられている。この調
節パターンはマスクＭに２カ所、および半導体ウエーハ
Hsに２ケ所それぞれ設けられており、図示の例では十字
（以下、調節十字と称す）の形に形成されている。半導
体ウエーハHs上に設けられた調節十字はJkS1およびJkS2
にて示され、一方マスクＭ上のそれに対応する調節十字
はJkM1およびJkS2にて示されている。マスクの損傷を回
避するために、半導体ウエーハHsとマスクＭとの間には
所定の間隔が置かれている。すなわち調節十字JkS1,JkS
2は第１の対象物平面Oe1に配置され、一方調節十字JkM
1,JkM2は第２の対象物平面Oe2に配置されている。プロ
キシミテイ間隔Paとして示されている対象物平面Oe1とO
e2との間の間隔は変動するかも知れず、その場合にこの
変動はたとえば30μｍ〜50μｍの大きさである。

調節十字JkS1,JkM1はその縁に対して平行な方向に光
センサによつて走査される。この光センサは図示の例で
は90゜の電子的像回転を持つTVカメラTVK1として形成さ
れている。光−電気変換を有する電子光学的走査によつ
て作られた像信号Bs1はTVモニタTVM1に供給されると共
に、像処理装置Bvに供給される。

TVカメラTVK1上に調節十字JkS1,JkM1を光学的に模写
することは、無限の焦点距離を有する対物レンズOb1
と、鏡筒レンズTl1と、接眼レンズOk1と、転向ミラーと
して図示された転向装置Ue1とを介して行われる。その
場合に、それらの光学的構成要素は光路に順々に配置さ
れる。

調節十字JkS2,JkM2ほその縁に対して平行な方向に光
センサによつて走査される。この光センサは図示の例で
は90゜の電子的像回転を持つTVカメラTVK2として形成さ
れている。電子光学的走査によつて作られた像信号Bs2
はTVモニタTVM2に供給されると共に、上述した像処理装
置Bvに供給される。

TVカメラTVK2上に調節十字JkS2,JkM2を光学的に模写
することは、無限の焦点距離を有する対物レンズOb2
と、鏡筒レンズTl2と、接眼レンズOk2と、転向ミラーと
して図示された転向装置Ue2とを介して行われる。その
場合に、それらの光学的構成要素は光路に順々に配置さ
れる。

光−電気変換を有する電子光学的走査によつて作られ
た像信号Bs1,Bs2の強度は像処理装置Bvにおいて行また
は行の一部分ごとに積分され、その結果得られたアナロ
グ的な積分値はデイジタル的な灰色等級に変換されて記
憶される。連続する行の灰色等級の差分算出およびその
結果得られた差分信号の評価によつて、位置識別装置Le
において調節十字JkS1,JkM1およびJkS2,JkM2の中心軸の
位置が識別され、その後半導体ウエーハHsおよびマスク
Ｍは中心線の検知された偏差に応じて互いに移動および
回動される。このために、位置識別装置Leによつて位置
信号として形成された調節量Δx,Δy,Δが概略的に示
された圧電形調整装置Pvに供給され、この調整装置Pvが
矢印ｘおよびｙに応じて互いに垂直な２つの方向への移
動を生ぜしめ、矢印に応じて回動を生ぜしめる。矢印
Pfは圧電形調整装置Pvの個々の圧電形調整駆動部がたと
えば1000Vの高電圧によつて駆動されることを示す。

適切な調節パターンのパターン識別および像処理を基
本とする上述の自動マスク調節装置の他の細部は、特開
昭54−152975号公報および刊行物「シーメンス研究・開
発報告書」（Siemens Forschungs−und Entwicklungsbe
richte）第13巻（1984年）第２号、第43頁〜第47頁記載
のマスク調節装置を基本としている。

公知のマスク調節装置においては、像検出の際に補助
的な措置を施すことによつて、マスクＭの調節パターン
および半導体ウエーハHsの調節パターンがTVカメラTVK
1,TVK2上に明白に鮮明に模写されない限り、達成可能な
識別精度および調節精度はマスクＭと半導体ウエーハHs
との間のプロキシミテイ間隔Paによつて制限される。マ
スクＭの調節パターンおよび半導体ウエーハHsの調節パ
ターンをTVカメラTVK1,TVK2上に明白に鮮明に模写させ
ることは、マスクＭおよび半導体ウエーハHsの像の連続
的な焦点調節によつて達成される。このために、空間的
に離間している２つの視野内に在るマスクＭと半導体ウ
エーハHsとのそれぞれの調節パターンの連続的な焦点調
節を行うための対物レンズOb1,Ob2用に、圧電制御され
るずれのない調整装置が設けられる。その場合に、対物
レンズOb1,Ob2の調整移動は矢印Pf1,Pf2にて概略的に示
されているように第１図の対象物平面Oe1,Oe2に対して
相対的に行われる。マスクＭと半導体ウエーハHsとの積
分された縁信号をソフトウエア的に評価することによつ
て、自動焦点調節が実現される。焦点面は縁部での局部
的な相関関数の最大値から得られる。特にその場合、対
物レンズの調整用に設けられている調整駆動部は、マス
クＭおよび半導体ウエーハHsの最良の焦点面に自動的に
調節することができる。

第２図には光センサ上にマスクおよび半導体ウエーハ
の調節パターンを光学的に模写するための装置の正面図
が示され、第３図にはその装置の平面図が示されてい
る。これらの図に示された装置の構成は、無視し得る程
度に若干変形されているが、第１図に示された原理的な
機能態様を基本としている。

全体をＧで示された、装置の位置固定されているケー
スは、対称平面Seに対して鏡面対称に形成されており、
その場合にこの対称性によつて、空間的に離間された２
つの視野内に分割することが考慮される。ケースＧの水
平に配置されている上部壁W1はこの上部壁W1に対して平
行に配置されている下部壁W2と垂直な横梁Qs1,Qs2によ
つて結合されている。なお、その両横梁Qs1,Qs2は対称
平面Seから等距離のところに位置せしめられている。こ
れらの横梁Qs1,Qs2の間には全体をGaで示された調整可
能なケースセクシヨンが延在しており、このケースセク
シヨンGaは両側に設けられた４つの対のばねカツプリン
グFgによつて他の位置固定されたケースＧと結合されて
いる。この調整可能なケースセクシヨンGaを他の位置固
定されたケースＧに対して調整することは、上部壁W1お
よび下部壁W2とにそれぞれ設けられかつそれらの壁のば
ねカツプリングFg間に延在している２個の分離スリツト
Tsによつて可能である。４つのばねカツプリングFgの各
々は互いにある間隔を持つて設けられた２つの軟弱部に
よつて形成され、その場合に各軟弱部はケースＧの上部
壁W1および下部壁W2の互いに対向する面に設けられた２
個の半円形断面の溝Ｎによつて形成されている。このよ
うにして、調整可能なケースセクシヨンGaは他の位置固
定されたケースＧに４つのばねカツプリングFgによつて
一体的に結合される。第３図から明らかなように、調整
可能なケースセクシヨンGaはケースＧの深さ方向の一部
分に挿置されているのに過ぎない。さらに、上部壁W1と
下部壁W2との間の調整可能なケースセクシヨンGaの領域
には強固に形成された補強梁Vs1,Vs2が延在している。
これらの補強梁Vs1,Vs2は同様に対称平面Seから等距離
のところに位置せしめられている。

調整可能なケースセクシヨンGaの下面には、断面が台
形をして内部が中空であるケース突出部Gfが形成されて
おり、このケース突出部Gfはその下面で対称平面Seから
等距離にある２つの対物レンズ鏡筒Obt1,Obt2を支持し
ている。対物レンズ鏡筒Obt1内には第１図に示された対
物レンズOb1または相応するレンズ系が収納され、一方
対物レンズ鏡筒Obt2内には第１図に示された対物レンズ
Ob2または相応するレンズ系が収納されている。第１図
に示された鏡筒レンズTl1,Tl2は共通の鏡筒レンズホル
ダTH内に配置されている。この鏡筒レンズホルダTHはケ
ース突出部Gfの中空室内に突入し、他の位置固定された
ケースＧの同一に形成されかつ分離スリツトTsによつて
分離されたケース突出部内に固着されている。

第１図に示された原理的な機能態様とは異なり、第２
図に示された装置の構成においては、転向装置Ue1,Ue2
は、接眼レンズOk1,Ok2とTVカメラTVK1,TVK2との間にそ
れぞれ配置されるのではなく、鏡筒レンズTl1,Tl2と接
眼レンズOk1,Ok2との間にそれぞれ配置されている。こ
の例ではプリズムとして形成されて位置固定のケースＧ
内に固着された転向装置TU1,Ue2は、補強梁Vs1,Vs2間の
領域において調整可能なケースセクシヨンGa内に突入し
ている。両視野に関連して垂直に延びる光軸oA1,oA2は
転向装置Ue1,Ue2によつてそれぞれ水平方向に方向転換
させられる。転向装置Ue1,Ue2の後には第１図の接眼レ
ンズOk1,Ok2に対応する接眼レンズまたはレンズ系が配
置されて接眼レンズ鏡筒Okt1,Okt2内に保持されてい
る。その場合、接眼レンズ鏡筒Okt1は横梁Qs1と補強梁V
s1との間に配置されて位置固定のケースＧに固着された
接眼レンズ鏡筒ホルダOH1内に固定されており、一方接
眼レンズ鏡筒Okt2は同様にして横梁Qs2と補強梁Vs2との
間に配置されて位置固定のケースＧに固着された接眼レ
ンズ鏡筒ホルダOH2内に固定されている。光軸oA1,oA2の
水平光路においては、横梁Qs1,Qs2の後にTVカメラTVK1,
TVK2が配置されている。これらのTVカメラTVK1,TVK2は
位置固定のケースＧに固定結合されているが、しかしな
がら光軸oA1,oA2に関しては調節可能に結合されてい
る。

光軸oA1,oA2の垂直方向に在る対物レンズOb1,Ob2（第
１図参照）をそれぞれ最良の焦点面にずれなく調整する
ことは、圧電形調整駆動部として形成された調整駆動部
Saによつて行われる。この調整駆動部Saは調整可能なケ
ースセクシヨンGaに作用し、位置固定のケースＧによつ
て支持されている。出来る限りコンパクトな構成を得る
ために、調整駆動部Saは調整可能なケースセクシヨンGa
内では転向装置Ue1,Ue2間に精確に配置され、そして他
の位置固定のケースＧの調整可能なケースセクシヨンGa
内に突入して非常に堅く形成されたリブＲによつて支持
されている。その場合調整駆動部Saはたとえばリブ内に
ねじ止め固定され、一方その可動の調整素子Sgは調整可
能なケースセクシヨンGaの下部壁W2に作用し、そして調
整可能なケースセクシヨンGaのずれのない弾性変位、従
つて同様に対物レンズ鏡筒Obt1,Obt2のずれのない弾性
変位を生ぜしめることができる。

図面を簡略化するために、第１図，第２図および第３
図においては照明装置は簡略されている。半導体ウエー
ハHsおよびマスクＭ（第１図参照）の照明は顕微鏡照明
方式、特に対象物が平行光によつて照明されるケーラー
（Ｋhler）照明法に基づいて行われる。装置内への光
の取入れは、装置内部に熱発生およびそれに応じた熱的
遅延が生じるのを回避するために、光導体によつて行わ
れる。

調整可能なケースセクシヨンGaによつて第２図および
第３図に示した如く対物レンズOb1,Ob2（第１図参照）
を調整する場合には、95％の統計的確実性にて、位置決
め再現性±0.01μｍを持つまつたく遊びのない調整が可
能である。さらに図示された装置においては、0.01μｍ
または±1sという最も低い測定不確実性でもつてマスク
Ｍと半導体ウエーハHsとの相対位置を測定することがで
きる。

第２図および第３図に示された装置においては、調整
可能なケースセクシヨンGaによつて対物レンズOb1,Ob2
（第１図参照）だけが調整される。しかしながら調整可
能なケースセクシヨンGaによつて、TVカメラTVK1,TVK2
を含めた装置の全光学的構成要素を調整するようにする
こともできる。この場合には、対物レンズOb1,Ob2（第
１図参照）の移動方向は光軸oA1,oA2と厳密に平行であ
る必要はないので、装置全体の調節は簡単である。

〔発明の効果〕

以上に説明したように、本発明においては、調整駆動
部Saは、対象物平面Oe1,Oe2に対して相対的に調整可能
でありかつ少なくとも対物レンズOb1,Ob2を支持するケ
ースセクシヨンGaに作用し、その調整可能なケースセク
シヨンGaはその他の位置固定のケースＧに、このケース
Ｇの弾性的に変形可能な軟弱部により形成されたばねカ
ツプリングFgによつて結合される。

従つてこのような本発明によれば、焦点調節（フオー
カシング）を行うために、少なくとも対物レンズを調整
駆動によつて対象物平面に対してまつたくずれなく（つ
まり遊びなく）かつ非常に高い位置決め再現性でもつて
調整することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は自動マスク調節装置の原理的機能ブロツク図、
第２図は光センサ上にマスクおよび半導体の調節パター
ンを光学的に模写するための装置の正面図、第３図はそ
の装置の平面図である。 Ｍ……マスク、Hs……半導体ウエーハ、Ｇ……ケース、
Ga……ケースセクシヨン、Oe1,Oe2……対象物平面、Sa
……調整駆動部、Fg……ばねカツプリング、W1……上部
壁、W2……下部壁、Ｎ……溝、Ts……分離スリツト、Tl
1,Tl2……鏡筒レンズ、Ob1,Ob2……対物レンズ。

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】少なくとも１つの対物レンズが調整駆動部
   によって対象物平面に対して相対的に調整可能であるよ
   うな、異なった対象物平面に配置された２つの対象物を
   光センサ上に光学的に模写するための装置において、 調整駆動部（Sa）は、対象物平面（Oe1、Oe2）に対して
   相対的に調整可能でありかつ少なくとも前記対物レンズ
   （Ob1、Ob2）を支持するケースセクション（Ga）に作用
   し、 その調整可能なケースセクション（Ga）は他の位置固定
   のケース（Ｇ）に、このケース（Ｇ）の弾性的に変形可
   能な軟弱部により形成されたばねカップリング（Fg）に
   よって結合され、 ２つの空間的に離間されている視野内にある対象物は２
   つの対物レンズ（Ob1、Ob2）によって２つの光センサ上
   に模写可能であり、その場合に調整駆動部（Sa）は光軸
   間の中央で、前記両対物レンズ（Ob1、Ob2）を支持する
   調整可能なケースセクション（Ga）に作用する、 ことを特徴とする異なった対象物平面における２つの対
   象物の光学的模写装置。
2. 【請求項２】調整可能なケースセクション（Ga）の両側
   に対で配置された少なくとも４つのばねカップリング
   （Fg）が備えられていることを特徴とする特許請求の範
   囲第１項記載の装置。
3. 【請求項３】各ばねカップリング（Fg）は互いにある間
   隔を持って配設された２つの軟弱部によって形成され、
   各軟弱部は前記ケース（Ｇ）の壁の対向する面に設けら
   れた溝（Ｎ）によって形成されていることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項または第２項記載の装置。
4. 【請求項４】溝（Ｎ）は半円形状断面を有することを特
   徴とする特許請求の範囲第３項記載の装置。
5. 【請求項５】調整可能なケースセクション（Ga）と位置
   固定のケース（Ｇ）との間には、２つのばねカップリン
   グ間にそれぞれ延在する分離スリット（Ts）が設けられ
   ていることを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第
   ４項のいずれか１項に記載の装置。
6. 【請求項６】調整可能なケースセクション（Ga）に作用
   する前記調整駆動部（Sa）は前記他の位置固定のケース
   （Ｇ）によって支持されていることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項ないし第５項のいずれか１項に記載の装
   置。
7. 【請求項７】調整駆動部（Sa）は調整可能なケースセク
   ション（Ga）内に配置され、位置固定のケース（Ｇ）の
   調整可能なケースセクション（Ga）内に突入しているリ
   ブ（Ｒ）によって支持されていることを特徴とする特許
   請求の範囲第６項記載の装置。
8. 【請求項８】調整駆動部（Sa）として圧電形調整駆動装
   置が備えられていることを特徴とする特許請求の範囲第
   １項ないし第７項のいずれか１項に記載の装置。
9. 【請求項９】無限の焦点距離を持つ対物レンズ（Ob1、O
   b2）が備えられ、この対物レンズの後には位置固定のケ
   ース（Ｇ）によって支持された鏡筒レンズ（T11、T12）
   が配置されていることを特徴とする特許請求の範囲第１
   項ないし第８項のいずれか１項に記載の装置。